JPS60208473A - 人工ダイヤモンド被覆工具部材 - Google Patents
人工ダイヤモンド被覆工具部材Info
- Publication number
- JPS60208473A JPS60208473A JP6302684A JP6302684A JPS60208473A JP S60208473 A JPS60208473 A JP S60208473A JP 6302684 A JP6302684 A JP 6302684A JP 6302684 A JP6302684 A JP 6302684A JP S60208473 A JPS60208473 A JP S60208473A
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- JP
- Japan
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- artificial diamond
- tool
- cermet
- vapor deposition
- forming
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Punching Or Piercing (AREA)
- Metal Extraction Processes (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、少なくとも工具作用面が人工ダイヤモンド
皮膜で被覆された、切削工具や耐摩耗工具などの工具部
材に関するものである。
皮膜で被覆された、切削工具や耐摩耗工具などの工具部
材に関するものである。
従来、一般に切削工具部材や、穴明はパンチ。
ドリル、リーマ、さらに線引ダイスなどの耐摩れ工具部
材の製造に炭化タングステン（ＷＣ）基超硬合金や炭化
チタン（ｉ’ ｉ Ｃ）基シーノット、さらに窒化チタ
ン（丁’ｉＮ）基ヤーメソトや炭窒化チタン（ＴｉｃＮ
）基ザーメットなどのサーノノトが用いられている。
材の製造に炭化タングステン（ＷＣ）基超硬合金や炭化
チタン（ｉ’ ｉ Ｃ）基シーノット、さらに窒化チタ
ン（丁’ｉＮ）基ヤーメソトや炭窒化チタン（ＴｉｃＮ
）基ザーメットなどのサーノノトが用いられている。
これらのサーメット製丁具部ＪＡハ、比較的ｔぐれた耐
摩耗性をもつことから、実用に際しては良好な使用寿命
を示すものである。
摩耗性をもつことから、実用に際しては良好な使用寿命
を示すものである。
しかし、近年加工能率の向上が強くさけばねるようにな
り、これに伴って工具部材の使用条件も一段と苛酷にな
る傾向にあり、このような状況士では、上記の従来サー
メツト製工具部材は、耐摩耗性不足が原因で、十分満足
する使用寿命を示さないのが現状である。
り、これに伴って工具部材の使用条件も一段と苛酷にな
る傾向にあり、このような状況士では、上記の従来サー
メツト製工具部材は、耐摩耗性不足が原因で、十分満足
する使用寿命を示さないのが現状である。
そこで、本発明者等は、上述のような観点から、より一
段と耐摩耗性のすぐれたサーメツト製工具部材を得べく
研究を行なった結果、ザーノツト製基体部材の少なくと
も工具作用面に、Ｗ 、 ＭＯ、およびＮｂ、並びにそ
の合金のうちのいずれかからなる蒸着層を、通常の化学
蒸着法あるいは物理蒸着法によって形成し、この状態で
、通常の人工ダイヤモンド析出生成法、すなわち反応混
合ガスを加熱し、活性化する手段として、 （ａ） 例えば特開昭５８−９１１００号公報に記載さ
れるような熱電子放射材を用いる方法、（ｂ） 例えば
特開昭５８−１３５１１”号公報に記載されるような高
周波によるプラズマ放電を利用する方法。
段と耐摩耗性のすぐれたサーメツト製工具部材を得べく
研究を行なった結果、ザーノツト製基体部材の少なくと
も工具作用面に、Ｗ 、 ＭＯ、およびＮｂ、並びにそ
の合金のうちのいずれかからなる蒸着層を、通常の化学
蒸着法あるいは物理蒸着法によって形成し、この状態で
、通常の人工ダイヤモンド析出生成法、すなわち反応混
