JPS6366882B2 - - Google Patents
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- JPS6366882B2 JPS6366882B2 JP59067264A JP6726484A JPS6366882B2 JP S6366882 B2 JPS6366882 B2 JP S6366882B2 JP 59067264 A JP59067264 A JP 59067264A JP 6726484 A JP6726484 A JP 6726484A JP S6366882 B2 JPS6366882 B2 JP S6366882B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/30—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for crankshafts; for camshafts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Gears, Cams (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
（技術分野）
本発明はカムの再溶融硬化処理方法に関する。
（背景技術）
内燃機関のカムシヤフトのカム面の表面硬化処
理として再溶融硬化処理、所謂リメルト処理を施
し、カム面にチル層を形成することが行われ、従
来では、カム全周にリメルト処理を施していた。 ところで、第６図の如くカムシヤフト６１のカ
ム６２はベース円６３から膨出するカム部６４を
備え、カム部６４はベース円６３と連続する曲率
半径の大きいカム立ち上がり部６５，６５の先部
間に曲率半径の小さいカム頂部６６を備える。 斯かるカム６２と相手側のロツカーアーム等の
摺動面との荷重面圧分布は図に示す特性曲線イの
如くで、カム立ち上がり部６５の基端部６５ａ寄
りで若干高く、それ以降は低く、更にカム頂部６
６で最大となり、一方、略半円を成すベース円６
３はバルブリフトに関与しない。従つて実用上、
表面硬化のためのチル層を形成する必要十分な範
囲はカム立ち上がり部６５，６５とカム頂部６６
である。 そこで、ベース円６３を除き、カム部６４の表
面のみをリメルト処理すれば良い訳であるが、最
も面圧の高いカム頂部６６に合せてその硬度を設
定し、カム６２を定回転させてカム立ち上がり部
６５，６５全面に同硬度のチル層を形成すること
は、実用上十分な硬度以上のチル層をカム立ち上
がり部全面に形成することとなり、リメルト処理
時間が長く、また加工コストの面からも改善が望
まれる。 （発明の目的） 本発明の目的は、ベース円を除き、カム立ち上
がり部とカム頂部の表面のみをリメルト処理する
カムにおいて、カム頂部に対して必要硬度が低く
ても足りるカム立ち上がり部全面にリメルト処理
を旋すのを廃し、カム頂部に比べてカム立ち上が
り部でのリメルト処理に要する時間を短縮化し、
量産効率を高め、加工コストを低減するようにし
たカムの再溶融硬化処理方法を提供するにある。 （発明の構成） 以上の問題を解決して目的を達成すべく本発明
は、ベース円と該ベース円に連続するカム立ち上
がり部と該カム立ち上がり部に連続するカム頂部
とを有するカムの表面に対し再溶融硬化処理を施
してチル層を形成するカムの再溶融硬化処理方法
において、高硬度を必要とする前記カム頂部表面
の全面にカム周方向ピツチ巾を巾狭とする処理軌
跡を施して前記カム立ち上がり部表面に比し密度
を高めた前記チル層を形成し、前記カム頂部表面
より高硬度を必要としない前記カム立ち上がり部
表面にカム周方向ピツチ巾を巾広とする処理軌跡
を施して前記カム頂部表面に比し密度を粗くした
前記チル層を形成すること、を特徴とする。 そして前記カム立ち上がり部表面において、更
にカム軸方向処理巾を巾狭とすること、も特徴と
する。 （実施例） 以下に本発明の好適一実施例を添付図面を基に
詳述する。 第１図は本発明を適用したカムシヤフト１のカ
ム２の説明的正面図で、カム２はベース円３の一
半部から膨出するカム部４を備え、カム部４はベ
ース円３と連続する曲率半径の大きいカム立ち上
がり部５，５の先部間に曲率半径の小さいカム頂
部６を備える。 斯かるカムプロフイルを成すカム２において、
第６図にも示したように使用時における面圧の高
いカム部４の表面のみを、カム旋削、カムフライ
ス、カム研削加工等により粗削し、このカム部４
