JPS60208990A - 新規な環状ホスフアイトのポリアルキルピペリジン誘導体及び該化合物からなる安定剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 キルピベリジン誘導体、その製法及び有機ポリマーの安
定剤としてのその使用法に関する。ポリアルキルピペリ
ジン誘導体は１，　３．　２−ジオキサホスホリナン、
１，５．２−ジオギサホスホラン、２、　４，　８．　
１　０−テトラオキサ−３．９−ジホスファ（５．５）
スビロウｙデカン及び１，３−ビス［　１，　５．　２
−ジオキサホスホリナン−５−イル〕−２−オキサプロ
パン（ＤＰ−ピペリジルアミノ誘導体で６る。

トリアリールホスファイトの様なある種の環状ホスファ
イトがポリマーの優れた加工安定剤であることは公知で
ある。これらは加熱加工中に２いてポリマーを分子量崩
解、架橋形成または変色の様な熱酸化的損傷から保護す
る。この目的の為に該安定剤はしばしば、少量でも補助
安定剤としてホスファイトとの相剰効果を示すことので
きる立体障害性フェノール系の酸化防止剤と配合して使
用される。実際に使用される環状ホスファイトの例とし
てＰ、Ｐ’−ビス（２，４−ジー第三ブチルフェノキシ
）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホス
７７（５１５：］スピヒウンデカンが挙げられる。

これらの環状ホスファイトは光安定化作用がかなシネ足
している。そ゛のため、立体障害性アミン基、特に２．
２．６．６−チトラメテルビベリジン基を導入すること
によシ化合物を光安定性にする試みが充分になされてき
た。例えば、ドイツ特許公開第２６５６９９９号には次
式：（式中、Ｘは水素原子、酸素原子または１価の有機
基を表わし、そしてＹは２価の１．２−または１，３−
ジオールの基または次式： で表わされる基を表わす）で表わされる環状ホスファイ
トが提案されてきた。このタイプの化合物は、光安定性
は良好であるが貯蔵安定性、加水分解に対する感受性及
び移行性に関しては不充分でアシ、そして加工安定剤と
しての作用は中程度にすぎない。

驚くべきことに、これらに類似した、ピペリジン基が酸
素原子ではなく窒素原子を介してり／原子に結合してい
る化合物が光安定剤としても加工安定剤としても著しく
有効であることが見出された。これらは水分吸収性友び
加水分解安定性に関しては酸素原子を介している化合物
より優れている。特にこれらの化合物は非常に少量でも
優れた光安定化作用を有する。

従って本発明は次式Ｉまたは■： 〔式中、 ｍは１または２を表わし Ａは炭素原子数２ないし８の分枝鎖もしくは直鎖の１，
２−もしくは１，３−アルキレン基、またはｏ−フェニ
レン基を表わし、 Ｂは次式用もしくはＩａ： Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ１は水素原子
、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３
ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のアル
アルキル基、炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基
、炭素原子数６ないしるのアルケノイル基、ベンゾイル
基またはシアノメチル基を表わし、Ｒ２はｍが１を表わ
す場合は、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素
原子数３ないし１４のアルコキシアルキル基、炭素原子
数４ないし１２のジアルキルアミノアルキル基、炭素原
子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７な
いし？のアルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のア
リール基、炭素原子数７ないし２０のアルカリール基−
または次式■：で表わされる基を表わし、ｍが２を表わ
す場合は、炭素原子数２ないし２０のアルキレン基、で
表わされる基を介在させた炭素原子数４ないし１２のア
ルキレン基、シクロヘキシレン基、キシリレン基、フェ
ニレン基または次式：（式中、Ｚは一〇−、−ＣＩ−１
２−もしくは一８Ｏ□−を表わす）で表わされる基を表
わし、 Ｒ３は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基
、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７
ないし９のフルアルキル基、炭素原子数２ないし１２の
アルカノイル基、炭素原子数３ないしるのアルケノイル
基、ベンゾイル基またはシアノメチル基を表わし、Ｒ４
は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数３
ないし１４のアルコキシアルキル基、炭素原子数４ない
し１２のジアルキルアミノアルキル基、炭素原子数７な
いし９のアルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のア
リール基、炭素原子数７ないし２０のアルカリール基、
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または前記
式■の基を表わし、そしてＲ５は水素原子またはメチル
基を表わす〕で表わされる化合物に関する。

置換基Ａはリン原子及び２個の酸素原子と一緒になって
５員環または６員環を形成する分枝鎖または直鎖の１，
２−または１，３−アルキレン基金表わす。直鎖の置換
基Ａは１，２−エチレン基または１，３−プロピレン基
を表わすことができ、分枝鎖の置換基Ａは例えば、１，
２−プロピレン基、１．２−７”テレン基、テトラメチ
ル−１，２−エチレン基、２，２−ジメチル−１，５−
プロピレン基、２−メチル−２−エテル−１，３−プロ
ピレン基または１．１．３−）リメテルー１．３−プロ
ピレン基ヲ表わし得る。置換基Ａは好ましくは分枝鎖の
１，２−または１，３−アルキレン基、と）ゎけ分枝鎖
の１゜３−アルキレン基を表わす。Ａが２，２−ジメチ
ル−１，３−プロピレン基金表わす式１の化合物が特に
好ましい。

アルキル基１１１及びＲ３は例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、イソアミル基
、ヘギシル基、オクチル基、デシル基またはドデシル基
を表わす。さらに、アルキル基Ｒ２及びＲ４は例えば、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基また
はエイコシル基を表わす。Ｒ２及びＲ４はまた、工業用
脂肪アミンに存在するものの様な高級アルキルの混合物
であっても良い。アルコキシアルキル基としてのＲ２及
びＲ４は例えば２−メトキシエテル基、２−メトキシエ
テル基、３−エトキシプロピル基、３−エトキシプロピ
ル基または３−ブトキシプロピル基を表わす。ジアルキ
ルアミノアルキル基としてのＲ２及びＲ４は例えば２−
ジメチルアミノエテル基、３−ジメチルアミノプロビル
基、３−ジエチルアミノプロピル基または３−ジエチル
アミノプロピル基金表わす。

アルケニル基としてのＲ１及びＲ３は好ましくはアルケ
ニルメチル基、例えばアリル基、メタリル基、２−ブテ
ニル基または２−メチル−２−ブテニル基を表わす。ア
リル基が好ましい。

アルアルキル基としてのＲ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は例
えばベンジル基、２−フェニルエテル基、１−フェニル
エテル基または６−フェニルプロヒルＭｔ−表わすこと
ができる。ベンジル基が好ましい。

