JPS60205207A - アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置 - Google Patents
アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置Info
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- JPS60205207A JPS60205207A JP6396184A JP6396184A JPS60205207A JP S60205207 A JPS60205207 A JP S60205207A JP 6396184 A JP6396184 A JP 6396184A JP 6396184 A JP6396184 A JP 6396184A JP S60205207 A JPS60205207 A JP S60205207A
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- electron beam
- measured
- scanning
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明はｉＣ用ウニ・・などの試料表面に刻印された試
料位置検出用のアライメントマークを自動的に検出し、
かつ、その中心位置を精密に測定できるようＫしたアラ
イメント位置測定方法およびその装置に関する。
料位置検出用のアライメントマークを自動的に検出し、
かつ、その中心位置を精密に測定できるようＫしたアラ
イメント位置測定方法およびその装置に関する。
（ロ）従来技術
一般に、ＩＣ用ウェハなどでは試料位置検出用のアライ
メントマークが刻印されることがある。
メントマークが刻印されることがある。
このアライメントマークはＩＣ焼付時やウエノ・切出し
時などにおいて試料の位置合せの基準を与えるものであ
り、従って、試料を所定位置に設定するためにはアライ
メントマークを検出して、その位置を精密に測定するこ
とが必要となる。
時などにおいて試料の位置合せの基準を与えるものであ
り、従って、試料を所定位置に設定するためにはアライ
メントマークを検出して、その位置を精密に測定するこ
とが必要となる。
従来、このようなアライメントマークの位置を測定する
には、光学顕微鏡や走査形電子顕微鏡（ＳＫＭ）ｆ：適
用し、観察される像にカーソル線を重ね合わぜるなとし
て行なわれている。この場合、光学顕微鏡では分解能が
不充分でアライメントマークの測定精度に限界がある。
には、光学顕微鏡や走査形電子顕微鏡（ＳＫＭ）ｆ：適
用し、観察される像にカーソル線を重ね合わぜるなとし
て行なわれている。この場合、光学顕微鏡では分解能が
不充分でアライメントマークの測定精度に限界がある。
ＳＥＭは分解能に問題はないが、５ＥｂＪ象から７ライ
メントマークの位置を測定しようとすれば画像信号とし
て多ｍ゛のデータを取扱わねばならず大容量のコンピュ
ータが必要となる。これらのために、未だアライメント
マークの測定に対して自動化が図れておらず、従って、
アライメントマーク位置測定は常に時間がかかり測定作
業も煩雑になるという難点が残されている。
メントマークの位置を測定しようとすれば画像信号とし
て多ｍ゛のデータを取扱わねばならず大容量のコンピュ
ータが必要となる。これらのために、未だアライメント
マークの測定に対して自動化が図れておらず、従って、
アライメントマーク位置測定は常に時間がかかり測定作
業も煩雑になるという難点が残されている。
（ハ） 目的
本発明は従来のかかる問題点を解決し、アライメントマ
ークの検出とその位置の測定とを精密に、かつ、自動的
に行なえるようにすることを目的とする。
ークの検出とその位置の測定とを精密に、かつ、自動的
に行なえるようにすることを目的とする。
に）構成
本発明はこのような目的を達成するため、表面にアライ
メントマークが形成された被測定物に対して電子ビーム
を光軸を中心として円形走査するとともに、この走査円