表面の粗削面７にリメルト処理を施す。 リメルト処理は、具体的には第２図乃至第４図
に示す如くで、カムシヤフト１の軸端部をチヤツ
ク２１及びセンタ２２で支持し、モータ２３でカ
ムシヤフト１を回転させ、カムシヤフト１上の一
のカム２上方にプラズマトーチ２４のノズル２５
をクリアランスを保持して臨ませる。ノズル２５
は第４図の如く中空のシールドキヤツプ２６内に
チツプ２７を配設し、キヤツプとチツプ間に不活
性ガス等のシールドガス通路２８を、チツプ２７
中心にアルゴンガス等の作動ガス通路２９を備
え、通路２９内にタングステン等の電極３１を設
け、金属粉末導入管３２，３２を通路２９軸線の
延長線と交叉する如く設ける。トーチ２４は基枠
３５に上下動自在に設けたホルダ３６に支持さ
れ、基枠３５は送りネジ３７を介してモータ３８
により移動可能であり、カムシヤフト１上の各カ
ム２……毎に基枠３５を往復動させ、カムシヤフ
ト１の回転と併せて第４図の如き蛇行した処理軌
跡ａをカム部４の粗削面７に形成する。 尚、第３図中４１は制御装置、４２は電源、４
３は金属粉末供給装置、４４は振動装置、４５は
弁である。 斯くしてカム部４の粗削面７をプラズマアーク
にてリメルト処理し、実施例では、カム立ち上が
り部５，５表面には弁４５を閉じて合金粉末の供
給を停止し、プラズマアークのみにてチル層８，
８を形成し、カム頂部６表面では弁４５を開いて
第３図の如くプラズマアーク中に合金粉末を供給
し、より高硬度の合金チル層９を形成する。これ
により第１図の如くカム立ち上がり部５，５のゾ
ーンＡ，Ｃよりもカム頂部６のゾーンＢの硬度を
高くし、第６図の面圧分布に応じた最適なる表面
硬度を具備したカム２を得る。 以上において、本発明では、カム頂部６を除く
ゾーンＡ，Ｃ、即ち、カム立ち上がり部５，５の
リメルト処理時に、カム頂部６のゾーンＢよりも
カムシヤフト１の回転速度を速くする。これによ
りゾーンＡ，Ｃにおける前記蛇行処理軌跡ａのカ
ム周方向の間隔が開き、第５図ａに示すようにカ
ム周方向に処理を旋さない部分５１，５１を残し
て蛇行するチル層８１を形成する。ここで、一方
のカム立ち上がり部５の基端部５ａでのカムシヤ
フト回転速度が最も高く、カム頂部６に達するに
従つて徐々に回転速度を落とすことにより図示の
如く蛇行するチル層８１を得、カム頂部６では低
い回転速度でその表面に密に処理軌跡を旋して全
面に合金チル層９を形成し、他方のカム立ち上が
り部５では再び徐々に回転速度を上げて同様の蛇
行するチル層８１を得る。 また前記と同様のカムシヤフト回転速度制御を
行いつつ、ゾーンＡ，Ｃでは前記基枠３５の往復
巾を狭くし、カム巾に対する前記蛇行処理軌跡ａ
の巾を狭くする。これにより第５図ｂに示すよう
にゾーンＡ，Ｃのカム面の両側に処理を旋さない
部分５２，５２を残して中央部にチル層８２を形
成する。ここで、一方のカム立ち上がり部５の基
端部５ａでの処理巾を最小とし、カム頂部６に達
するに従つて徐々に処理巾を広くし、他方のカム
立ち上がり部５では逆にし、斯くして両カム立ち
上がり部５，５に図示の如く基端部５ａ，５ａに
向かつて先細り形状のチル層８２，８２を得る。 尚、この場合、カムシヤフト回転速度を速くし
なくても、カム巾に対する蛇行処理軌跡ａを狭く
するので、処理時間を短縮できる。 以下にゾーンＢでの処理条件に対するゾーン
Ａ，Ｃにおける処理軌跡のカム周方向ピツチ、電
流、回転速度、カム軸方向処理巾の一実施例にお
ける比率データを参考までに示す。
理として再溶融硬化処理、所謂リメルト処理を施
し、カム面にチル層を形成することが行われ、従
来では、カム全周にリメルト処理を施していた。 ところで、第６図の如くカムシヤフト６１のカ
ム６２はベース円６３から膨出するカム部６４を
備え、カム部６４はベース円６３と連続する曲率
半径の大きいカム立ち上がり部６５，６５の先部
間に曲率半径の小さいカム頂部６６を備える。 斯かるカム６２と相手側のロツカーアーム等の
摺動面との荷重面圧分布は図に示す特性曲線イの
如くで、カム立ち上がり部６５の基端部６５ａ寄
りで若干高く、それ以降は低く、更にカム頂部６
６で最大となり、一方、略半円を成すベース円６
３はバルブリフトに関与しない。従つて実用上、
表面硬化のためのチル層を形成する必要十分な範
囲はカム立ち上がり部６５，６５とカム頂部６６
である。 そこで、ベース円６３を除き、カム部６４の表
面のみをリメルト処理すれば良い訳であるが、最
も面圧の高いカム頂部６６に合せてその硬度を設
定し、カム６２を定回転させてカム立ち上がり部
６５，６５全面に同硬度のチル層を形成すること