アリール基としてのＲ２及びＲ４はフェニル基またはナ
フチル基を表わし得る。アルカリール基としてのＲ２及
びＲ４は特にアルキルフェニル基を表わし、例えばトリ
ル基、キシリル基、エチルフェニル基、第三：＃ルフェ
ニル基、ノニルフェニ□”ルｔｓ、ドテシルフェニル基
、メチルナフチル基またはノニルナフチル基を表わすこ
とがでキル。シクロアルキル基としてのＲ２及びＲ４は
例エバ、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基またはシクロオクチル基を表わすことができ
る。シクロヘキシル基が好ましい。

アルカノイル基またはアルケノイル基としてのＲ１及び
Ｒ３は例えばアセチル基、グロビオニル基、プテロイル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ドデカノイル基
、アクリロイル基、メタクリロイル基またはクロトニル
基金表わすことができる。アセチル基が好ましい。

ｍが２を表わす場合、Ｒ２は２価の基であり、例えば１
，２−エチレン、トリー、テトラ−、ヘキサ−、オクタ
−、デカ−もしくはドデカ−メチレン基、２，２．４−
　）ジエチルへキサメチレン基、２−メチルペンタメチ
レン基、４−オキサヘグタメテレン基、４．７−シオキ
サデカメテレン基、４−イングロピルアザヘブタメテレ
ン基、３，６−ジ（メチルアザ）−オクタメチレン基、
１，４−シクロヘキシレン基、ｍ−もしくはＰ−キシリ
レン基、ｍ−モジくハＰ−フェニレン基、ジフェニルエ
ーテル４．４′−ジイル基、ジフェニルメタン−４，４
′−ジイル基、ジフェニルスルホンム、４’−ジイル基
、シ”クロヘキシルメタン−４，４′−ジイル基または
ジシクロへキシルスルホン４，４′−ジイル基金表わス
コとができる。２価の基としてのＲ２は好ましくは炭素
原子数２ないし１８のアルキレン基、特に炭素原子数２
ないし１０のアルキレン基を表わす。

好ましい化合物は上記式■または■中、Ａが分枝鎖の１
．２−または１，３−アルキレン基を表わし、Ｂが弐■
の基を表わし、Ｒが水素原子を表わし、Ｒ１が水素原子
、メチル基、アリル基、ベンジル基またはアセチル基金
表わし、Ｒ２が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
式■の基または炭素原子数２ないし１０のアルキレン基
を表わし、Ｒ３が水素原子、メチル基、ベンジル基また
はアセチル基金表わし、そしてＲ４が炭素原子数１ない
し１８のアルキル基または式■の基を表わす化合物であ
る。

特に好ましい化合物は上記式Ｉまたは■中、Ａが１．３
−プロピレン基を表わし、Ｂが弐■の基を表わし、Ｒが
水素原子を表わし、Ｒ１及びＲ３が水素原子またはメチ
ル基を表わし、Ｒ２が炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基、式■の基または炭素原子数２ないし８のアルキレ
ン基金表わし、そしてＲ４が炭素原子数１ないし１２の
アルキル基または弐■の基を表わす化合物、とシわけ八
が次式： ％式％［１２ （式中　Ｒ６は水素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基金表わす）で表わされる基金表わす化合物で
ある。

式■の化合物の具体例として、５，５−ジメチル−２−
（Ｎ−エチル（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）アミノクー１．５．２−ジオキサホスホリナ
／、２−〔Ｎ−ブチル（１，２，２，６，６−ベンタメ
チルー４−ピペリジル）アミノ）　−５，５−ジメチル
−１，５，２−ジオキサホスホリナン、５，５−ジメチ
ル−２−（Ｎ−２−エテルヘキシル（２，２，６，６−
チトラメテルー４−ピペリジル）−７ミノ）　−１，３
，２−ジオキサホスホリナン、２−ｒＮ−ブチル（１−
アリル−２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジ
ル）アミノコ−５−エチル−５−メチル−１，３，２−
ジオキサホスホリナン、２−〔Ｎ−ベンジル（２，２，
６，６−チトラメテルー４−ピペリジル）−アミノ）−
５，５−ジメチル−４−プロピル−１，５，２−ジオキ
サホスホリナン、２（Ｎ−（１−７セテルー２．２．６
．６−チトラメテルー４−ピペリジル）アニリノ）−５
，５−ジメチル−４−イングロビル−１，５，２−ジオ
キサホスホリナン、２−　（Ｎ、　Ｎ−ビス（２，２，
６，６−チトラメテルー４−ピペリジル）アミン）−４
，４，６−トリメチルー１゜３．２−ジオキサホスホリ
ナン、２−（Ｎ−ブチル（２，２，６，６−チトラメテ
ルー４−ピペリジル）アミノコ−５−エチル−４−プロ
ピル−１，３，２−ジオキサホスホリナン、２−（Ｎ−
（１−アクリリル−２，２，６゜６−チトラメテルー４
−ピペリジル）シクロヘキシルアミノコ−４−メチル−
１，５，２−ジオキサホスホリナン、２−（Ｎ−（２−
メトキシエチル）（２ｓ２＋６゜６−チトラメテルー４
−ピペリジル）アミン）−１＋５．２−ジオキサホスホ
リナン、　２−［：Ｎ−ブチル（２，６−ジエテルー２
．５．６−）リメチル−４−ビペリジル）アミノ）−５
，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン、
２−［：Ｎ−ベンジル（２，６−ジエテルー１．２．３
．６−チトラメテルー４−ピペリジル）−アミノ］−’
＋’＋６−ドリメチルー１．５．２−ジオキサホスホリ
ナン、２−［Ｎ、Ｎ−ビス（２，６−ジエテルー２．３
．６−ドリメチルー４−ピペリジル　）アミン）−５，
５−ジメチル−１，５，２−ジオキサホスホリナン、２
−〔Ｎ−ブチル（２，２，６，６−チトラメテルー４−
ピペリジル）アミノ）−１，３，２−ジオキサホスホラ
ン、２−〔Ｎ−ドデシル（１，２，６，６−ベンタメテ
ルー４−ピペリジル）アミノコ−４−メチル−１゜３．
２−ジオキサホスホラン、２−（Ｎ−（１−ベンジル−
２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジル）オク
チルアミノ〕−４−エチル−１，５，２−ジオキサホス
ホラン、２−〔Ｎ−ベンジル（２，２，６，６−チトラ
メテルー４−ピペリジル）１ミノ］−４，５−ジメチル
−１，３，２−ジオキサホスホラン、２−［Ｎ−（１−
アセテルー２．２．６．６−チトラメテルー４−ピペリ
ジル）アニリノ：］　−４，４，ｓ、　ｓ−テトラメチ
ル−１゜３．２−ジオキサホスホラン、４，５−ジエチ
ル−４゜５−ジメチル−２−（Ｎ−（２−ジメチルアミ
ノエチル）　−２，２，６，６−チトラメテルー４−ピ
ペリジル）アミノ、］−１，！１．２−ジオキサホスホ
ラン、２−（Ｎ−（２，６−ジエテルー２．５．６−）
リメテルー４−ピペリジル）ドデシルアミノ）　−４，
４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサホス
ホラン、Ｎ、Ｎ’−ビス（５，５−ジメチル−１，５，
２−ジオキサホスホラン　゛ノー２−イル）−Ｎ、Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジ
ル）エチレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１，２，２，
６，６−ベンタメテルー４−ピペリジル）−Ｎ、Ｎ’−
ビス（４，４，６−）リメテルー１．３．２−ジオキサ
ホスホリナン−２−イル）トリメチレンジアミン、Ｎ、
Ｎ’−ビス（１−アリル−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−Ｎ、Ｎ’−ビス−（５−エテル
−５−メチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２
−イル）へキサメチレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１
−ベンジル−２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペ
リジル）−Ｎ、Ｎ’−ビス（５−エテル−４−プロピル
−１，３，２−ジオキサホスホリナ／−２−イル）−２
，２’−ジアミノジエチルエーテル、Ｎ、Ｎ“−ビス（
２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジル）−Ｎ
。

