JPS60196612A - 表面形状測定装置 - Google Patents

表面形状測定装置

Info

Publication number
JPS60196612A
JPS60196612A JP5292884A JP5292884A JPS60196612A JP S60196612 A JPS60196612 A JP S60196612A JP 5292884 A JP5292884 A JP 5292884A JP 5292884 A JP5292884 A JP 5292884A JP S60196612 A JPS60196612 A JP S60196612A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
optical
light
measured
measurement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5292884A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Kano
加納 敏夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP5292884A priority Critical patent/JPS60196612A/ja
Publication of JPS60196612A publication Critical patent/JPS60196612A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) この発明は、被測定物の表面形状な干渉測定により測定
するための、表面形状測定装置に関する。
(従来技術) 精密加工技術の発達に伴い、加工部品の形状測定にも高
精度化が要求されてきている。特に光学加工部品、精密
加工部品では、平面1球面、非球面の表面形状の測定V
ctizめで高い測定精度か要求されるようになってき
ている。
被測定物の非球面の表面形状を高IW mlに測定でき
る測定方式として、従来、縞走査/エアリフグ干渉方式
が提案されている。
1・6図は、上記縞走畳ンエアリ/グ干渉方式の光学系
の1例を示している。以下、この例に即して、縞走五ン
エアリノグ干渉方式のあらましについて説明し、あわせ
て、本発明により解決しjつとする問題点につきのべろ
牙3図において、符号1は光源たるレーザー光源、符号
2はコリメーターレンズ、符号6,4゜5はビームスプ
リッタ−1符号6は平面鏡、符号7はコンバーターレン
ズ、符号8は透明な平行平面板、符号9は結像レンズ、
符号10はエリアセ7サー、符号11はピエゾ素子、符
号O○ は被測定物を、それぞれ示す。
レーザー光源1から発せられたコヒーレントな光は、コ
リメーターレンズ2によって所定の光束径の平行光束と
され、ビームスグリツタ−6,4を介し′(コノバーク
ーレ/ズ7Vc入射し、一旦集束したのち、球面波とし
て発散しつつ、被測定物Ob の被測定i?ii vc
入射し、反射される。上記被測定面による反射光は、被
測定面の形状に対する情報な含んでいるので、この反射
光な情報光と称する。
被測定物Ob の被測定面に入射1−るときの球面波の
波面’li’Wo+被測友而をWl 面すれば、上1己
情報光の波面WK対し、W −w(、−ン(Wl−Wo
)となる。Wo は光学系の設定条件に応じて知られる
から、結局、情報光の被測定面におけろ波面形状Wを知
ることにより、被測定面の形状W1 を知ることかでき
る。
ざて、清報光はコンバーターレンズ7を介して、ビーム
スブリック−4に入射し、このビームスグリツタ−4に
よって2光路に分割されろ。このように2分割された清
報光の任意の一方を測定光、他方な参照元と呼ぶ。ここ
では仮に、ビームスプリッタ−4も・透過する情報光成
分を測定光と呼ぶことにする。測定光は、ビームスグリ
ツタ−6゜5な介して、結[象しノズ9に入射し、エリ
アセンサー10の受光域上に結1象し、同受光域上に、
情報光の波面Wを、所定の倍率で再現1−ろ。
一方、参照元の方は、平面鏡6、平行平面板8、ビーム
スグリツタ−5を介して結像レンズ9に入射し、これま
たエリアセンサー10の受光域上に結1家し、@記波面
Wを所定倍率で再境才る。平行平面板8は、参照光元軸
に対して1頃いており、参照元は、この平行十囲°板8
を透過すると同平面板8の屈折作用により光軸が、これ
に直交する方向へ微小距離So だけずれる。このため
、エリアセンサー上で結1象する」11定光と参照光と
は互いに微小距離Sたけずれることになる。この微小距
離Sを7エア量という。
そこで、エリアセンサー10の受光域で測定光により再
現される波面をW (x )とすわば、参照光[jり再
現される波rir ハ、W(x + s ) テア’)
、両波面の位相差すなわち、ΔW (x ) = W 
(z +W 従って、△W(x)が知れると、W(X)は、5−W(