は、実用上十分な硬度以上のチル層をカム立ち上
がり部全面に形成することとなり、リメルト処理
時間が長く、また加工コストの面からも改善が望
まれる。 （発明の目的） 本発明の目的は、ベース円を除き、カム立ち上
がり部とカム頂部の表面のみをリメルト処理する
カムにおいて、カム頂部に対して必要硬度が低く
ても足りるカム立ち上がり部全面にリメルト処理
を旋すのを廃し、カム頂部に比べてカム立ち上が
り部でのリメルト処理に要する時間を短縮化し、
量産効率を高め、加工コストを低減するようにし
たカムの再溶融硬化処理方法を提供するにある。 （発明の構成） 以上の問題を解決して目的を達成すべく本発明
は、ベース円と該ベース円に連続するカム立ち上
がり部と該カム立ち上がり部に連続するカム頂部
とを有するカムの表面に対し再溶融硬化処理を施
してチル層を形成するカムの再溶融硬化処理方法
において、高硬度を必要とする前記カム頂部表面
の全面にカム周方向ピツチ巾を巾狭とする処理軌
跡を施して前記カム立ち上がり部表面に比し密度
を高めた前記チル層を形成し、前記カム頂部表面
より高硬度を必要としない前記カム立ち上がり部
表面にカム周方向ピツチ巾を巾広とする処理軌跡
を施して前記カム頂部表面に比し密度を粗くした
前記チル層を形成すること、を特徴とする。 そして前記カム立ち上がり部表面において、更
にカム軸方向処理巾を巾狭とすること、も特徴と
する。 （実施例） 以下に本発明の好適一実施例を添付図面を基に
詳述する。 第１図は本発明を適用したカムシヤフト１のカ
ム２の説明的正面図で、カム２はベース円３の一
半部から膨出するカム部４を備え、カム部４はベ
ース円３と連続する曲率半径の大きいカム立ち上
がり部５，５の先部間に曲率半径の小さいカム頂
部６を備える。 斯かるカムプロフイルを成すカム２において、
第６図にも示したように使用時における面圧の高
いカム部４の表面のみを、カム旋削、カムフライ
ス、カム研削加工等により粗削し、このカム部４
表面の粗削面７にリメルト処理を施す。 リメルト処理は、具体的には第２図乃至第４図
に示す如くで、カムシヤフト１の軸端部をチヤツ
ク２１及びセンタ２２で支持し、モータ２３でカ
ムシヤフト１を回転させ、カムシヤフト１上の一
のカム２上方にプラズマトーチ２４のノズル２５
をクリアランスを保持して臨ませる。ノズル２５
は第４図の如く中空のシールドキヤツプ２６内に
チツプ２７を配設し、キヤツプとチツプ間に不活
性ガス等のシールドガス通路２８を、チツプ２７
中心にアルゴンガス等の作動ガス通路２９を備
え、通路２９内にタングステン等の電極３１を設
け、金属粉末導入管３２，３２を通路２９軸線の
延長線と交叉する如く設ける。トーチ２４は基枠
３５に上下動自在に設けたホルダ３６に支持さ
れ、基枠３５は送りネジ３７を介してモータ３８
により移動可能であり、カムシヤフト１上の各カ
ム２……毎に基枠３５を往復動させ、カムシヤフ
ト１の回転と併せて第４図の如き蛇行した処理軌
跡ａをカム部４の粗削面７に形成する。 尚、第３図中４１は制御装置、４２は電源、４
３は金属粉末供給装置、４４は振動装置、４５は
弁である。 斯くしてカム部４の粗削面７をプラズマアーク
にてリメルト処理し、実施例では、カム立ち上が
り部５，５表面には弁４５を閉じて合金粉末の供
給を停止し、プラズマアークのみにてチル層８，
８を形成し、カム頂部６表面では弁４５を開いて
第３図の如くプラズマアーク中に合金粉末を供給
し、より高硬度の合金チル層９を形成する。これ
により第１図の如くカム立ち上がり部５，５のゾ
ーンＡ，Ｃよりもカム頂部６のゾーンＢの硬度を
高くし、第６図の面圧分布に応じた最適なる表面
硬度を具備したカム２を得る。 以上において、本発明では、カム頂部６を除く
ゾーンＡ，Ｃ、即ち、カム立ち上がり部５，５の
リメルト処理時に、カム頂部６のゾーンＢよりも
カムシヤフト１の回転速度を速くする。これによ
りゾーンＡ，Ｃにおける前記蛇行処理軌跡ａのカ
ム周方向の間隔が開き、第５図ａに示すようにカ
ム周方向に処理を旋さない部分５１，５１を残し
て蛇行するチル層８１を形成する。ここで、一方
のカム立ち上がり部５の基端部５ａでのカムシヤ
フト回転速度が最も高く、カム頂部６に達するに
従つて徐々に回転速度を落とすことにより図示の
如く蛇行するチル層８１を得、カム頂部６では低
い回転速度でその表面に密に処理軌跡を旋して全
面に合金チル層９を形成し、他方のカム立ち上が
り部５では再び徐々に回転速度を上げて同様の蛇
行するチル層８１を得る。 また前記と同様のカムシヤフト回転速度制御を