Ｎ′、Ｎ“−トリス（５，５−ジメチル−１，５，２−
ジオキサホスホリナン−２−イル）−ジエチレントリア
ミン、１．１２−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−１，５，８，１２−テトラギス（
４，４，６−ドリメテルー１．３．２−ジオキサホスホ
リナン−２−イル）　−１，５，８，１２−テトラアザ
ドデカン、Ｎ、　Ｎ“−ビス（４−メチル−１，５，２
−ジオキサホスホリナン−２−イル）−Ｎ、Ｎ“−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
Ｎ′−メチルジエチレントリアミン、Ｎ、　Ｎ’−ビス
（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキ
サホスホラン−２−イル）−Ｎ、Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）オクタメチレ
ンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（２，６−ジエテルー２．
３．ｌ５−）リメテルー４−ピペリジル）オクタメチレ
ンジアミン、　Ｎ、Ｎ’−ビス（２，６−ジエテルー２
．３．６−）ジメチル−４−ピペリジル）−Ｎ、Ｎ’−
ビス（４，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホ
ラン−２−イル）へキサメチレンジアミン及びＮ。

Ｎ“−ビス（２，６−ジエテルー２．ｓ、６−　）ジメ
チル−４−ピペリジル）−Ｎ、Ｎ’、Ｎ“−トリス（５
＋５＋　ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン
−２−イル）ジエチレン−トリアミンが挙げられる。

式■の化合物の具体例として、３，９−ビス（Ｎ−プロ
ピル（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
）アミン、：ｌ−２，４，８，１０−テトラオキサ−３
，９−ジホスファスビロ［５，５］ウンデカ７．５．９
−ビス（Ｎ−（１−アリル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−Ｎ−２−エチルへキシルアミ
ノ〕−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホ
スファスピロ〔５，５〕ウンデカン、３．９−ビス（Ｎ
−（２−ジメチルアミノエテル）　−１，２，２，６，
６−ベンタメチルー４−ピペリジルアミノ）−２，４，
８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホス７アスピロ（
：　５．５　）ウンデカン、５．９−ビス（Ｎ−（１−
アセチル−２，２，６，６−ブトラメチル−４−ピペリ
ジル）ドデシルアミノ〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサ−３，９−ジホスファスビロ〔５，５〕ウンデカン
、３，９−ビス（Ｎ−（２，６−シエテルー２．５．６
−ドリメチルー４−ピペリジル）ドデシルアミノ）−２
，４，８，１０−テトラオキサ−５゜９−ジホスファス
ピロ（５，５］ウンデカン、１．５−ビス（２−（Ｎ−
ビス（１，２，２，６，６−ベンタメテルー４−ピペリ
ジル）アミン）−５−エテル−１，５，２−ジオキサホ
スホリナン−５−イルツー２−オキサプロパン、１，６
−ビス（２−（Ｎ−（２−メチルプロピル）　−Ｎ−（
２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジル）−ア
ミノ）−５−メチル−１，３，２−ジオキサホスホリナ
ン−５−イルツー２−オキサプロパン及び１，３−ビス
（２−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−Ｎ−（２，２，
６，６−チトラメテルー４−ピペリジル）アミノ）−５
−エチル−１，！１．２−ジオキサホスホリナンー５−
イルツー２−オキサプロパンがあケラれる。

式Ｉの化合物は下記式Ｖの第二ピペリジルアミンと下記
式■のホスホクロリダイトと全反応させることからなる
常法によって製造し得る。

Ｖ　Ｍ 同様に式…の化合物ｑ　ＣＪ−Ｂ−ＣＪ（式中、Ｂは前
記の意味を表わす）で表わされるビスホスホクロリダイ
トを下記式■のアミ７２モルと反応させることによシ製
造され得る。

■ 式■のホスホクロリダイトまたはＣＪ−Ｂ−ＣＩ！及び
式Ｖもしくは■のアミンは公知化合物である。ホスホク
、ロリダイトは、例えばＪ、　Ａｍｅｒ、　Ｃｈｅｍ、
　Ｓｏｃ。

７２（１９５Ｇ）５４９１−７　に記載されている方法
によシ対応するジオールとＰＣ／、から製造し得る。

アミンは好ましくは例えばドイツ特許公開公報筒２．０
４へ９７５号、第２．５４９．９６２号及び第２，６２
１，８７０号に記載されている方法によシ対応する４−
ケトピペリジンヲ珈元アミノ化して製造することができ
る。

この反応は式■の化合物もしくはＣＩ！−Ｂ−Ｃｊ。

またはそれらの不活性溶媒溶液を式Ｖもしくは式■のア
ミンの溶液に添加することによって実施される。反応は
加熱によって完結される。適する溶媒の例として、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、メチレンクロライド、酢酸エチル、アセトニトリ
ルまたはジ′メチルホルムアミドが挙げられる。