の径を順次大きくして前記被測定物のアライメントマー
クを検出し、次いで、電子ビームを逆向きに円形走査し
てホコリ、キズ等による検出誤りを判別する第１ステツ
プと、この第１ステツプで検出したアライメントマーク
の検出データに基づきアライメントマークを前記光軸に
向って移動させ、続いて電子ビームを直交走査して前記
光軸とアライメントマークとの距離を測定する第２ステ
ツプと、この第２ステツプで測定した光軸とアライメン
トマーク間の距離データに基づきアライメントマークを
光軸に向ってさらに接近させ、次いで電子ビームを再び
円形走査してこの走査円とアライメントマークとの交叉
位置を検出し、この検出データに基づきアライメントマ
ークの中心位置をめる第３ステツプとを順次行なうよう
圧している。また、このために使用するアライメントマ
ーク位置測定装置としては、表面にアライメントマーク
が形成された被測一定物忙照射する電子ビームを偏向さ
せる直交２方向に配置された偏向手段と、この偏向手段
に正弦波信号ならびＫこの正弦波信号と同期して位相が
９０°異なる余弦波信号とをそれぞれ与える正弦波、余
弦波の各発生器と、前記各偏向手段九ランプ波を与える
ランプ波発生器と、前記被測定物が載置される試料ステ
ージを水平移動するステージ駆動手段と、被測定物から
放射される反射電子を検出する検出器と、前記正弦波、
余弦波およびランプ波の各発生器の出力を制御するとと
もに前記検出器から出力されるアライメントマークの検
出信号に基づき前記ステージ駆動手段の動作を制御する
制御回路とを備えていることを特徴としている。
メントマークが形成された被測定物に対して電子ビーム
を光軸を中心として円形走査するとともに、この走査円
の径を順次大きくして前記被測定物のアライメントマー
クを検出し、次いで、電子ビームを逆向きに円形走査し
てホコリ、キズ等による検出誤りを判別する第１ステツ
プと、この第１ステツプで検出したアライメントマーク
の検出データに基づきアライメントマークを前記光軸に
向って移動させ、続いて電子ビームを直交走査して前記
光軸とアライメントマークとの距離を測定する第２ステ
ツプと、この第２ステツプで測定した光軸とアライメン
トマーク間の距離データに基づきアライメントマークを
光軸に向ってさらに接近させ、次いで電子ビームを再び
円形走査してこの走査円とアライメントマークとの交叉
位置を検出し、この検出データに基づきアライメントマ
ークの中心位置をめる第３ステツプとを順次行なうよう
圧している。また、このために使用するアライメントマ
ーク位置測定装置としては、表面にアライメントマーク
が形成された被測一定物忙照射する電子ビームを偏向さ
せる直交２方向に配置された偏向手段と、この偏向手段
に正弦波信号ならびＫこの正弦波信号と同期して位相が
９０°異なる余弦波信号とをそれぞれ与える正弦波、余
弦波の各発生器と、前記各偏向手段九ランプ波を与える
ランプ波発生器と、前記被測定物が載置される試料ステ
ージを水平移動するステージ駆動手段と、被測定物から
放射される反射電子を検出する検出器と、前記正弦波、
余弦波およびランプ波の各発生器の出力を制御するとと
もに前記検出器から出力されるアライメントマークの検
出信号に基づき前記ステージ駆動手段の動作を制御する
制御回路とを備えていることを特徴としている。
（ホ）実施例
以下、本発明を一実施例について図面に基づいて詳細に
説明する。
説明する。
第１図はこの実施例のアライメントマーク位置測定装置
の構成図である。同図において、符号１はアライメント
マーク位置測定装置を示し、２はＩＣ用ウェハなどの被
測定物４表面に照射する電子ビームを発生する電子ビー
ム発生部、６は電子ビームを偏向させる偏向手段である
。偏向手段６は互いに直交するＸ軸、Ｙ軸の２方向に配
列された偏向コイルや静電偏向板等で構成される。８は
ｒ ｓｉｎ ｗｔ（ｒ ：振幅、Ｗｔ：位相角）などの
正弦波信号を偏向手段６のたとえばＸ軸側の偏向コイル
に加える正弦波発生器、１０は上記正弦波信号と同期し
て位相か９０°異なるｒ ｃｏθｗｔなどの余弦波信号
を偏向手段１０のＹＩｌＩＩ側の偏向コイルに加える余