行いつつ、ゾーンＡ，Ｃでは前記基枠３５の往復
巾を狭くし、カム巾に対する前記蛇行処理軌跡ａ
の巾を狭くする。これにより第５図ｂに示すよう
にゾーンＡ，Ｃのカム面の両側に処理を旋さない
部分５２，５２を残して中央部にチル層８２を形
成する。ここで、一方のカム立ち上がり部５の基
端部５ａでの処理巾を最小とし、カム頂部６に達
するに従つて徐々に処理巾を広くし、他方のカム
立ち上がり部５では逆にし、斯くして両カム立ち
上がり部５，５に図示の如く基端部５ａ，５ａに
向かつて先細り形状のチル層８２，８２を得る。 尚、この場合、カムシヤフト回転速度を速くし
なくても、カム巾に対する蛇行処理軌跡ａを狭く
するので、処理時間を短縮できる。 以下にゾーンＢでの処理条件に対するゾーン
Ａ，Ｃにおける処理軌跡のカム周方向ピツチ、電
流、回転速度、カム軸方向処理巾の一実施例にお
ける比率データを参考までに示す。
【表】
但し、上記各数値は一実施例のものを示してお
り、その数値は特定されるものではなく、その他
の諸条件により変化するものである。 ところで、カムシヤフト１を回転させずにトー
チ２４をカム周に沿つて送るようにしても良い。
またカム立ち上がり部５，５にも合金添加リメル
ト処理を旋して合金チル層を形成しても良い。 （発明の効果） 以上のように本発明によれば、特にカム頂部表
面より高硬度を必要としないカム立ち上がり部表
面にカム周方向ピツチ巾を巾広とする処理軌跡を
旋してカム頂部表面に比し密度を粗くしたチル層
を形成するため、リメルト処理時間を短縮化して
量産効率を高めることができ、またリメルト処理
に要する電気エネルギーも減少できるので、エネ
ルギー経済上も有利であり、上記時間経済上の利
点と併せ加工コストの低減に資する処大である
等、実用性に富む。
り、その数値は特定されるものではなく、その他
の諸条件により変化するものである。 ところで、カムシヤフト１を回転させずにトー
チ２４をカム周に沿つて送るようにしても良い。
またカム立ち上がり部５，５にも合金添加リメル
ト処理を旋して合金チル層を形成しても良い。 （発明の効果） 以上のように本発明によれば、特にカム頂部表
面より高硬度を必要としないカム立ち上がり部表
面にカム周方向ピツチ巾を巾広とする処理軌跡を
旋してカム頂部表面に比し密度を粗くしたチル層
を形成するため、リメルト処理時間を短縮化して
量産効率を高めることができ、またリメルト処理
に要する電気エネルギーも減少できるので、エネ
ルギー経済上も有利であり、上記時間経済上の利
点と併せ加工コストの低減に資する処大である
等、実用性に富む。
第１図はカムの説明的正面図、第２図は再溶融
硬化処理装置の概略図、第３図はプラズマトーチ
ノズルの縦断面図、第４図はその基本的処理軌跡
を示す斜視図、第５図ａ及びｂは本発明を適用し
たカムの要部を夫々示す各斜視図、第６図はカム
の面圧分布の説明図である。 尚、図面中２はカム、４はカム部、５，５はカ
ム立ち上がり部、６はカム頂部、９はカム頂部の
チル層、８１，８２はカム立ち上がり部のチル層
である。
硬化処理装置の概略図、第３図はプラズマトーチ
ノズルの縦断面図、第４図はその基本的処理軌跡
を示す斜視図、第５図ａ及びｂは本発明を適用し
たカムの要部を夫々示す各斜視図、第６図はカム
の面圧分布の説明図である。 尚、図面中２はカム、４はカム部、５，５はカ
ム立ち上がり部、６はカム頂部、９はカム頂部の
チル層、８１，８２はカム立ち上がり部のチル層
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ベース円と該ベース円に連続するカム立ち上
がり部と該カム立ち上がり部に連続するカム頂部
とを有するカムの表面に対し再溶融硬化処理を施
してチル層を形成するカムの再溶融硬化処理方法
において、 高硬度を必要とする前記カム頂部表面の全面に
カム周方向ピツチ巾を巾狭とする処理軌跡を施し
て前記カム立ち上がり部表面に比し密度を高めた
前記チル層を形成し、 前記カム頂部表面より高硬度を必要としない前
記カム立ち上がり部表面にカム周方向ピツチ巾を
巾広とする処理軌跡を施して前記カム頂部表面に
比し密度を粗くした前記チル層を形成すること、
を特徴とするカムの再溶融硬化処理方法。 ２ ベース円と該ベース円に連続するカム立ち上
がり部と該カム立ち上がり部に連続するカム頂部
とを有するカムの表面に対し再溶融硬化処理を施
してチル層を形成するカムの再溶融硬化処理方法
において、 高硬度を必要とする前記カム頂部表面の全面に
カム周方向ピツチ巾を巾狭とする処理軌跡を施し
て前記カム立ち上がり部表面に比し密度を高めた