成分及び反応生成物が充分な低温で溶融する場合は溶媒
を用いずに反応を実施することもできる。この場合は１
００ないし１５０℃の反応温度を用いるのが好ましい。

塩化水素を中和する為に少なくとも当量の塩基を反応混
合物に添加する。塩基の例として、アルカリ金属の水酸
化物、アルカリ土類金属の水酸化物もしくは酸化物、ア
ンモニアまたは第三アミンが挙げられる。溶媒としてア
ミンを使用することも可能でアシ、この目的に適する例
としてトリエチルアミンまたはトリブチルアミンが挙げ
られる。

中和によシ生成した塩は、例えばヂ過または水で抽出し
て反応混合物から除去することができる。溶媒を留去す
ると残渣として式Ｉまたは■の粗生成物が得られ、これ
は慣用の精製方法、例えばカラムクロマトグラフィーに
よシまたは再結晶することにより精製することができる
。

式■のホスホクロリダイトまたはｃｔ−Ｂ−ｃｔ。

（ＡＩＫ）、Ｎ−Ｂ−Ｎ（ＡＩＫ）、　（式中、ＡＩＫ
は低級アルキル基を表わす）で表わされるホスホアミダ
イトを使用することもできる。この方法は触媒量の塩基
を必要とし、好ましくは溶媒を用いずに実施される。触
媒としては、強塩基、例えばＬｉＨ，ＮａＨ及びＬｉＮ
Ｈ，ｔ−使用する。反応は好ましくは１０口ないし１８
０℃で行ない、生じたジアルキルアミン：　（ＡＩＫ）
、　ＮＨ’ｉ同時に留去する。

ホスホアミダイトの代わりに相当するアルコキシ基また
はアリールオキシ化合物を使用することもできる。この
場合、反応はホスホアミダイトを用いる時と同じ方法で
行なう。

本発明において式Ｉ及び■の化合物はポリマー１−熱、
酸素及び光による損傷から保護する為の安定剤として使
用し得る。ポリマーの例を下記に示す。

１、　モジオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例
えば所望により架橋結合できるポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメチ
ルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジェン
、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンもし
くはノルボルネンのポリマー。

２、　１）で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混合
物。

五　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ル七ツマ−とのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プ
ロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン
−１ｊ　ホＩＪマー、プロピレン／ブタジェンコポリマ
ー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／
エチルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメ
タアクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテー
トコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマー及
びそれらの塩類（アイオノマー）のようなものそしてエ
チレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジ
シク四ペンタジェンまたはエチリデンノルボルネンとの
ターポリマー。

屯　ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

Ｓ　スチレンまたはα−メチルステレｙとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／フタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタアクリレート、スチレン／無水マレイン酸及ヒ
スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート：ス
チレンコポリマーと他のポリマー例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマー、またはエチレン／−ｚ　＋　ｄ　
１７　＋７　／　、−３−ｒｙ　Ｊ−ボ１１マーのより
た本のとからの高耐衝撃性混合物；及びスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン／ブタジェン／スチレン
、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレ
ン−ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン−プ
ロピレン／スチレンのようなもの。

＆　スチレンのクラフトコポリマー、例えばスチレンと
ポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
ブタジェン、スチレン及びマレイン酸無水物とポリブタ
ジェン、スチレン及びアクリル酸アルキルまたはメタク
リル酸アルキルとポリブタジェン、スチレン及びアクリ
ロニトリルとエチレンープロピレンージエンターポリマ
ー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルアク
リレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレン
及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジェンコポ
リマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと５）
に列挙したコポリマーとの混合物、例えばいわゆるＡＢ
Ｓ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥ８ポリマーとして知られ
ている混合物。

Ｚ　ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロア’Ｌ’
ン、！ｉ化＝１”ム、塩素化若しくはクロロスルホン化
ポリエチレン、エピクロルヒドリンポモポリマー及び−
コポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリ
マー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン及びこれらのコ
ポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコ
ポリマー。

ａ　α、β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

９　前記８）Ｋ挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジェンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアク
リレートコポリ−ｒ−、アクリロニトリル／アルコキシ
アルキルコポリマー、アクリロニトリル／ビニルハライ
ドコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタク
リレート／ブタジェンターポリマー。

１［Ｌ　不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシル
誘導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例え
ばポリビニルアルコール％　ポリ塩化ビニル、ポリビニ
ルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニル
マレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレ
ート、ポリアリルメラミン。

１１．３ｉ状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。

１２ホリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及び
コモノマー、例えばエチレンオキシドを含むポリオキシ
メチレン。

１五　ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びＫそ
れらとスチレンポリマーとの混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステル及びポリブタジェンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリアクリレ−トとから誘導
されたポリウレタン及びその前駆物質。

１５、ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミノカ
ルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミ
ド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリア
ミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，４，４−）リメ
チルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−ｍ−７エ
ニレンイノフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー。

１＆　ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド／イミド及び
ポリベンズイミダゾール。

１７、ジカルボン酸及びジオール及び／またはヒドロキ
シカルボン酸または相当するラクトンがら誘導されたポ
リエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチ關−ル
シクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシベン
ゾエート及び更にヒドロキシ末端基を有するポリエーテ
ルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル。

１＆ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。

１９、ポリスル系ン及びポリエーテルスルホン及びポリ
エーテルケトン。

２（Ｌ　一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分と
してフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
、尿素−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂。

２１、乾性及び不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及
び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低い
ハロゲン含有変性物。

２五置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタン／アクリレートまたはポリエステル／ア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

２４、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

２＆天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム及びゼ
ラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同族体
誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス及ヒ酪酸−ｔルｏ　−ス、及ヒセルロースエーテル、
例えばメチルセルロース。

２Ｚ　前述したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡ
ＢＳ　、　ＰＶＣ／ＥＶＡ　、　ＰＶＣ／ＡＢＳ　、　
ＰＶＣ／ＭＢＳ　。

ＰＣ／ＡＢＳ　、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ　。

特に重要なのは上記第１〜６項に記載した様なポリオレ
フィン、スチレンポリマー、ポリアミド及びポリウレタ
ンの安定化である。

式Ｉ及び■で表わされる化合物は安定化されるポリマー
を基準にしてα００１ないし２重量％、好ましくはα０
２５ないし１２重量％の濃度でポリマー中に配合する。

安定化されるポリマーへの配合はポリマーの成形中また
は成形後に所望−により他の添加物とともに従来技術で
使用されている慣用方法によシ混合することにより行な
われる。式ｌ及び■の化合物は該化合物を例えば２．５
ないし２５チの濃度で含有するマスターバッチの形でポ
リマーに加えることもできる。