x)=f△w (x ) dxすなわち、W(X)=−
f△W (x ) dx なる演算に、1′って知ることができる。
さて、測定光、参照光はコヒーレントであるから、エリ
アセンサー10上で互いに重なり合う部分では干渉VC
Xる干渉縞が生ずる。この干渉縞を利用して、上記位相
差へW (x )を知ることができる。
すなわち、ピエゾ素子11に印加する電圧を変えること
により参照元光路長を、λ/2N(λは、光源からの元
の波長)ぎざみで、N段階変化させる。このように参照
元の光路長を変化させると、それにともなって、エリア
センサー10上の干渉縞のパター7が変化する。そこで
、光路長が1段階変化するごとに、エリアセンサー10
上の各点の干渉縞の光強度I; (x) (J==、 
1〜N )を1llll定し、次式i/cよって、位相
差△W (x) ’、r知るのである。
このようにして、位相差△W (X)が知れれば、これ
な積分することにより、波面W (X)を知ることがで
き、この波面形状からn、吉局、被(lf!I定物の表
面形状を知ることができる。
なお、実1’、’A VCは、X方向の7エアリングに
よる測定と、X方向に直交するX方向へのシェアリング
によるllllI足とを行ない、副測定結果から総合的
に被測定物の表面形状な時定するのである、以上が、縞
走亘ンエアリノグ干渉方式による表面形状測定のあらま
しである。
縞走査シェアリング干渉方式は5級測定物の表面形状が
平面であれ、球面でおれ、あるいは非球面であれ、d1
1]定が可能である。しかし、この測定方式は、矛1次
測定値として得られるのか、測定対象の微分情報であっ
て、これを積分して初めて、測定すべき表面形状のht
報が得られる。このため測定すべき表面形状が平面もし
くは球面の場合には、これらも・直接的に測定できる干
渉測定方式、例えばフィゾー型の干渉!1111定方式
に比して、縞走育ンエアリ/グ干渉測定力式は若干精度
が劣るへ(目 的) 本発明の目的は、上述したところして′:jイみ、非球
面り測定は縞走)〒7エアリ/グ干干渉式で測定でき、
平面1球面の測定は、縞走査フィゾー干渉方式で測定し
つる新規II、表面形状測亜装置の提供にある。
(構 成) 以下、本発明を説明する。
本発明の表面形状l1ll+定装置は、矛1および牙2
の光学系と、光学系4iIi11手段と、ンヤノターと
へ・有する。
矛1の光学系は、被測定物の表面形状を、縞走査シェア
リング干渉方式で測定するための光学系であって、1例
なあけるならば、牙ろ図の光学系がこれに当る。
矛2の光学系はオプチカルフラットと、このオプチカル
フラットを光軸方向へX i度に変位させるだめの変位
手段とに↓り構成される。オプチカルフラットはハーフ
ミラ−に形成されている。
光学系移動手段は、上6d闘・2の光学系な、刃・1の
光学系の所定の光路部分に出入するための手段である。
舊・2の光学系が出入する、3′1の光学系の所定の光
路部分とは、光源からコノバーターレンズに到る光路と
、清報元光路との共通光路部分でおり、珂・6図の光学
系のJ&Z合であれば、ビームスプリッタ−6とコノバ
ークーレ7ズ7との間の′#S路がこれにあたる。
またンヤノターは、矛1の光学系における測定光光路お
よび参照元光路のうちの一方を開閉するために用いられ
る。2・3図の光学系に即していうならば、ンヤノター
は、ヒームスグ’)ツタ 4から平面鏡6なべてビーム
スプリンター5にいたる参照元光路上の適当な位置、ま
たは、測定光光路のウチ、ビームスプリッタ−6と5と
の間の適当な位置に設けられ5る。/ヤノクーをビーム
スブリック−6と5の間に配備する場合は、112の光
学系の配備位置はビームスブリック−4とコ/バークー
レ/ズ7との間に制限されることに7よる。
以下、具体的な例に即して説明する。
2・1図は、本発明の1実畑例?要部のみ略示している
。ます、各符号の示すところについて説明すると、符号
21は光源たるガスレーサー)′i:源、符号22はコ
リメーターレンズ、符号26はニュートラルプツシティ
フィルター、符号24はマスク、79号25.29はビ
ームスプリンター、符号26は矛2の光学系、杓号77
はフ7バーターレ/ズ、符号28はリレーレンズ、符号
3[J、31はコーナーキューブ、符号62はピエゾ素
子、符号36は語源しノズ、狗号64ハニュートラルデ
/ンナイフィルター、符号35 はエリアセンサーを、
それぞれ示す。この光学系かI−+2の光学系26と、
シャッター66とを除いたものは、]・1の光学系、す
なわち縞走亙ンエアリング干渉方式の測定用光栄系を構
成する。
なお、ニュートラルプツシティフィルター23゜64 
のうち、後者すなわちフィルター34は固定的であるか
、フィルター26はn]動であって、必要に応じて、光
路中に出入することができる。
矛2の光学系はオプチカルフラット261と、ピエゾ素
子として構1戊された変位手段26ンに↓す4A1戊さ
れている。変位手段26ンは中窒/す7ダー状に形成さ
