JPS60211015A - カムの再溶融硬化処理方法 - Google Patents
カムの再溶融硬化処理方法Info
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- JPS60211015A JPS60211015A JP59067264A JP6726484A JPS60211015A JP S60211015 A JPS60211015 A JP S60211015A JP 59067264 A JP59067264 A JP 59067264A JP 6726484 A JP6726484 A JP 6726484A JP S60211015 A JPS60211015 A JP S60211015A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/30—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for crankshafts; for camshafts
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は内燃機関のカムシャフトの如きカムの再溶融化
処理方法に関する。
処理方法に関する。
（背景技術）
内燃機関のカムシャフトのカム面の表面硬化処理として
再溶融化処理、所謂リメルト処理を施し、カム面にチル
層を形成することが行われ、従来では、カム全周にリメ
ルト処理を施していた。
再溶融化処理、所謂リメルト処理を施し、カム面にチル
層を形成することが行われ、従来では、カム全周にリメ
ルト処理を施していた。
ところで、第６図の如くカムシャフト（６１）のカム（
６２）はベース円（６３）から膨出するカム部（６０を
備え、カム部（８０はベース円（８３）と連続する曲率
半径の大きいカム立ち上がり部（８５）、（８５）の先
部間に曲率半径の小さいカム頂部（８Ｂ）を備える。
６２）はベース円（６３）から膨出するカム部（６０を
備え、カム部（８０はベース円（８３）と連続する曲率
半径の大きいカム立ち上がり部（８５）、（８５）の先
部間に曲率半径の小さいカム頂部（８Ｂ）を備える。
斯かるカム（６２）と相手側のロッカーアーム等の摺動
面との荷重面圧分布は図に示す特性曲線（イ）の如くで
、カム立ち上がり部（Ｂ５）の基端部（８５ａ）寄りで
若干高く、それ以降は低く、更にカム頂部（８Ｂ）で最
大となり、一方、略半円を成すベース円（６３）はバル
ブリフトに関与しない、従って実用上、表面硬化のため
のチル層を形成する必要十分な範囲はカム立ち上がり部
（８５） 、 （８５）とカム頂部（８６）である。
面との荷重面圧分布は図に示す特性曲線（イ）の如くで
、カム立ち上がり部（Ｂ５）の基端部（８５ａ）寄りで
若干高く、それ以降は低く、更にカム頂部（８Ｂ）で最
大となり、一方、略半円を成すベース円（６３）はバル
ブリフトに関与しない、従って実用上、表面硬化のため
のチル層を形成する必要十分な範囲はカム立ち上がり部
（８５） 、 （８５）とカム頂部（８６）である。
そこで、ベース円（６３）を除き、カム部（６４）の表
面のみをリメルト処理すれば良い訳であるが、最も面圧
の高いカム頂部（６８）に合せてその硬度を設定し、カ
ム（６２）を定回転させてカム立ち上がり部（８５）、
（１（５）全面に同硬度のチル層を形成することは、実
用上十分な硬度以上のチル層をカム立ち上がり部全面に
形成することとなり、リメルト処理時間が長く、また加
工コストの面からも改善が望まれる。
面のみをリメルト処理すれば良い訳であるが、最も面圧
の高いカム頂部（６８）に合せてその硬度を設定し、カ
ム（６２）を定回転させてカム立ち上がり部（８５）、
（１（５）全面に同硬度のチル層を形成することは、実
用上十分な硬度以上のチル層をカム立ち上がり部全面に
形成することとなり、リメルト処理時間が長く、また加
工コストの面からも改善が望まれる。
（発明の目的）
本発明の目的は、カムのベース円を除き、カム立ち上が
り部とカム頂部の表面のみをリメルト処理する方法にお