前記チル層を形成し、 前記カム頂部表面より高硬度を必要としない前
記カム立ち上がり部表面にカム周方向ピツチ巾を
巾広とし、且つカム軸方向処理巾を巾狭とする処
理軌跡を施して前記カム頂部表面に比し密度を粗
くした前記チル層を形成すること、 を特徴とするカムの再溶融硬化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59067264A JPS60211015A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムの再溶融硬化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59067264A JPS60211015A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムの再溶融硬化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211015A JPS60211015A (ja) | 1985-10-23 |
| JPS6366882B2 true JPS6366882B2 (ja) | 1988-12-22 |
Family
ID=13339921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59067264A Granted JPS60211015A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムの再溶融硬化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211015A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021002400A1 (ja) | 2019-07-02 | 2021-01-07 | ダイキン工業株式会社 | 電場発生装置及びそれを備えた保冷庫 |
| KR20220131102A (ko) * | 2021-03-19 | 2022-09-27 | 홍사정 | 상품 진열 및 보관용 쇼케이스의 에어쉴더 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663647A1 (fr) * | 1990-06-22 | 1991-12-27 | Peugeot | Came possedant une surface peripherique traitee et durcie pour resister a l'usure, et arbre muni d'au moins une telle came. |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57177926A (en) * | 1981-04-22 | 1982-11-01 | Mitsubishi Motors Corp | Method and device for hardening of sliding surface of cam |
-
1984
- 1984-04-04 JP JP59067264A patent/JPS60211015A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57177926A (en) * | 1981-04-22 | 1982-11-01 | Mitsubishi Motors Corp | Method and device for hardening of sliding surface of cam |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021002400A1 (ja) | 2019-07-02 | 2021-01-07 | ダイキン工業株式会社 | 電場発生装置及びそれを備えた保冷庫 |
| KR20220131102A (ko) * | 2021-03-19 | 2022-09-27 | 홍사정 | 상품 진열 및 보관용 쇼케이스의 에어쉴더 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60211015A (ja) | 1985-10-23 |
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