従って本発明は式ｌまたは■の化合物を１００１ないし
２重量％添加することによって安定化され、場合によっ
てはポリマー技術分野で常用の他の添加剤を含有するこ
ともできる有機ポリマーに関する。

本発明による安定剤と共用される他の添加剤の例を以下
に示す。

２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、２−
第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２．６−ジ
ー第三ブチル−４−エチルフェノール、２．６−ジー第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２．６−ジー第
三ブチル−４−１−ブチルフェノール、２．６−ジ−シ
クロペンチル−４−＃−ルフエ／−ｋ、２−（メチルシ
クロヘキシル）−４，６−シメチルフエノール、２．６
−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノール、２，４．
６−トリーシクロヘキシルフエノールおよび２．６−ジ
ー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。

１．２．　アルキル化ヒドロキノン ２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール、２
．５−ジー第三ブチルヒドロキノン、２．５−ジー第三
アミルヒドロキノンおよび２．６−ジフェニル−４−オ
クタデシルオキシフェノール。

１、五　ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル２．２
′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、２．２−チオ−ビス−（４−オクチルフェノー
ル）、４．４−チオ−ビス−（６−第三ブチル−３−メ
チルフェノール）および４，４−チオ−ビス−（６−第
三ブチル−２−メチルフェノール）。

１．４．　アルキリデン−ビスフェノール２．２′−メ
チレン−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、２．２−メチレン−ビス−＜６−ｍ三ブチル−４
−エチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−〔４
−メチル−６−（メチルシクロヘキシル）−フェノール
〕、２．２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−シ
クロヘキジルフエノール）、２．２−メチレン−ビス（
６−ノニル−４−メチルフェノール）、２．２−メチレ
ン−ビス−（４，６−ジー第三ブチルフェノール）、２
．２−エチリデン−ビス−（４，６−ジー第三プチルフ
エノール、２．ｉ−エチリデン−ビス−（６−第三ブチ
ル−４−イソブチルフェノール）、２゜２−メチレン−
ビス−Ｃ６−Ｃメチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル〕、２．２−メチレン−ビｘ−（６−（ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール）、４．４−メチレン−
ビス−（２，６−ジー第三ブチルフェノール）、４゜４
−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）、１．１−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒト
四キシー２−メチルフェニル）−ブタン、２，６−ジー
（６−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジ
ル）−４−メチルフェノール、１，１．５−トリス−（
５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル
）−ブタン、１．１−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス−〔３，３−
ビス−（３−第三７’チル−４−ヒドロキシフェニル）
−７＋レート）、ジー（３−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）−ジシクロペンタジヒドロキ
シ−５−メチルベンジル）−６＃三ブチル−４−メチル
フェニル〕テレフタレート。

１、　ａ　ベンジル化合物 １．３．５−）ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）　−２，４，６−）リメチルベンゼ
ン、ジー（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル３．５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、
ビス−（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジ
メチルベンジル）−ジチオールテレフタレート、１．３
．５−トリス−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）インシアヌレ−）、１，３．５−トリス
−（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチ
ルベンジル）イソシアヌレート、ジオクタデシル３．５
−ジー第三−エチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、およびモノエチル３．５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。

１．６．　アシルアミノフェノール ４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシス
テアリン酸アニリ）”、２．４−ビス−オクチルメルカ
プト−６−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ〕−８−トリアジンおよびＮ−（３，５−ジー
第三ブチル−ヒドロキシフェニル）−カルバミン酸オク
チルエステル。

アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、１．
６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートおよびジーヒドロキシ
エチルオキサル酸ジアミド。

１、ａ　以下のような一価または多価アルコ−アルコー
ルの例：メタノール、オクタデカノール、１．６−ヘキ
サンジオール、ネオペンチルクリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒドロキシ
エチルイソシアヌレートおよびジーヒドロキシエチルオ
キサル酸ジアミド。

例えばＮ、Ｎ−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）−へキサメチレンジア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジー（３゜５−　シー　ｍ三７”チル−
４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−トリメチレン
ジアミンおよびＮ、Ｎ−ジー（３，５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジン
。

２、ＵＶ吸収剤および光安定剤 チルブチル）、５−クロル−３，５−ジー第三５−ビス
（ジメチルベンジル）誘導体。

２２、２−ヒ　０ロ　シベン゛フエん乙例えば４−ヒド
ロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオ
キシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，
２．４−）リメトキシ誘導体。

２、工　場合によ　置　された　のエスケノー 例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス−（４−ｉ三７’チルベン
ゾイル）−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール
２．ａ−ジー第三ブチルフェニル３．５−ジー第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエートおよびヘキサデシル−
３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
。

２．４６　アクリレート 例えばエチルまたはイソオクチルシアノ−ジフェニル−
アクリレート、メチルカルボメトキシシンナメート、メ
チルまたはブチルシアノ−メチル−ｐ−メトキシシンナ
メート、メチルカルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメ
ートおよびＮ−（カルボメトキシ−シアノビニル）−２
−メチルインドリン。

２−５．　ニッケル化合物 例えば２．２−チオ−ビス−（：　４−　（１，１゜３
．３−テトラメチルブチル）−フェノール〕のニッケル
錯体、例として１：１または１：２錯体（所望により付
加配位子例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミ
ンまたはＮ−シクロヘキシルジェタノールアミン全有し
てよい）、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−
ヒドロキシ−３，５−ジー第三ブチルベンジルホスホン
酸モノアルキルエステル例えばメチルまたはエチルエス
テルのニッケル塩、ケトオキシム例、ｔば２−ヒドロキ
シ−４−メチルフェニルウンデシルケトンオキシムのニ
ッケル錯体および所望により付加配位子を含んでよい１
−７二二ルー４−２ウロイル−５−ヒドロキシピラゾー
ルのニッケル錯体。