いて、カム頂部に対して必要硬度が低くても足りるカム
立ち上がり部全面にリメルト処理を施すのを廃し、カム
頂部に比べてカム立ち上がり部でのリメルト処理に要す
る時間を短縮化し、量産効率を高め、加工コストを低減
するようにしたカムの再溶融化処理方法を提供するにあ
る。
り部とカム頂部の表面のみをリメルト処理する方法にお
いて、カム頂部に対して必要硬度が低くても足りるカム
立ち上がり部全面にリメルト処理を施すのを廃し、カム
頂部に比べてカム立ち上がり部でのリメルト処理に要す
る時間を短縮化し、量産効率を高め、加工コストを低減
するようにしたカムの再溶融化処理方法を提供するにあ
る。
（発明の構成）
前記目的を達成すべく本発明は、カム頂部表面の全面に
密なるリメルト処理軌跡を施し、カム立ち上がり部表面
にはカムの相対回転速度を速くして当該カム立ち上がり
部表面に対して粗なるリメルト処理軌跡を、またはカム
巾に対する処理巾を狭くして当該カム立ち上がり部表面
に対して中挟なるリメルト処理軌跡を施すことを特徴と
する。
密なるリメルト処理軌跡を施し、カム立ち上がり部表面
にはカムの相対回転速度を速くして当該カム立ち上がり
部表面に対して粗なるリメルト処理軌跡を、またはカム
巾に対する処理巾を狭くして当該カム立ち上がり部表面
に対して中挟なるリメルト処理軌跡を施すことを特徴と
する。
（実施例）
以下に本発明の好適一実施例を添付図面を基に詳述する
。
。
第１図は本発明を適用したカムシャフト（１）のカム（
２）の説明的正面図で、カム（２）はベース円（３）の
−半部から膨出するカム部（４）を備え、カム部（０は
ベース円（３）と連続する曲率半径の大きいカム立ち上
がり！（５）、（５）の先部間に曲率半径の小さいカム
頂部（８）を備える。
２）の説明的正面図で、カム（２）はベース円（３）の
−半部から膨出するカム部（４）を備え、カム部（０は
ベース円（３）と連続する曲率半径の大きいカム立ち上
がり！（５）、（５）の先部間に曲率半径の小さいカム
頂部（８）を備える。
斯かるカムプロフィルを成すカム（２）において、第６
図にも示したように使用時における面圧の高いカム部（
４）の表面のみを、カム旋削、カムフライス、カム研削
加工等により粗削し、このカム部（４）表面の粗削面（
７）にリメルト処理を施す。
図にも示したように使用時における面圧の高いカム部（
４）の表面のみを、カム旋削、カムフライス、カム研削
加工等により粗削し、このカム部（４）表面の粗削面（
７）にリメルト処理を施す。
リメルト処理は、具体的には第２図乃至第４図に示す如
くで、カムシャフト（１）の軸端部をチャック（２り及
びセンタ（２２）で支持し、モータ（２３）でカムシャ
フト（１）を回転させ、カムシャフト（Ｉ）上の−のカ
ム（２）上方にプラズマトーチ（２４）のノズル（２５
）をクリアランスを保持して臨ませる。ノズル（２５）
は第４図の如く中空のシールドキャップ（２Ｂ）内にチ
ップ（２７）を配設し、キャップとチップ間に不活性ガ
ス等のシールドガス通路（２８）を、チップ（２７）中
心にアルゴンガス等の作動ガス通路（２９）を備え、通
路（２８）内にタングステン等の電極（３１）を設け、
金属粉未導入管（３２）、（３２）を通路（２９）軸線
の延長線と交叉する如く設ける。
くで、カムシャフト（１）の軸端部をチャック（２り及
びセンタ（２２）で支持し、モータ（２３）でカムシャ
フト（１）を回転させ、カムシャフト（Ｉ）上の−のカ
ム（２）上方にプラズマトーチ（２４）のノズル（２５
）をクリアランスを保持して臨ませる。ノズル（２５）
は第４図の如く中空のシールドキャップ（２Ｂ）内にチ
ップ（２７）を配設し、キャップとチップ間に不活性ガ
ス等のシールドガス通路（２８）を、チップ（２７）中
心にアルゴンガス等の作動ガス通路（２９）を備え、通
路（２８）内にタングステン等の電極（３１）を設け、
金属粉未導入管（３２）、（３２）を通路（２９）軸線
の延長線と交叉する如く設ける。
トーチ（２４）ｔ＊基枠（３５）に上下動自在に設けた
ホルダ（３８）に支持され、基枠（３５）は送りネジ（