弦波発生器である。また、１２．１４は偏向手段６のＸ
、Ｙ各軸の偏向コイルに鋸歯状のランプ波を与える各ラ
ンプ波発生器、１６は被測定物４が載置される試料ステ
ージ、１８はこの試料ステージ１６を水平に駆動する駆
動手段で、機械的アクチュエータとこれを駆動するモー
タなどで構成される。２０は被測定物４から電子ビーム
走査によって放射される反射電子を検出する検出器、２
２は検出器から出力される検出信号のピークをラッチす
るピークホールド回路、２４は切換回路、２６社検出器
２０から出力される検出信号をデジタル化するＡ ／
Ｄ変換器、２８は正弦波、余弦波およびランプ波の各発
生器８，１０．１２．１４の出力を制御するとともに、
検出器２０で検出したアライメントマークの検出信号に
基づき前記ステージ駆動手段１８の動作制御を行なう制
御回路（以下、ＣＰＵと称する）である。
の構成図である。同図において、符号１はアライメント
マーク位置測定装置を示し、２はＩＣ用ウェハなどの被
測定物４表面に照射する電子ビームを発生する電子ビー
ム発生部、６は電子ビームを偏向させる偏向手段である
。偏向手段６は互いに直交するＸ軸、Ｙ軸の２方向に配
列された偏向コイルや静電偏向板等で構成される。８は
ｒ ｓｉｎ ｗｔ（ｒ ：振幅、Ｗｔ：位相角）などの
正弦波信号を偏向手段６のたとえばＸ軸側の偏向コイル
に加える正弦波発生器、１０は上記正弦波信号と同期し
て位相か９０°異なるｒ ｃｏθｗｔなどの余弦波信号
を偏向手段１０のＹＩｌＩＩ側の偏向コイルに加える余
弦波発生器である。また、１２．１４は偏向手段６のＸ
、Ｙ各軸の偏向コイルに鋸歯状のランプ波を与える各ラ
ンプ波発生器、１６は被測定物４が載置される試料ステ
ージ、１８はこの試料ステージ１６を水平に駆動する駆
動手段で、機械的アクチュエータとこれを駆動するモー
タなどで構成される。２０は被測定物４から電子ビーム
走査によって放射される反射電子を検出する検出器、２
２は検出器から出力される検出信号のピークをラッチす
るピークホールド回路、２４は切換回路、２６社検出器
２０から出力される検出信号をデジタル化するＡ ／
Ｄ変換器、２８は正弦波、余弦波およびランプ波の各発
生器８，１０．１２．１４の出力を制御するとともに、
検出器２０で検出したアライメントマークの検出信号に
基づき前記ステージ駆動手段１８の動作制御を行なう制
御回路（以下、ＣＰＵと称する）である。
次に１被測定物４の表面に刻印されたアライメントマー
クの検出とその位置の測定方法について各ステップ順に
説明する。
クの検出とその位置の測定方法について各ステップ順に
説明する。
（ａ） 第１ステツプ
ＩＣ用ウェハなどのような被測定物４ではそのアライメ
ントマークの形状と、その刻印位置とは予じめある程度
知られているので、測定開始にあたりてはこの情報を頼
りに第２図（ａ） Ｋ示すようにまたとえば十字状に形
成されたアライメントマークＭを電子ビームの走査可能
域まで移動させる。この移動は手動等で行なってもよい
。次いで、ｃｐＵ２Ｂから正弦波、余弦波の各発生器８
．１０へ制御信号を与えて正弦波、余弦波の各発生器８
゜１０を起動する。正弦波、余弦波の各発生５８゜１０
からはこれＫより正弦波信号と余弦波１ｇ号とが発生し
、これらの信号を偏向手段６に加える。
ントマークの形状と、その刻印位置とは予じめある程度
知られているので、測定開始にあたりてはこの情報を頼
りに第２図（ａ） Ｋ示すようにまたとえば十字状に形
成されたアライメントマークＭを電子ビームの走査可能
域まで移動させる。この移動は手動等で行なってもよい
。次いで、ｃｐＵ２Ｂから正弦波、余弦波の各発生器８
．１０へ制御信号を与えて正弦波、余弦波の各発生器８
゜１０を起動する。正弦波、余弦波の各発生５８゜１０
からはこれＫより正弦波信号と余弦波１ｇ号とが発生し
、これらの信号を偏向手段６に加える。
電子ビーム発生部２で発生した電子ビームは偏向手段６
に加えられる上記正弦波信号上余弦波信号とにより偏向
を受ける。こうして、電子ビームをその光軸Ｏ０を中心
として円形走査する。しかも、その際、ｃｐｕ２Ｂで偏