２、＆　立体障害アミン ビス−（２，２，６，６−チトラメチルービベリジル）
−セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−セバケート、ｎ−ブチル−３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
−エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコノヘク酸
との縮合物、Ｎ、付−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−へキサメチレンジアミンと４−第
三オクチルアミノ−２，６−ジクｐルー１．３．５−Ｂ
−）リアジンとの縮合物、トリス−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−ニトリロトリアセテ
ート、テトラキス−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，２ｊ、４−ブタンテトラカルボ
ン酸、１゜１−（１，２−エタンジイル）−ビス−（５
，５゜５．５−テトラメチル−ピペラジノン）Ｃ２、Ｚ
　シュウ酸ジアミド 例えば４．４−ジ−オクチルオキシオキサニジ−第三ブ
チルオキサニリド、２．２−ジ−ドデシルオキシ−５，
５−ジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２−
エチルオキサニリド、Ｎ、＊−ビス−（５−ジメチルア
ミノプロピル）−オキサミド、２−エトキシ−５−第三
ブチル−２′−エチルオキサニリドおよびこれと２−エ
トキシ−２−エテル−ｂ、Ｑ−シー第ニブチル−オキサ
ニリドとの混合物、ならびにオルト・−゛メ゛トキシお
よびパラーメトキシニ置換オキサニリドの混合物および
０−エトキシおよびｐ−エトキシニ置換オキサニリドの
混合物。

＆　金属不活性化剤 例えばＮ・浸−ジジェニルオキサミド、Ｎ−プリチラー
ルーＮ−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ−ビスサリチ
ロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ−に’Ｘ（３，５−ジー第三
ブチル−４−ヒトロキシフェニルグロピオニル）−ヒド
ラジン、３−サリチ四イルアミノ−１，２，４−）リア
ゾールおよびビスーベンジリデンシュウ酸ジヒドラジド
。

未　ホスフィツトおよびホスフィツト 例えばトリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ルーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−（
２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイ
ンデシルーペンタエリトリトールジホスフィット、ジー
（２，４−ジー第三ブチルフェニル）−ヘンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトール
トリホスフィツトおよびテトラキス−（２，４−ジー第
三ブチルフェニル）４，４−ピフエニレンージホスホニ
イット。

＆　過酸化物を分解する化合物 例えばチオ−ジプロピオン酸のエステル、例としてラウ
リルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエステ
ルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダ
ゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、
ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジス
ルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス−（ド
デシルメルカプト）−プロピオネート、＆　ポリアミド
安定剤 例えばヨウ化物および／またはリン化合物と結合した銅
塩および二価のマンガンの塩。

ｌ　塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタンならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばＣａステアレー）、Ｚｎステアレート、Ｍｇステア
レート、Ｎａ　リシルレート、Ｋパルミテート、アンチ
モンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート。

ａ　核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸またはジフ
ェニル酢酸。

２　充填剤及び強化剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸、ガラス穢維、アスベスト
、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物
及び金属水酸化物、カーボンブラック、無鉛。

１αその他の添加物 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤
、静電防止剤または発泡剤。

これらのタイプの安定剤を使用する場合、相別作用が起
こり得る。酸化防止剤の補助的な使用はポリオレフィン
及びスチレンポリマーの場合には特に重要である。

この方法で安定化されたポリマーは種々の形態で、例え
はフィルム、繊維、テープ、形材もしくは弾性成形物と
して使用し得る。

下記の実施例により、本発明による化合物の製造方法及
び使用法をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの
実施例に限定されるものではない。部及び俤は重量によ
る。温度は℃で示す。

実施例１ ２−クロロ−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサ
ホスホリナン１ａ４！ｌ１４−ブチルアミノ−１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン１９７１？（０，
１モル）をトリエチルアミン１００４に溶解した溶液に
室温で攪拌しながら滴下する。

還流温度で１５時間加熱した後、混合物をトルエンで希
釈し、沈殿した塩酸塩をν去する。ｐ液を蒸発させ、沸
点１２０℃／４０ｐａの油状物質として２−〔Ｎ−ブチ
ル（１，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジ
ル）アミノ］−５，５−ジメチル−１，５，２−ジオキ
サホスホリナンを得る。（化合物屋１） 化合物１の製造方法と同様の方法により、４−ブチルア
ミノ−２，２，６，６−チトラメチルビベリジンを用い
ると、沸点１００℃１０．０４ｍ１Ｉの２−〔Ｎ−ブチ
ル（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル〕
アミン）−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホ
スホリナンが油状物質として得られる。（化合物＆２） 分析値（分子量５４４．４Ｂ　）：　ｐの計算値。

ａ９９チ、実測値９，１６チ 同様の方法により％Ｎ、Ｎ−ビス（１，２，２゜６．６
−ベンタメチルー４−ピペリジル）へキサメチレンジア
ミン２１．１．Ｐｉ用いることによシ、Ｎ、Ｎ−ビス（
５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン
−２−イル）−Ｎ、Ｎ−ビス（１，２，２，６，６−ベ
ンタメチルー４−ピペリジル）へキサメチレンジアミン
が得られる。

アセトニトリルで再結晶した後の融点は１０３℃である
。（化合物Ａ３） 同様の方法により、アミンとしてＮ、Ｎ−ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）トリメチレ
ンジアミンを使用することに−より融点１０２℃のＮ、
Ｎ−ビス（５，５−ジメチル−１，５，２−ジオキサホ
スホリナン−２−イル）−Ｎ、Ｎ−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）トリメチレンジア
ミンが得られる。（化合物ム４） 同様の方法により、Ｎ、Ｎ−ビス（２，２，６゜６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−へキサメチレンジアミ
ンを用いて融点１０５℃のＮ、Ｎ−ビス（５，５−ジメ
チル−１，５，２−ジオキサホスホリナン−２−イル）
−Ｎ、Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）へキサメチレンジアミンが得られる。（化
合物Ａ５） 同様の方法により、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）アミンを用いて融点１５６℃の５
．５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−
２−イルビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）アミンが得られる。（化合物墓６） また、２−クロロ−５，５−ジメチル−１゜３．２−ジ
オキサホスホリナン１＆８９とビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）アミン２９６ｐとを溶
媒を使用せずに１５０℃で３時間反応させるととＫよっ
ても同じ化合物が得られる。冷却後反応混合物全トルエ
ンで処理し、アンモニア水溶液で抽出し、そしてトルエ
ンを留去する。

同じ化合物は２−クロロ−５，５−ジメチル−１，３，
２−ジオキサホスホリナンとビス（２゜２、６．６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）アミンの等モル量をトル
エン中、還流状態で１５時間反応させ、続いて得られた
塩を１０％の水酸化カリウム水溶液で解離することによ
っても得られる。