３７）を介してモータ（３８）により移動可能であり、
カムシャフト（１）上の各カム（２）・・・毎に基枠（
３５）を往復動させ、カムシャフト（１）の回転と併せ
て第４図の如き蛇行した処理軌跡（ａ）をカム部（０の
粗削面（７）に形成する。
ホルダ（３８）に支持され、基枠（３５）は送りネジ（
３７）を介してモータ（３８）により移動可能であり、
カムシャフト（１）上の各カム（２）・・・毎に基枠（
３５）を往復動させ、カムシャフト（１）の回転と併せ
て第４図の如き蛇行した処理軌跡（ａ）をカム部（０の
粗削面（７）に形成する。
尚、第３図中（４１）は制御装置、（４２）は電源、（
４３）は金属粉末供給装置、（４０は振動装置、（４５
）は弁である。
４３）は金属粉末供給装置、（４０は振動装置、（４５
）は弁である。
斯くしてカム部（４）の粗削面（７）をプラズマアーク
にてリメルト処理し、実施例では、カム立ち上がり部（
５）、（５）表面には弁（４５）を閉じて合金粉末の供
給を停止し、プラズマアークのみにてチル層（８）、（
１１）を形成し、カム頂部（６）表面では弁（４５）を
開いて第３図の如くプラズマアーク中に合金粉末を供給
し、より高硬度の合金チル層（８）を形成する。これに
より第１図の如くカム立ち上がり部（５）、（５）のゾ
ーン（Ａ）、（Ｃ）よりもカム頂部（６）のゾーン（Ｂ
）の硬度を高くし、第６図の面圧分布に応じた最適なる
表面硬度を具備したカム（２）を得る。
にてリメルト処理し、実施例では、カム立ち上がり部（
５）、（５）表面には弁（４５）を閉じて合金粉末の供
給を停止し、プラズマアークのみにてチル層（８）、（
１１）を形成し、カム頂部（６）表面では弁（４５）を
開いて第３図の如くプラズマアーク中に合金粉末を供給
し、より高硬度の合金チル層（８）を形成する。これに
より第１図の如くカム立ち上がり部（５）、（５）のゾ
ーン（Ａ）、（Ｃ）よりもカム頂部（６）のゾーン（Ｂ
）の硬度を高くし、第６図の面圧分布に応じた最適なる
表面硬度を具備したカム（２）を得る。
以上において、本発明では、カム頂部（８）を除くゾー
ン（Ａ）、（Ｃ） 、即ちカム立ち上がり部（５）。
ン（Ａ）、（Ｃ） 、即ちカム立ち上がり部（５）。
（５）のリメルト処理時に、カム頂部（６）のゾーン（
Ｂ）よりもカムシャフト（１）の回転速度を速くする。
Ｂ）よりもカムシャフト（１）の回転速度を速くする。
これによりゾーン（Ａ）、（１１：）における前記蛇行
処理軌跡（ａ）のカム周方向の間隔が開き、第５図（ａ
）に示すようにカム周方向に処理を施さない部分（５１
）、（５１）を残して蛇行するチル層（８１）を形成す
る。ここで、一方のカム立ち上がり部（５）の基端部（
５ａ）でのカムシャフト回転速度が最も高く、カム頂部
（６）に達するに従って徐々に回転速度を落とすことに
より図示の如く蛇行するチル層（８１）を得、カム頂部
（６）では低い回転速度でその表面に密に処理軌跡を施
して全面に合金チル層（８）を形成し、他方のカム立ち
上がり部（５）では再び徐々に回転速度を上げて同様の
蛇行するチル層（８１）を得る。
処理軌跡（ａ）のカム周方向の間隔が開き、第５図（ａ
）に示すようにカム周方向に処理を施さない部分（５１
）、（５１）を残して蛇行するチル層（８１）を形成す
る。ここで、一方のカム立ち上がり部（５）の基端部（
５ａ）でのカムシャフト回転速度が最も高く、カム頂部
（６）に達するに従って徐々に回転速度を落とすことに
より図示の如く蛇行するチル層（８１）を得、カム頂部
（６）では低い回転速度でその表面に密に処理軌跡を施
して全面に合金チル層（８）を形成し、他方のカム立ち
上がり部（５）では再び徐々に回転速度を上げて同様の
蛇行するチル層（８１）を得る。
また前記と同様のカムシャフト回転速度制御を行いつつ
、ゾーン（Ａ）、（Ｃ）では前記基枠（３５）の往復中
を狭くし、カム巾に対する前記蛇行処理軌跡（ａ）の巾
を狭くする。これにより第５図（ｂ）に示すようにゾー
ン（Ａ） 、 （Ｃ）のカム面の両側に処理を施さない
部分（５２） 、（５２）を残して中央部にチル層（８