向手段６に加える正弦波信号・余弦波信号の振幅を変化
させることＫより、ｔｌＬ子ビームの描く走査円Ｃの径
を順次大きくしていく。一方、被測定物４の表面からは
電子ビーム走査により反射電子が放出されるので、これ
を検知器２０で検出し、この検出器２０から出力される
検出信号を切換回路２４を介してＡ／Ｄ変換器２６を通
してデジタル化する。そして、デジタル化した検出（ｉ
号をＣＰＵ２Ｂに取り込む。電子ビームの描く走査円Ｃ
がアライメントマークＭと交叉していないさきには、第
２図（ｂ）に示すように１ＣＰ０２８に取り込まれる検
出信号内にはアライメントマークＭ［基づく検出ピーク
は存在しないので、走査円Ｃの径をさらに大きくする。
に加えられる上記正弦波信号上余弦波信号とにより偏向
を受ける。こうして、電子ビームをその光軸Ｏ０を中心
として円形走査する。しかも、その際、ｃｐｕ２Ｂで偏
向手段６に加える正弦波信号・余弦波信号の振幅を変化
させることＫより、ｔｌＬ子ビームの描く走査円Ｃの径
を順次大きくしていく。一方、被測定物４の表面からは
電子ビーム走査により反射電子が放出されるので、これ
を検知器２０で検出し、この検出器２０から出力される
検出信号を切換回路２４を介してＡ／Ｄ変換器２６を通
してデジタル化する。そして、デジタル化した検出（ｉ
号をＣＰＵ２Ｂに取り込む。電子ビームの描く走査円Ｃ
がアライメントマークＭと交叉していないさきには、第
２図（ｂ）に示すように１ＣＰ０２８に取り込まれる検
出信号内にはアライメントマークＭ［基づく検出ピーク
は存在しないので、走査円Ｃの径をさらに大きくする。
走査円ＣかアライメントマークＭと交叉するさ、ＣＰＵ
２８に入力される検出信号内に検出ピークが現われる。
２８に入力される検出信号内に検出ピークが現われる。
従って、ｃｐｕ２Ｂが検出信号内のピークを検出したと
きには切換回路２４の接続をピークホールド回路２２１
ｋｌＫ切換える。そして、このときの走査円の径ｒ、で
もって電子ビームをたとえば反時計回りに１周し、引き
続いて逆方向、すなわち時計回りに一周させる。この操
作において、ＣＰＵ２８は正弦波、余弦波の各発生器８
，１０出力と、Ａ ／ Ｄ変換器２６からの検出信号入
力とのタイミングを合わせている。従って、被−ｊ宝物
４の表面に余分なキズやホコリが存在しなければ電子ビ
ームを反時計方向あるいは逆に反時計方向に円形走査し
てもピークホールド回路２２で得られる検出ピークの立
ち上り位置は一致するこ、ｌ！−になる（第２図（Ｃ）
（（１）参照）。キズやホコリが存在すると、検出ピ
ークの立ち上り位置が不一致となるのでこれによりキズ
やホコリを判別し、検出誤りを防ぐ。
きには切換回路２４の接続をピークホールド回路２２１
ｋｌＫ切換える。そして、このときの走査円の径ｒ、で
もって電子ビームをたとえば反時計回りに１周し、引き
続いて逆方向、すなわち時計回りに一周させる。この操
作において、ＣＰＵ２８は正弦波、余弦波の各発生器８
，１０出力と、Ａ ／ Ｄ変換器２６からの検出信号入
力とのタイミングを合わせている。従って、被−ｊ宝物
４の表面に余分なキズやホコリが存在しなければ電子ビ
ームを反時計方向あるいは逆に反時計方向に円形走査し
てもピークホールド回路２２で得られる検出ピークの立
ち上り位置は一致するこ、ｌ！−になる（第２図（Ｃ）
（（１）参照）。キズやホコリが存在すると、検出ピ
ークの立ち上り位置が不一致となるのでこれによりキズ
やホコリを判別し、検出誤りを防ぐ。
（ｂ） 第２ステツプ
電子ビームの走査時間ｔはその走査円Ｃの走査開始点か
らの走査角θ、に対応するのでＣＰＵ２ＢＫ入力される
検出信号の立ち上り位置からアライメ／トマークＭの方
向が分る。捷だ、電子ビームがアライメントマークＭを
横切るとさの走査円Ｃの径ｒ１が電子ビームの光軸０゜
とｆライメントラ−２Ｍとの概略距離を示している。従
って、ＣＰＵ２８でこれらの検出データに基づき、ステ
ージ駆動手段１８を制御して、アライメントマークＭを
）’ｅ ｂｌ＋ Ｏｏに向って移動させる。次いで、Ｃ
Ｐ０２Ｂから谷ランプ波発生器１２．１４に制御信号を