実施例１ａ 実施例１と同様の方法により、２−クロロ−５，５−ジ
メチル−４−イソプロピル−１，３゜２−ジオキサホス
ホリナンＴｈＮ、Ｎ−ビス（２・２、６．６−テト２メ
チル−４−ピペリジル）へキサメチレンジアミンと反応
させることにより融点９５〜９７℃のＮ、Ｎ−ビス（５
，５−ジメチル−４−イソプロピル−１，３，２−ジオ
キサホスホリナン−２−イル）−Ｎ、Ｎ−ビス−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）へキサメ
チレンジアミンが得られる。（化合物Ａ７） 分析値（分子量７４１．００）：Ｐ（７）計算値１１に
３６％、実測値＆３２％。

同様の方法により、２−クロロ−５，５−ジメチル−４
−イソプロピル−１，３，２−シ、ｔ−１ｆ−サホスホ
リナン及び４−ブチルアミノ−２，２゜６．６−チトラ
メチルピベリジンから融点１３９ないし１４１℃の５．
５−ジメチル−４−イソプロピル−１，３，２−ジオキ
サホスホリナン−２−イルビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−アミンが得られる。（化
合物扁８） 分析値（分子量４６９．６７）：ｐの計算値６．５９俤
、実測値６．５９％。

実施例２ ３．９−ジクｐロー２．４．８．１０−テトラオキサ−
３，９−ジホス７アスピロ（５，５）ウンデカン２６．
５１１ｆキシレン６ｏＩＲ１に溶解した溶液をビス（２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミン
５９．１１Ｆｉ）リエチルアミン１２０ｄに溶解した溶
液にゆっくり滴下する＠その後、混合物を２０時間加熱
還流した後キシレンで希釈し、塩酸塩ＴｈＦ去し、キシ
レンを留去する。残渣として３．９−ビス［ビス（２，
２゜６．６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ］
−２．４，８．１０−テトラオキサ−３，９−ジホスフ
アスピロ（５，５）ウンデカンを得る。

カラムクロマトグラフィーで精製した後の融点は２６５
℃である、（化合物Ａ９） 同様の方法によＦ）、３．９−ジクロロ−２゜４、８．
１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスビロ（５，
５）ウンデカン及び相当するアミノピペリジンから第１
表に挙げた化合物を製造する。

第１表 化合物　Ｒ＊　Ｒ４特　性 ム ｔｏ　Ｈシクロヘキシル　融点１８４ｅ１２　Ｈｎ−ブ
チル　融点１４６６ １６　Ｈエチル　融点１３４゜ １８　ＣＨｓｎ−７°チル　融点１４８ｃ１９　ＣＨｓ
イソブチル　融点１３１゜実施例３ 実施例２と同様の方法により、１．６−ビス（２−クロ
ロ−５−エチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−
５−イル）−２−オキサプロパンを４−ブチルアミノ−
２，２，６，６−テトラメチルビベリジンと反応させる
と、粘稠性の樹脂として１．６−ピスＣ２−ＣＮ−ブチ
ル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）アミノ）−５−エチル−１，３，２−ジオキサホ
スホリナン−５−イルツー２−オキサプロパンが得られ
る。（化合物Ａ２２、下記式中Ｒ３がＨを表わすもの） ＦＤ−ＭＳ　：　７３０　（Ｍ”　） 分析値（分子量７３１．２１　）：　ｐの計算値ａ４８
チ、実測値３８６チ 同様の方法により、上記の反応においてアミンとして４
−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピ
ペリジンを使用すると樹脂として１．３−ビス（２−（
Ｎ−ブチル（１，２，２゜６．６−ベンタメチルー４−
ピペリジル）アミノ）−５−エチル−１，３，２−ジオ
キサホスホリナン−５−イルツー２−オキサプロパンが
得られる。（化合物煮２３、上記式中Ｒ３がＣＨｓ　ｋ
表わす化合物） 分析値（７５９，０２）：　Ｐ（７）計算値＆１６％、
実測値ａ１５チ 実施例４ Ｎ−ドデシル（１，２，２，６，６−ベンタメチルー４
−ピペリジル）−アミン１５９及び２−ジエチルアミノ
−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナ
ン？、　１　Ｆ　’ｉ触媒量の水素化リチウムと共に減
圧下（２４００Ｐａ）、１００℃で３時間加熱する。

反応混合物を高度真空蒸留する。これにより沸点１８５
℃／αＩＰａにおける留分として２−〔Ｎ−ドデシル（
１，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジル〕
アミン）−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホ
スホリナンが得られる。（化合物Ａ２４） 分析値：Ｐの計算値＆５Ｂ９Ｊ、実測値６．５０％実施
例５ メルトインデックスが１．７〜１３（１９０℃７２　ｔ
　６　ｋｇの条件で）の高密度ポリエチレン末１００部
をペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ
ー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト３１０５部及び下記の表に示した本発明による化合物
α１部と混合し、その混合物をブラベンダーのプラスト
グラフ（Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ　ｐＪａｓｔｇｒａｐｈ）
中、２２０℃、５０ｒｐｍで混練する。混線抵抗性を各
期間の捩りモーメントとして持続的に記録する。混線の
過程で、ポリマーは比較的長い間未変化の状態を保った
後架橋し始める。架橋は捩ジモーメントの急速な増加と
して検出され得る。捩りモーメントが著しく増加するま
での時間全安定化作用の示標として下記の表に示す。

第２表 化合物Ａ　時間（分） １　１１ ３　１５ ４　１５ ５　１２ ６　１９ １０　１０ ２４　１２ なし　５ 実施例６ メルトインデックス（２５０°Ｃ／２．１６ｋｇの条件
による）が２．３のポリプロピレン粉末１００部をステ
アリン酸カルシウムα１部、ペンタエリトリトールテト
ラキス［３−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）グロビオネ−）　］ｌＱＳ部及び第６表に
示す安定剤０．０２５またはａＯＳ部と混合する。

これらの混合物を、一方は最高温度２６０℃で連続して
５回、もう１方は２８０℃で連続して６回、各々１００
回転の単軸押出機から押出す。各試験において、第１回
、第３回及び第５回の押出後または第１回及び第３回の
押出後に、荷重２１６０１／、温度２３０℃並びに測定
単位２７１０分によるメルトインデックスを測定する。