２）を形成する。ここで、一方のカム立ち上がり部（５
）の基端部（５ａ）での処理巾を最小とし、カム頂部（
６）に達するに従って徐々に処理巾を広くし、他方のカ
ム立ち上がり部（５）では逆にし、斯くして両カム立ち
上がり部（５）、（５）に図示の如く基端部（５ａ）、
（５ａ）に向かって先細り形状のチル層（８２）、（８
２）を得る。
、ゾーン（Ａ）、（Ｃ）では前記基枠（３５）の往復中
を狭くし、カム巾に対する前記蛇行処理軌跡（ａ）の巾
を狭くする。これにより第５図（ｂ）に示すようにゾー
ン（Ａ） 、 （Ｃ）のカム面の両側に処理を施さない
部分（５２） 、（５２）を残して中央部にチル層（８
２）を形成する。ここで、一方のカム立ち上がり部（５
）の基端部（５ａ）での処理巾を最小とし、カム頂部（
６）に達するに従って徐々に処理巾を広くし、他方のカ
ム立ち上がり部（５）では逆にし、斯くして両カム立ち
上がり部（５）、（５）に図示の如く基端部（５ａ）、
（５ａ）に向かって先細り形状のチル層（８２）、（８
２）を得る。
尚、この場合、カムシャフト回転速度を速くしなくても
、カム巾に対する蛇行処理軌跡（ａ）を狭くするので、
処理時間を短縮できる。
、カム巾に対する蛇行処理軌跡（ａ）を狭くするので、
処理時間を短縮できる。
ところで、カムシャフト（１）を回転させずにトーチ（
２４）をカム周に沿って送るようにしても良い、またカ
ム立ち上がり部（５）、（５）にも合金添加リメルト処
理を施して合金チル層を形成しても良い。
２４）をカム周に沿って送るようにしても良い、またカ
ム立ち上がり部（５）、（５）にも合金添加リメルト処
理を施して合金チル層を形成しても良い。
（発明の効果）
以上のように本発明によれば、カム頂部はどの高硬度を
必要としないカム立ち上がり部表面に、特にカムの相対
回転速度を速くして当該カム立ち上がり部表面に対して
粗なるリメルト処理軌跡を、またはカム巾に対して中挟
なるリメルト処理軌跡を施すようにしたため、リメルト
処理時間を短縮化して量産効率を高めることができ、ま
たリメルト処理に要する電気エネルギーも減少できるの
で、エネルギー経済上も有利であり、上記時間経済上の
利点と併せ加工コストの低減に資する処理である等、実
用性に富む。
必要としないカム立ち上がり部表面に、特にカムの相対
回転速度を速くして当該カム立ち上がり部表面に対して
粗なるリメルト処理軌跡を、またはカム巾に対して中挟
なるリメルト処理軌跡を施すようにしたため、リメルト
処理時間を短縮化して量産効率を高めることができ、ま
たリメルト処理に要する電気エネルギーも減少できるの
で、エネルギー経済上も有利であり、上記時間経済上の
利点と併せ加工コストの低減に資する処理である等、実
用性に富む。
第１図はカムの説明的正面図、第２図は再溶融化処理装
置の概略図、第３図はプラズマトーチノズルの縦断面図
、第４図はその基本的処理軌跡を示す斜視図、第５図（
ａ）及び（ｂ）は本発明を適用したカムの要部を夫々示
す各斜視図、第６図はカムの面圧分布の説明図である。 尚、図面中（２）はカム、（０はカム部、（５）。 （５）はカム立ち上がり部、（６）はカム頂部、（８）
はカム頂部のチル層、（８１）、（８２）はカム立ち上
がり部のチル層である。 特許出願人 本田技研工業株式会社 代理人 弁理士 下 １） 容一部 間 弁理士 大 橋 邦 部 同 弁理士 小 山 有 手続補正書（［１釦 昭和６０年６月１９日 特許庁長官 志賀 学 殿 特願昭５９−０６７２６４号 ２、発明の名称 カムの再溶融化処理方法 事件との関係 特許出願人 （５３２） 本田技研工業株式会社 ４、代理人 東京都港区麻布台２丁目４番５号 〒ｉｏｅメソニック３９森ビル２階 の詳細な説明の欄 ７、補正の内容 （１、発明の名称を「カムの再溶融硬化処理方法」と訂
正する。 （２、特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （３、発明の詳細な説明の欄を以下の通り訂正する。 第２頁第４行目、同真第７行目、第４頁第２行目、第９
頁第１４行目乃至第１５行目に「再溶融化処理」とある