与えて、このランプ発生器１２を起動する。これにより
ランプ波発生器１２．１４からはそれぞれランプ波が発
生するので、このランプ波を偏向手段６のＹ軸、Ｙ軸の
各偏向コイルに加える。これにより、第３図（ａ）に示
すように、電子ビームを先の光軸０゜位置において交互
に直交走査する。その際切換回路２４を動作させピーク
ホールド回路２２との接続を切換え、検出器２０とＡ
／ Ｄ変換器２６とを直結させる。直交走査する電子ビ
ームがそれぞれアライメントマークＭを横切ると、同図
（ｂ）（Ｃ）に示すような検出ピークが得られる。この
ピーク検出の時間から光軸Ｏ０（！：アライメントマー
クＭ間の直交２方向の距離Ｘ。、ｙｏが測定できる。ま
た、第３図におけるビーム走査でピークが検出できなか
ったり、あるいは３つ以、七のピークが検出されたよう
な場合にはキズやホコリが存在するとして第１ステツプ
に戻って再度測定を行なうか、あるいけ測定を一時中止
させる。
らの走査角θ、に対応するのでＣＰＵ２ＢＫ入力される
検出信号の立ち上り位置からアライメ／トマークＭの方
向が分る。捷だ、電子ビームがアライメントマークＭを
横切るとさの走査円Ｃの径ｒ１が電子ビームの光軸０゜
とｆライメントラ−２Ｍとの概略距離を示している。従
って、ＣＰＵ２８でこれらの検出データに基づき、ステ
ージ駆動手段１８を制御して、アライメントマークＭを
）’ｅ ｂｌ＋ Ｏｏに向って移動させる。次いで、Ｃ
Ｐ０２Ｂから谷ランプ波発生器１２．１４に制御信号を
与えて、このランプ発生器１２を起動する。これにより
ランプ波発生器１２．１４からはそれぞれランプ波が発
生するので、このランプ波を偏向手段６のＹ軸、Ｙ軸の
各偏向コイルに加える。これにより、第３図（ａ）に示
すように、電子ビームを先の光軸０゜位置において交互
に直交走査する。その際切換回路２４を動作させピーク
ホールド回路２２との接続を切換え、検出器２０とＡ
／ Ｄ変換器２６とを直結させる。直交走査する電子ビ
ームがそれぞれアライメントマークＭを横切ると、同図
（ｂ）（Ｃ）に示すような検出ピークが得られる。この
ピーク検出の時間から光軸Ｏ０（！：アライメントマー
クＭ間の直交２方向の距離Ｘ。、ｙｏが測定できる。ま
た、第３図におけるビーム走査でピークが検出できなか
ったり、あるいは３つ以、七のピークが検出されたよう
な場合にはキズやホコリが存在するとして第１ステツプ
に戻って再度測定を行なうか、あるいけ測定を一時中止
させる。
（Ｃ） 第３ステツプ
第２ステツプで光軸Ｏ０とアライメントマークＭとの直
交２方向の距離Ｘ。＋ ’１６を測定すると、この測定
データを基に、ＣＰ０２Ｂでステージ駆動手段１８を制
御してアライメントマークＭを光軸Ｏ０に向ってさらに
接近させ、第４図（ａ） Ｋ示すように１アライメント
マ一クＭの中心が光軸Ｏ８にほぼ一致させるようにする
。続いて、ＣＰ０２Ｂから正弦波、余弦波の各発生器８
．１０へ制御１５号を与えこの各発生器８，１０を起動
させることにより、電子ビームを再び円形走査して走査
円Ｃを描かせる。従って、本例でｈｉｔｔ子ビー広ビー
ムイメントマークＭを４回横切ることになる。これによ
り検出器２０からＡ ／ Ｄ変換器２６を介し−（ｃｐ
ｕ２８に入力される検出信号内には第４図（ｂ）に示す
ように４個の検出ビークＰ１〜Ｐ４が含まれる。前述の
と七く、ＣＰＯ２８ｕ％子ビームの走食開始からの時間
、つまり、走査角θを同時に測定しているので、検出ピ
ークＰ、〜Ｐ、の発生間隔ｔ、〜ｔ、から亀子ビームの
光軸０゜とアライメントマークＭの中心との偏差、およ
びこの偏差の値からアライメントマークＭの中心位ｆｉ
ｔを算出される。こうしてアライメントマークＭの位置
が精密に測定されるので、このアライメントマークＭの
位置を基準として被測定物４にＩＣを焼付けるなどの作
業を行なうと七ができる。
交２方向の距離Ｘ。＋ ’１６を測定すると、この測定
データを基に、ＣＰ０２Ｂでステージ駆動手段１８を制
御してアライメントマークＭを光軸Ｏ０に向ってさらに
接近させ、第４図（ａ） Ｋ示すように１アライメント
マ一クＭの中心が光軸Ｏ８にほぼ一致させるようにする