合ガスを加熱し、活性化する手段として、 （ａ） 例えば特開昭５８−９１１００号公報に記載さ
れるような熱電子放射材を用いる方法、（ｂ） 例えば
特開昭５８−１３５１１”号公報に記載されるような高
周波によるプラズマ放電を利用する方法。
（ｃ） 例えば特開昭５８−１１０４９４号公報に記載
されるようなマイクロ波によるプラズマ放電を利用する
方法、 以上（ａ）〜（ｃ）のいずれかの方法によって処理する
と、上記蒸着層上には人工ダイヤモンド皮膜がきわめて
強固な密着力で析出生成するようになり、しかもこの人
工ダイヤモンド皮膜は、天然ダイヤモンドや超高圧高温
合成により製造した人工ダイヤモンドと同等の性質を有
し、著しく硬質であることから、これを工具部材として
実用に供した場合にはすぐれた耐摩耗性を示し、きわめ
て長い使用寿命が確保できるという知見を得たのである
。
されるようなマイクロ波によるプラズマ放電を利用する
方法、 以上（ａ）〜（ｃ）のいずれかの方法によって処理する
と、上記蒸着層上には人工ダイヤモンド皮膜がきわめて
強固な密着力で析出生成するようになり、しかもこの人
工ダイヤモンド皮膜は、天然ダイヤモンドや超高圧高温
合成により製造した人工ダイヤモンドと同等の性質を有
し、著しく硬質であることから、これを工具部材として
実用に供した場合にはすぐれた耐摩耗性を示し、きわめ
て長い使用寿命が確保できるという知見を得たのである
。
この発明は、上記知見にもとづいてなされたものであっ
て、サーメツト製基体部材の少なくとも工具作用面に、
Ｗ、Ｍｏ、およびＮｂ、並びにその合金のうちのいす溺
・らなる平均層厚： ００５〜１２μｍの蒸着層を介し
て、人工ダイヤモンド析出生成法により形成した平均層
厚 ｌ〜ＩＱｐｍの人工ダイヤモンド皮膜を被覆してな
る人工ダイヤモンド被覆工具部材に特徴を有するもので
ある。
て、サーメツト製基体部材の少なくとも工具作用面に、
Ｗ、Ｍｏ、およびＮｂ、並びにその合金のうちのいす溺
・らなる平均層厚： ００５〜１２μｍの蒸着層を介し
て、人工ダイヤモンド析出生成法により形成した平均層
厚 ｌ〜ＩＱｐｍの人工ダイヤモンド皮膜を被覆してな
る人工ダイヤモンド被覆工具部材に特徴を有するもので
ある。
なお、この発明の工具部材において、蒸着層お・よび人
工ダイヤモンド皮膜の平均層厚を上記の通りに限定した
のは、蒸着層においては、０．０５／１ｍの平均層厚で
は工具作用面を均一に被覆することができず、この結果
人工ダイヤモンド皮膜の均一な形成が困難となるからで
あり、一方平均層厚が１．２μｍを越えると、蒸着層自
体が軟質であるため、工具作用面に高負荷がかかった場
合には、これが変形し、人工ダイヤモンド皮膜が剥離す
る原因となり、工具寿命の短命化につながることから。
工ダイヤモンド皮膜の平均層厚を上記の通りに限定した
のは、蒸着層においては、０．０５／１ｍの平均層厚で
は工具作用面を均一に被覆することができず、この結果
人工ダイヤモンド皮膜の均一な形成が困難となるからで
あり、一方平均層厚が１．２μｍを越えると、蒸着層自
体が軟質であるため、工具作用面に高負荷がかかった場
合には、これが変形し、人工ダイヤモンド皮膜が剥離す
る原因となり、工具寿命の短命化につながることから。
その平均層厚を０．０５〜１．２μｍと定めたのであり
、また人工ダイヤモンド皮膜においては、その平均層厚
が１μｍでは所望の耐摩耗性を長期に亘って確保するこ
とが困難であり、一方１０μｍを越えた平均層厚にする
と、人工ダイヤモンド皮膜に剥離現象が現われるように
なることから、その平均層厚を′１〜１０μｍと定めた
のである。
、また人工ダイヤモンド皮膜においては、その平均層厚
が１μｍでは所望の耐摩耗性を長期に亘って確保するこ
とが困難であり、一方１０μｍを越えた平均層厚にする
と、人工ダイヤモンド皮膜に剥離現象が現われるように
なることから、その平均層厚を′１〜１０μｍと定めた
のである。
つぎに、この発明の工具部材を実施例により具体的に説
明する。
明する。
実施例 １
基体部材として、ＣＯ：６重量％を含有し、残りがＷＣ
からなる組成を有する超硬合金（サーメット）で製造さ
れ、かつＩＳＯ規格５ＰＧＮ４２２の形状をもった切削