を「再溶融硬化処理」に訂正する。 別紙 「２、特許請求の範囲 ベース円と、該ベース円に連続するカム立ち上がり部と
、該カム立ち上がり部に連続するカム頂部とから成るカ
ムの前記カム立ち上がり部とカム頂部の表面のみに再溶
融硬化処理を施してチル層を形成する表面硬化処理方法
において、前記カム頂部表面の全面に密なる処理軌跡を
施し、前記カム立ち上がり部表面には下記（イ）、（ロ
）の少なくとも一方により前記カム頂部表面と連続する
部分的な再溶融硬化処理面を形成するようにしたことを
特徴とするカムの再溶融硬化処理方法。 （イ）前記カム立ち上がり部ではカムの相対回転速度を
速くして当該立ち上がり部表面に対して粗なる処理軌跡
を施す、 （ロ）前記カム立ち上がり部ではカム巾に対する処理中
を狭くして当該立ち上がり部表面に対して中挟なる処理
軌跡を施す、」
置の概略図、第３図はプラズマトーチノズルの縦断面図
、第４図はその基本的処理軌跡を示す斜視図、第５図（
ａ）及び（ｂ）は本発明を適用したカムの要部を夫々示
す各斜視図、第６図はカムの面圧分布の説明図である。 尚、図面中（２）はカム、（０はカム部、（５）。 （５）はカム立ち上がり部、（６）はカム頂部、（８）
はカム頂部のチル層、（８１）、（８２）はカム立ち上
がり部のチル層である。 特許出願人 本田技研工業株式会社 代理人 弁理士 下 １） 容一部 間 弁理士 大 橋 邦 部 同 弁理士 小 山 有 手続補正書（［１釦 昭和６０年６月１９日 特許庁長官 志賀 学 殿 特願昭５９−０６７２６４号 ２、発明の名称 カムの再溶融化処理方法 事件との関係 特許出願人 （５３２） 本田技研工業株式会社 ４、代理人 東京都港区麻布台２丁目４番５号 〒ｉｏｅメソニック３９森ビル２階 の詳細な説明の欄 ７、補正の内容 （１、発明の名称を「カムの再溶融硬化処理方法」と訂
正する。 （２、特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （３、発明の詳細な説明の欄を以下の通り訂正する。 第２頁第４行目、同真第７行目、第４頁第２行目、第９
頁第１４行目乃至第１５行目に「再溶融化処理」とある
を「再溶融硬化処理」に訂正する。 別紙 「２、特許請求の範囲 ベース円と、該ベース円に連続するカム立ち上がり部と
、該カム立ち上がり部に連続するカム頂部とから成るカ
ムの前記カム立ち上がり部とカム頂部の表面のみに再溶
融硬化処理を施してチル層を形成する表面硬化処理方法
において、前記カム頂部表面の全面に密なる処理軌跡を
施し、前記カム立ち上がり部表面には下記（イ）、（ロ
）の少なくとも一方により前記カム頂部表面と連続する
部分的な再溶融硬化処理面を形成するようにしたことを
特徴とするカムの再溶融硬化処理方法。 （イ）前記カム立ち上がり部ではカムの相対回転速度を
速くして当該立ち上がり部表面に対して粗なる処理軌跡
を施す、 （ロ）前記カム立ち上がり部ではカム巾に対する処理中
を狭くして当該立ち上がり部表面に対して中挟なる処理
軌跡を施す、」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ベース円と、該ベース円に連続するカム立ち上がり部と
、該カム立ち上がり部に連続するカム頂部とから成るカ
ムの前記カム立ち上がり部とカム頂部の表面のみに再溶
融化処理を施してチル層を形成する表面硬化処理方法に
おいて、前記カム頂部表面の全面に密なる処理軌跡を施
し、前記カム立ち上がり部表面には下記（イ）、（ロ）
の少なくとも一方により前記カム頂部表面と連続する部
分的な再溶融化処理面を形成するようにしたことを特徴
とするカムの再溶融化処理方法。 （イ）前記カム立ち上がり部ではカムの相対回転速度を
速くして当該立ち上がり部表面に対して粗なる処理軌跡
を施す、 （ロ）前記カム立ち上がり部ではカム巾に対する処理巾
を狭くして当該立ち上がり部表面に対して中挟なる処理