。続いて、ＣＰ０２Ｂから正弦波、余弦波の各発生器８
．１０へ制御１５号を与えこの各発生器８，１０を起動
させることにより、電子ビームを再び円形走査して走査
円Ｃを描かせる。従って、本例でｈｉｔｔ子ビー広ビー
ムイメントマークＭを４回横切ることになる。これによ
り検出器２０からＡ ／ Ｄ変換器２６を介し−（ｃｐ
ｕ２８に入力される検出信号内には第４図（ｂ）に示す
ように４個の検出ビークＰ１〜Ｐ４が含まれる。前述の
と七く、ＣＰＯ２８ｕ％子ビームの走食開始からの時間
、つまり、走査角θを同時に測定しているので、検出ピ
ークＰ、〜Ｐ、の発生間隔ｔ、〜ｔ、から亀子ビームの
光軸０゜とアライメントマークＭの中心との偏差、およ
びこの偏差の値からアライメントマークＭの中心位ｆｉ
ｔを算出される。こうしてアライメントマークＭの位置
が精密に測定されるので、このアライメントマークＭの
位置を基準として被測定物４にＩＣを焼付けるなどの作
業を行なうと七ができる。
なお、上記実施例て゛はアライメントマークＭ形状が十
字状のものについて説明したが他の形状をしたアライメ
ントマークにも本発明を適用できるのは勿論である。
字状のものについて説明したが他の形状をしたアライメ
ントマークにも本発明を適用できるのは勿論である。
（へ）効果
以上のように１本発明によればアライメントマークの検
出とその位置の測定と（ｉ−ｆｌＶ￥Ｂに、かつ、自動
的に行なえるようになる。つ１す、従来のような人手を
介したパターン認識は不要となるのでアライメントマー
クの位置測定が短時間に行なわれ、かつ、測定精度も高
い。しかも、測定作業の煩雑さも解消されるという優れ
た効果が得らｔする。
出とその位置の測定と（ｉ−ｆｌＶ￥Ｂに、かつ、自動
的に行なえるようになる。つ１す、従来のような人手を
介したパターン認識は不要となるのでアライメントマー
クの位置測定が短時間に行なわれ、かつ、測定精度も高
い。しかも、測定作業の煩雑さも解消されるという優れ
た効果が得らｔする。
図面は本発明の一実施例を示し、第１図はアライメント
マーク位置測定装置の構成図、第２図は第１ステツプに
おけるアライメントマーク位置測定方法の説明図、第３
図は第２スデノプにおけるアライメントマーク位置測定
方法の説明図、第４図は第３ステツプにおけるアライメ
ントマーク位置測定方法の説明図である。 １・・ｒライメントラ−４位置測定装置、４・・被測定
物、６−・偏向手段、８・・正弦波発生器、１０・・余
弦波発生器、１２．１４・・ランプ波発生器、１８・・
ステージ駆動手段、２０・・検出器、２８・・制御回路
。 願 人 株式会社島津製作所 代 理 人 弁理士岡田和秀
マーク位置測定装置の構成図、第２図は第１ステツプに
おけるアライメントマーク位置測定方法の説明図、第３
図は第２スデノプにおけるアライメントマーク位置測定
方法の説明図、第４図は第３ステツプにおけるアライメ
ントマーク位置測定方法の説明図である。 １・・ｒライメントラ−４位置測定装置、４・・被測定
物、６−・偏向手段、８・・正弦波発生器、１０・・余
弦波発生器、１２．１４・・ランプ波発生器、１８・・
ステージ駆動手段、２０・・検出器、２８・・制御回路
。 願 人 株式会社島津製作所 代 理 人 弁理士岡田和秀
Claims (1)
- （１） 表面にアライメントマークが形成された被測定
物に対して電子ビームを光軸を中心として円形走査する
ととも妃、この走査円の径を順次大きくして前記被測定
物のアライメントマークを検出し、次いで、電子ビーム
を逆向きに円形走査してホコリ、キズ等による検出誤り
を判別する第１ステツプと、仁の第１ステツプで検出し
たアライメントマークの検出データに基づきアライメン
トマークを前記光軸に向って移動させ、続いて電子ビー
ムを直交走査して前記光軸とアライメントマークとの距
離を測定する第２ステツプと、この第２ステノグで測定
した光軸とアライメントマーク間の距離データに基づき
゛ｒライメントマークを光軸に向ってさらに接近さ…、
次いでｆｆ１Ｖ子ビームを再び円形走査してこの走査円
とアライメントマークとの交叉位置を検出し、この検出