工具用スローアウェイチップを用意し、捷ず、このチッ
プを、通常の化学蒸着装置に装入し、 反応ガス組成 モルチで、ＷＦ、：４％、ＣＨ３０Ｈ１
５％、Ｈ２：３５％、Ａｒ：残り。
からなる組成を有する超硬合金（サーメット）で製造さ
れ、かつＩＳＯ規格５ＰＧＮ４２２の形状をもった切削
工具用スローアウェイチップを用意し、捷ず、このチッ
プを、通常の化学蒸着装置に装入し、 反応ガス組成 モルチで、ＷＦ、：４％、ＣＨ３０Ｈ１
５％、Ｈ２：３５％、Ａｒ：残り。
反応ガス流量： ２６７ｍ 。
チップ加熱温度、９５０℃。
Ｎ［ハ面ｍｌ ： １０分
の条件で化学蒸着処理を施すことによって、ｉｌ記チッ
プの全体面に５平均層厚、０２μｍのＷ蒸着層を形成し
、引続いて、このＷ蒸着層形成後のチップを、反応混合
ガスを加熱し、活慴化する手段として、例えばＷ製フィ
ラメントの熱電子放射材を用いる、特開昭５８−９１１
００号公報に記載されるような人工ダイヤモンド析出生
成装置に装入し、 反応容器°外径１２０８φの石英管。
プの全体面に５平均層厚、０２μｍのＷ蒸着層を形成し
、引続いて、このＷ蒸着層形成後のチップを、反応混合
ガスを加熱し、活慴化する手段として、例えばＷ製フィ
ラメントの熱電子放射材を用いる、特開昭５８−９１１
００号公報に記載されるような人工ダイヤモンド析出生
成装置に装入し、 反応容器°外径１２０８φの石英管。
反応混合ガス組成 ＣＨ４／Ｈ２−１／１００゜熱電子
放射材とチップ表面との距離：１５ｍｘ。
放射材とチップ表面との距離：１５ｍｘ。
反応容器内雰囲気圧力 ３ ｔｏｒｒ 。
熱電子放射材の加熱温度： ２０００℃。
熱電子放射材によるチップ表面の加熱温度。
７００ ℃。
反応処理時間°１５時間。
の条件で処理することによって、上記チップ表面のＷ蒸
着層上に平均層厚、３μｍの人工ダイヤモンド皮膜を被
覆形成した。
着層上に平均層厚、３μｍの人工ダイヤモンド皮膜を被
覆形成した。
ついで、この結果得られた本発明人工グイヤモンド被覆
スローアウェイチップと、上記の蒸着層および人工ダイ
ヤモンド皮膜の形成を行なわない上記組成のスローアウ
ェイチップについて、被削拐：ンルミン（Ｓｉ：１１重
量％、ＡＱ：残りの組成を有するＡ２合金）。
スローアウェイチップと、上記の蒸着層および人工ダイ
ヤモンド皮膜の形成を行なわない上記組成のスローアウ
ェイチップについて、被削拐：ンルミン（Ｓｉ：１１重
量％、ＡＱ：残りの組成を有するＡ２合金）。
切削速度 １ｏｏｏｍ／曜。
送り：ｏｌｙ／刃。
切込み、ＩＭ。
の条件で連続高速切削試験を行ない、切刃の逃は面摩粍
幅が０．２ ｙに至るまでの切削時間を測定したところ
、」二記の人工ダイヤモンド皮膜および蒸着層の形成が
ないスローアウェイチップは、２分の切削時間しか示さ
ないのに対して、本発明人工ダイヤモンド被覆スローア
ウェイチップは１８分を示し、すぐれた耐摩耗性をもつ
ことが明らかである。
幅が０．２ ｙに至るまでの切削時間を測定したところ
、」二記の人工ダイヤモンド皮膜および蒸着層の形成が
ないスローアウェイチップは、２分の切削時間しか示さ
ないのに対して、本発明人工ダイヤモンド被覆スローア
ウェイチップは１８分を示し、すぐれた耐摩耗性をもつ
ことが明らかである。
実施例 ２
基体部材として、’ｌ’ａＣ：１％、 ＴｉＣ： ０．
５％。
５％。
Ｃｏ： ６％、ＷＣ：残りからなる組成（以上重量％）
を有するザーメットで製造され、かつ直径が０９Ｕφの
小径のＩＣ基板穴明は用ドリルを用意し、この小径ドリ
ルに、反応時間を１８分とする以外は実施例１における
と同一の条件で化学蒸着処理を施して、その全長に亘っ
て平均層厚、０３５μｍのＷ蒸着層を形成し、ついで、
これを実施例１におけると同一の人工ダイヤモンド析出
生成条件で処理して、その全長に亘って、前記Ｗ蒸着層
上に平均層厚：３μｍの人工ダイヤモンド皮膜を析出形
成せしめた。
を有するザーメットで製造され、かつ直径が０９Ｕφの
小径のＩＣ基板穴明は用ドリルを用意し、この小径ドリ
ルに、反応時間を１８分とする以外は実施例１における
と同一の条件で化学蒸着処理を施して、その全長に亘っ