軌跡を施す、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59067264A JPS60211015A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムの再溶融硬化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59067264A JPS60211015A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムの再溶融硬化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211015A true JPS60211015A (ja) | 1985-10-23 |
| JPS6366882B2 JPS6366882B2 (ja) | 1988-12-22 |
Family
ID=13339921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59067264A Granted JPS60211015A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムの再溶融硬化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211015A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663647A1 (fr) * | 1990-06-22 | 1991-12-27 | Peugeot | Came possedant une surface peripherique traitee et durcie pour resister a l'usure, et arbre muni d'au moins une telle came. |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7332867B2 (ja) | 2019-07-02 | 2023-08-24 | ダイキン工業株式会社 | 電場発生装置及びそれを備えた保冷庫 |
| KR102660619B1 (ko) * | 2021-03-19 | 2024-05-02 | 홍사정 | 상품 진열 및 보관용 쇼케이스의 에어쉴더 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57177926A (en) * | 1981-04-22 | 1982-11-01 | Mitsubishi Motors Corp | Method and device for hardening of sliding surface of cam |
-
1984
- 1984-04-04 JP JP59067264A patent/JPS60211015A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57177926A (en) * | 1981-04-22 | 1982-11-01 | Mitsubishi Motors Corp | Method and device for hardening of sliding surface of cam |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663647A1 (fr) * | 1990-06-22 | 1991-12-27 | Peugeot | Came possedant une surface peripherique traitee et durcie pour resister a l'usure, et arbre muni d'au moins une telle came. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6366882B2 (ja) | 1988-12-22 |
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