ポリマーの劣化はメルトインデックスの増加として示さ
れる。

第３表 実施例７ メルトインデツクス２．３（２３０℃／２．１６ｋｇ）
のポリプロピレン末１００部をペンタエリトリトールテ
トラキス（３−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−プロピオネート３１０５部及び表に挙
げた化合物α０５部と混合し、そして該混合物を押出機
中、２００ないし２２０℃で粒状化する。粒状化された
材料を押出機中、スロットダイを用いてフィルムを形成
しそのフィルムを切断してテープを製造する、フィルム
テープの長さ全６倍に伸はす。得られたテープは幅２．
５龍及び厚さ５０μｍである。テープは破壊点での引張
強さが暴露前の値の半分になるまでキセノンデス）　１
２００により暴露する。

暴露時間は安定剤による光安定性の示標となる。

第４表 ２　２４６０ ４　５１５０ ５　２８００ なし　６３０ 特許　出　願　人　チバーガイギー アクチェンゲゼルシャフト （ほか１名） 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、Ｃ１，’　識別記号　庁内整理番号Ｃ０８Ｋ
　５／４１　ＣＡＢ　６６８１−４Ｊ５１５１　ＣＡＢ
　６６８１−４Ｊ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式Ｉまたは■ 〔式中、 ｍは１または２を表わし、 Ａは炭素原子ａ２ないし８０分枝鎖もしくは直鎖の１，
   ２−もしくは１，５−アルキレン基、または心−７エニ
   レン基を表わし、 Ｂは次式ＩＩＩまたはｌｌａ　： Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ１は水素原子
   、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３
   ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のアル
   アルキル基、炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基
   、炭素原子＃！Ｌ３ないし６のフルケノイル基、ベンゾ
   イル基またはシアノメチル基を表わし、Ｒ２は、ｍが１
   を表わす場合は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、
   炭素原子数５ないし１４のアルコキシアルキル基、炭素
   原子数４ないし１２のジアルキルアミノアルキル基、炭
   素原子数５ないし１２の７クロアルキル基、炭素原子数
   ７ないし９のフルアルキル基、炭素原子数６ないし１０
   のアリール基、炭素原子数７ないし２０のアルカリール
   基または次式■：で表わされる基を表わし、ｍが２ｆｔ
   表わす場合は炭素原子数２ないし２０のアルキレン基、
   １個以上の酸素原子、−Ｎ（炭素原子数１ないし４で表
   わされる基を介在させた炭素原子数４ないシ１　？Ｄア
   ルキレン基、シクロヘキシレン基、キシリレン基、フェ
   ニレン基、または次式：（式中、Ｚは一〇−，−ＣＨ２
   −もしくは−ＳＯ，−を表わす）で表わされる基を表わ
   し、 Ｒ３は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基
   、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７
   ないし９のフルアルキル基、炭素原子数２ないし１２の
   アルカノイル基、炭素原子数３ないし６のアルケノイル
   基、ベンゾイル基またはクアノメチル基金表わ′し、Ｒ
   ４は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数
   ３ないし１４のアルコキシアルキル基、炭素原子数４な
   いし１２のジアルキルアミノアル午ル基、炭素原子数７
   ないし９の１ルアルキル基、炭素原子数６ないし１０の
   アリール基、炭素原子数７ないし２０のアルカリール基
   、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または式
   ■の基を表わし、 そしてＲ５は水素原子またはメチル基を表わす〕で表わ
   される化合物。
2. （２）上記式１または■中、 Ａが分枝鎖の１，２−または１，３−アルキレン基を表
   わし、 Ｂが弐■の基を表わし、 Ｒが水素原子を表わし、 Ｒ１が水素原子、メチル基、アリル基、ベンジル基また
   はアセチル基を表わし、 Ｒ２が炭素原子数１ないし１８のアルキル癌、式■の基
   または炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を表わし
   、 Ｒ３は水素原子、メチル基、アリル基、ベンジル基また
   はアセチル基を表わし、そしてＲ４は炭素原子数１ない
   し１８のアルキル基または式■の基を表わす特許請求の
   範囲第１項記載の化合物。
3. （３）上記式Ｉまたは■中、 Ａが分枝した１、３−プロピレン基を表わし、Ｂが弐■
   の基金表わし、 Ｒが水素原子全表わし、 Ｒ１及びＲ３が水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ２
   が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、弐■の基また
   は炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、そし
   て Ｒ４が炭素原子数１ないし１２のアルキル基または式■
   の基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
4. （４）上記式ｌまたは■中、 Ａが次式：　−ＣＩ（（Ｒ’）−Ｃ（ＣＨａ）ｚ−ＣＨ
   ｚ−（式中、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１ないし
   ４のアルキル基を表わす）で表わされる基を表わす特許
   請求の範囲第６項記載の化合物。
5. （５）　次式： で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合物。
6. （６）　次式ｌまたはＩＩ： Ｃ式中、 ｍは１または２を表わし、 Ａは炭素原子数２ないし８の分枝鎖もしくは直鎖の１，
   ２−もしくは１，３−アルキレン基、または０−フ二二
   しン基を５表わし、 Ｂは次式ｍもしくは■ａ： Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ１は水素原子
   、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３
   ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のアル
   アルキル基、炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基
   、炭素原子数３ないし６のアルケノイル基、ベンゾイル
   基またはシアノメチル基を表わし、Ｒ２はｍが１を表わ
   す場合は、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素
   原子数３ないし１４のアルコキシアルキル基、炭素原子
   数４ないし１２のジアルキルアミノアルキル基、炭素原
   子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７な
   いし９のアルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のア
   リール基、炭素原子数７ないし２０のアルカリール基ま
   たは次式■：で表わされる基を表わし、ｍが２を表わす
   場合は、炭素原子数２ないし２０のアルキレフ基、で表
   わされる基を介在させた炭素原子数４ないし１２の１ル
   キレン基、シクロヘキシレン基、わす）で表わされる基
   を表わし、 Ｒ３は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基
   、炭素原子数３ないし５のアルクニル基、炭素原子数７
   ないし９のアルアルキル基、炭素原子数２ないし１２の
   アルカノイル基、炭素原子数３ないし６のアルケノイル
   基、ベンゾイル基またはシアノメチル基を表わし、Ｒ４
   は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数６
   ないし１４のアルコキシアルキル基、炭素原子数４ない
   し１２のジアルキルアミノアルキル基、炭素原子数７な
   いし９のアルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のア
   リール基、炭素原子数７ないし２０のアルカリール基、
   炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または前記
   式■の基を表わし、そしてＲ５は水素原子またはメチル
   基金表わす〕で表わされる化合物の少なくとも一種をα
   ００５ないし５重量％含有する安定化有機ポリマー。
7. （７）有機ポリマーがポリオレフィン及びスチレンポリ
   マーである特許請求の範囲第６項記載の安定化有機ポリ
   １−０