て平均層厚、０３５μｍのＷ蒸着層を形成し、ついで、
これを実施例１におけると同一の人工ダイヤモンド析出
生成条件で処理して、その全長に亘って、前記Ｗ蒸着層
上に平均層厚：３μｍの人工ダイヤモンド皮膜を析出形
成せしめた。
つぎに、この結果得られた本発明人工ダイヤモンド被覆
小径ドリル、並びに人工ダイヤモンド皮膜およびＷ蒸着
層の形成がない小径ドリルを用いて、それぞれ１枚の厚
さが０６朋のＳ１゛５重量％含有のエポキシ薄板°５枚
と銅薄板 ５枚の交互積層板からなるＩＣ基板に、ドリ
ル回転速度：８０、 ＯＯＯｒ、ｐｍ、、穴明は速度、
１２０個／分の条件で穴明けを行ない、その使用寿命【
て至る捷での穴明は個数を測定したところ、本発明人工
ダイヤモンド被覆小径ドリルは５２． ＯＯ０個の穴明
けを行なうことができたのに対して、人工ダイヤモン］
゛皮膜および蒸着層の形成がない小径ドリルはわずかに
：（ＯＯ０個で使用寿命に至るものであった。
小径ドリル、並びに人工ダイヤモンド皮膜およびＷ蒸着
層の形成がない小径ドリルを用いて、それぞれ１枚の厚
さが０６朋のＳ１゛５重量％含有のエポキシ薄板°５枚
と銅薄板 ５枚の交互積層板からなるＩＣ基板に、ドリ
ル回転速度：８０、 ＯＯＯｒ、ｐｍ、、穴明は速度、
１２０個／分の条件で穴明けを行ない、その使用寿命【
て至る捷での穴明は個数を測定したところ、本発明人工
ダイヤモンド被覆小径ドリルは５２． ＯＯ０個の穴明
けを行なうことができたのに対して、人工ダイヤモン］
゛皮膜および蒸着層の形成がない小径ドリルはわずかに
：（ＯＯ０個で使用寿命に至るものであった。
実施例 ３
基体部イＡとして、Ｔ１ＣＮ：２０％、ＷＣ：２５％、
Ｃｏ： ５％、 Ｎｌ： ８ ％、ＴｉＮ：残りから
なる組成（以上容素チ）を有するザーメットで製造され
、かつ直径が１ｉｕｑφの小径のＩＣ基板穴明は用ノ（
ンチを用意し、このパンチを、通常のスパッタリング装
置に装入し、 反応容器内の真空度： ２ Ｘ １０− ｔｏｒｒ 。
Ｃｏ： ５％、 Ｎｌ： ８ ％、ＴｉＮ：残りから
なる組成（以上容素チ）を有するザーメットで製造され
、かつ直径が１ｉｕｑφの小径のＩＣ基板穴明は用ノ（
ンチを用意し、このパンチを、通常のスパッタリング装
置に装入し、 反応容器内の真空度： ２ Ｘ １０− ｔｏｒｒ 。
雰囲気：Ａｒ。
反応容器の上部に配置されたＭｏターケ゛ットに印加さ
れる電圧ニー１５００Ｖ。
れる電圧ニー１５００Ｖ。
反応容器の下部に置かれたパンチに印加される電圧ニー
１００Ｖ。
１００Ｖ。
反応時間 ２時間。
の条件で蒸着処理を施すことによって、上記）々ンチの
全長に０．って平均層厚、１μｍのＭｏ蒸着層を被覆形
成し、引続いて、このＭｏ蒸着層で被覆されたパンチを
、反応混合ガスを加熱し、活性化する手段として、高周
波によるプラズマ放電を利用する。特開昭５８−１３５
１１’ｉ’号公報に記載されるような人工ダイヤモンド
析出生成装置に装入し５反応容器 直径１２０ｕφを不
する石英管。
全長に０．って平均層厚、１μｍのＭｏ蒸着層を被覆形
成し、引続いて、このＭｏ蒸着層で被覆されたパンチを
、反応混合ガスを加熱し、活性化する手段として、高周
波によるプラズマ放電を利用する。特開昭５８−１３５
１１’ｉ’号公報に記載されるような人工ダイヤモンド
析出生成装置に装入し５反応容器 直径１２０ｕφを不
する石英管。
反応混合ガス組成０モル比で、ＣＨ４／ Ｈ２／Ａｒ
＝１／３００／３００）。
＝１／３００／３００）。
反応容器内雰囲気圧力ニ ２ ｔｏｒｒ 。
高周波コイルへの印加条件：周波数１３５６ＭＨｚ、出
力５００Ｗ。
力５００Ｗ。
反応時間 １５時間。
の条件で処理することによって、その全長に亘る上記Ｍ
ｏ蒸着層上に平均層厚°３μｍの人工ダイヤモンド皮膜
を析出生成せしめた。
ｏ蒸着層上に平均層厚°３μｍの人工ダイヤモンド皮膜
を析出生成せしめた。
ついで、この結果得られた本発明人工ダイヤモンド被覆
小径パンチと５上記人工ダイヤモンド皮膜およびＭＯ蒸
着層の形成がない小径パンチを用いて、Ｍｇ０２８％、
５ｉ０２ ： ２ ％ 、Ｍ２Ｏ３：残りからなる組