データに基づきアライメントマークの中心位置をめる第
３ステツプとを順次行なうことを特徴とするアライメノ
トマーク位置測定方法。 ＋２＋ 表面にアライメントマークが形成された被測定
物に照射する電子ビームを偏向させる直交２方向に配置
された偏向手段と、この偏向手段に正弦波信号ならびに
この正弦波信号と同期して位相が９０°異なる余弦波信
号とをそれぞれ与える正弦波、余弦波の各発生器と、前
記各偏向手段にランプ波を与えるランプ波発生器と、前
記被測定物が載置される試料ステージを水平移動するス
テージ駆動手段と、被測定物から放射される反射電子を
検出する検出器と、前記正弦波・余弦波およびランプ波
の各発生器の出力を制御するとともに前記検出器から出
力されるアライメントマークの検出信号に基づき前記ス
テージ駆動手段の動作を制御する制御回路とを備えてい
ることを特徴とするアライメントマーク位置測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6396184A JPS60205207A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6396184A JPS60205207A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60205207A true JPS60205207A (ja) | 1985-10-16 |
| JPH0554604B2 JPH0554604B2 (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=13244410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6396184A Granted JPS60205207A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60205207A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6119125A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 走査型露光装置 |
| JPH0491424A (ja) * | 1990-08-03 | 1992-03-24 | Hitachi Ltd | 最適性判定装置を付加した電子線描画装置 |
| JP2007053386A (ja) * | 2006-08-18 | 2007-03-01 | Hitachi Ltd | イオン注入方法およびその装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0827707A (ja) * | 1994-07-20 | 1996-01-30 | Yamabishi Kogyo Kk | 弾性舗装材及び弾性舗装方法 |
-
1984
- 1984-03-29 JP JP6396184A patent/JPS60205207A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6119125A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 走査型露光装置 |
| JPH0491424A (ja) * | 1990-08-03 | 1992-03-24 | Hitachi Ltd | 最適性判定装置を付加した電子線描画装置 |
| JP2007053386A (ja) * | 2006-08-18 | 2007-03-01 | Hitachi Ltd | イオン注入方法およびその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0554604B2 (ja) | 1993-08-13 |
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