成（以上重量％）を有し、かつ厚さが１韮のＩＣ基板仮
焼結体（仮焼結温度：９００℃）Ｋ、１５０個／分の速
度で穴明けを行ない、使用寿命に至るまでの穴明は個数
を測定したところ、前者のパンチは１２５，０００個の
著しく多数の穴明けを行なうことができたのに対して、
後のパンチは２．０００個の穴明は終了時点で使用寿命
に至るものであった。
小径パンチと５上記人工ダイヤモンド皮膜およびＭＯ蒸
着層の形成がない小径パンチを用いて、Ｍｇ０２８％、
５ｉ０２ ： ２ ％ 、Ｍ２Ｏ３：残りからなる組
成（以上重量％）を有し、かつ厚さが１韮のＩＣ基板仮
焼結体（仮焼結温度：９００℃）Ｋ、１５０個／分の速
度で穴明けを行ない、使用寿命に至るまでの穴明は個数
を測定したところ、前者のパンチは１２５，０００個の
著しく多数の穴明けを行なうことができたのに対して、
後のパンチは２．０００個の穴明は終了時点で使用寿命
に至るものであった。
実施例 ４
基体部拐として、Ｔｌｃ： ０５％、Ｖ Ｃ： ０．５
％。
％。
００５％、ＷＣ：残りからなる組成（重量％）を有する
超硬合金（ザーメット）で製造され、かつ直径が１０Ｕ
φのＩＣ基板穴明は用リーマを用意し、このリーマを、
通常のイオンブレーティング装置に装入し、 反応容器の真空度： ５ Ｘ １０−’ｔｏｒｒ 。
超硬合金（ザーメット）で製造され、かつ直径が１０Ｕ
φのＩＣ基板穴明は用リーマを用意し、このリーマを、
通常のイオンブレーティング装置に装入し、 反応容器の真空度： ５ Ｘ １０−’ｔｏｒｒ 。
反応容器内の底部に配置されたＮｂ蒸発源へ照射される
電子ビームの出カニ１５ＫＶ−０，２２Ａ。
電子ビームの出カニ１５ＫＶ−０，２２Ａ。
反応容器内の上部に配置されたリーマへの印加電圧・電
流ニー２００Ｖ、２００ｍＡ。
流ニー２００Ｖ、２００ｍＡ。
リーマの先端部工具作用面の加熱温度： ３００℃。
反応時間：１時間。
の条件で蒸着処理を施すことによって、前記リーマの工
具作用面に、平均層厚、０８μｍのＮｂ蒸着層を形成し
、引続いて、このＮｂ蒸着層形成のり一マを、反応混合
ガスを加熱し、活性化する手段として、マイクロ波によ
るプラズマ放電を利用する、特開昭５８−１１０４９４
号公報に記載されるような人工ダイヤモンド析出生成装
置に装入し、反応容器：直径１２０ｕφの石英管。
具作用面に、平均層厚、０８μｍのＮｂ蒸着層を形成し
、引続いて、このＮｂ蒸着層形成のり一マを、反応混合
ガスを加熱し、活性化する手段として、マイクロ波によ
るプラズマ放電を利用する、特開昭５８−１１０４９４
号公報に記載されるような人工ダイヤモンド析出生成装
置に装入し、反応容器：直径１２０ｕφの石英管。
反応混合ガス組成、容量割合で ＣＨ４／Ｈａ／Ａｒヰ
１／１００／１０ 。
１／１００／１０ 。
反応容器内の雰囲気圧力ニ １ ｔｏｒｒ 。
マイクロ波：２．４５０Ｈ２゜
反応時間ニア時間。
の条件で処理することにより、上記リーマの先端部工具
作用面における上記Ｎｂ蒸着層の上に平均層厚：２μｍ
の人工ダイヤモンド皮膜を被覆形成せしめた。
作用面における上記Ｎｂ蒸着層の上に平均層厚：２μｍ
の人工ダイヤモンド皮膜を被覆形成せしめた。
この結果得られた本発明人工ダイヤモンド被覆リーマと
、上記のＮｂ蒸着層および人工ダイヤモンド皮膜の形成
がないリーマについて、実施例２におけると同一の条件
でＩＣ基板の穴明けを行なったところ、前者のり−マは
、使用寿命に至るまでに９６００個の穴を明けることが
できたのに対して、後者のリーマは１１５個の穴を明け
た時点で使用寿命に至るものであった。
、上記のＮｂ蒸着層および人工ダイヤモンド皮膜の形成
がないリーマについて、実施例２におけると同一の条件
でＩＣ基板の穴明けを行なったところ、前者のり−マは
、使用寿命に至るまでに９６００個の穴を明けることが
できたのに対して、後者のリーマは１１５個の穴を明け
た時点で使用寿命に至るものであった。
上述のように、この発明の人工ダイヤモンド被覆工具部
拐は、強固な密着力で結合した人工ダイヤモンド皮膜に
よって耐摩耗性が著しく向上したものとなっており、し
たがって、これを切削工具部拐や耐摩耗上具部拐として
適用した場合には長期に白ってすぐれた性能を発揮する
ようになるなど１：業上有用な特性を有するのである。
拐は、強固な密着力で結合した人工ダイヤモンド皮膜に
よって耐摩耗性が著しく向上したものとなっており、し
たがって、これを切削工具部拐や耐摩耗上具部拐として
適用した場合には長期に白ってすぐれた性能を発揮する
ようになるなど１：業上有用な特性を有するのである。
出願人 三菱金属株式会社
代理人 富 １） 和 夫 外１名
Claims (1)
- ザーメット製基体部拐の少なくとも工具作用面に、Ｗ
、 Ｍｏ 、およびＮｂ、並びにその合金のうちのいす
嵩らなる平均層厚 ０．０５〜１２μｍの蒸着層を介し
て、人工ダイヤモンド析出生成法により形成した平均層
厚 １〜１０μｍの人工ダイヤモンド皮膜を被）夏して
なる人工ダイヤモンド被覆工具部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6302684A JPS60208473A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 人工ダイヤモンド被覆工具部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6302684A JPS60208473A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 人工ダイヤモンド被覆工具部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60208473A true JPS60208473A (ja) | 1985-10-21 |
| JPS6315347B2 JPS6315347B2 (ja) | 1988-04-04 |
Family
ID=13217403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6302684A Granted JPS60208473A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 人工ダイヤモンド被覆工具部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60208473A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6115972A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-24 | サントレード リミテイド | 超硬コーチングを有する物体 |
| JPS61270373A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-11-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンド被覆超硬合金 |
| JPS6399102A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-30 | Asahi Daiyamondo Kogyo Kk | 被覆タングステン工具 |
| JPH01244707A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Mitsubishi Metal Corp | 人工ダイヤモンドコートの金および金合金製装飾品 |
| JPH01244705A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Mitsubishi Metal Corp | 人工ダイヤモンドコートの金合金製装飾品 |
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| JPS6315347B2 (ja) | 1988-04-04 |
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