れている。オブチカルフラ7 ト27S1は透 明な平
行平面板であって、ビームスプリッタ−25の側の面は
ハーフミラ−となっている。オプチカルフラ71−26
1は、変位手段26ノに一体化され、この変位手段26
2 K印加される電圧を変えることにまり、オプチカル
フラット261が、光軸方向すなわち、ハーフミラ−の
ミラー面に直交する方向へ高精能で変位させられる。
)・20光学系ン6は、図示さねない光学系移動手段に
より、実@に示オ態位と破線で示す態位の間を移動でき
るようになっている。光学系移動手段は公知の任意の移
動手段?適宜用いてぼく、移動は手動で行っても、自動
で行っても↓い。
まず、本装置により縞走査/エアリノブ干渉方式の測定
な行なう櫂1合を説明する。このときは。
副・20光学系26な、破線で示す態位へ変位させて、
光路上から退避させる。またツヤツク−66を開放する
被測定物Ob1を図の如くセットして、ガスレーザー光
源21からレーザー光な放射させる。この元はまず、コ
リメーターレンズ22により所定の光束径の平行光束と
され、必要に応じてニュートラルテン/ティフィルター
26により光強度を補正さね、マスク24vcよって光
束断面形状を整形されたのち、ビームスフ゛リッター2
5.コ/バーターレンズ27を介して被測定物ob+に
入射し、その表面により反射されて1青報ブCとなり、
コ/バーク−レンズ27、ビームスグリツタ−25、リ
レーレンズ28ケ介してビームスブリック−29ニ入射
し、このビームスプリッタ−29により、測定光と参照
元とに分離する。
シャッター36の配備されている光路を測定光光路と呼
ぶことにすると、測定光は、コーナーキューブ5Uで折
り返され、ビームスプリッタ−29、結(象しノス33
 、ニュートラルテン/ティフィルター64を介してエ
リアセンサー35に入射する。一方、参照光は、コーナ
ーキューブ51に−rり折返され、ビームスブリック−
29、結像し/ズ63、ニュートラルテン/ティフィル
ター64を介して、エリアセンサー35に入射する。参
照元の波面と測定光り波面とはコーナーキューブ30.
31の位善間係により互いに光軸に直交する方向へすれ
ており、エリアセンサー65で両光束か重なり合う部分
に干渉パター7が生ずる。
ピエゾ素子32にJす、参照光光路を微小距離ずつ変化
させて縞走査も・行ない、エリアセンサー65の出力1
fc所定の演′J4ル′癩して、伏測定物Oo1の表面
形状?判定する。
さて、被測定物Ob1の表面形状か球面であるとき目1
、ン「ツク−36な1)1ざし、牙2の光学系26を2
・1図の実aにて示す位1ηゴーなわち、牙1の光学系
の光源からコンバーターレンズに到る光路と、情報う“
6光路との共通光路部分に配備する。このよ5Vci−
ると、光学系は全体として縞7L套フィゾー型干渉測定
装置になる。
ガスレーザー光源21かもの光は、矛2の光学系26 
に入射すると、1部がオプチカルフラット261のハー
フミラ−虻ぷり反射され、他閣1、オプチカルフラット
261t、−透j&4する。オプチカルフラット261
VC反射された元はフィゾー型干渉1i11定方式にお
けろ参照用の光となり、その波面は平面である。この参
照用の尤は、ビームスブリック−25、リレーレンズ2
8、ビームスブリック−29すへて、コーナーキューブ
51に入射し、コーナーキューブ31 に反射されると
、再びビームスプリッタ−29をへて、結1家レノズ3
0、ニュートラルテン/ティフィルター54す介してエ
リアセンサー35に入射−4−る。この参照用の元の、
エリアセンサーb5上における波面は平面である。
一方、オプチカルフラ7 ) 241を透過した光は、
コンバーターレンズ27のレンズ271で発散光束とさ
れ、ついで、レンズ272により集束性の光束となって
、被測定物On+の球IJi状の破則定面に入射する。
このとき、上id級測定面の曲ギ中ノしに向って、上記
集束性の光束が集束するようにしておく。
被測定物ob+による反射光は清峠光となって、コンバ
ーターレンズ27を逆向きに透過し、さらにオプチカル
フラノ) 261に透過して、前述の参照用の元と誼く
同一の光路?たどり、エリアセンサー55ニいたる。か
くして、エリアセンサー65上で、1吉報元と参照用の
光とD・干渉するので、変位手段262 Kよりオプチ
カルフラット261&:Hす11方向へ高楯度に変位さ
せて縞走査な行/fい、被測定物Oojの表面形状の球
m Kを測定する。
牙2図には、被測定物Ob2の測定すべぎ表1■1形状
が平面である場合の例1う示す。この場合は、コンバー
ターレンズ27′ が用いられろ。コンバーターレンズ
2ノ′に入射する光は、まずしyス271’にJ1発発
光光とされ、ついでレンズ272′ により平行光求と
されて、被測定物の社訓定面に直交するように入射する
。測定の方法は、先に説明した矛1図に示す例の場合と
同じである。なお、工リアセッサー65の駆動制御ピエ
ゾ素子62.変位千股262の駆動制御、エリアセッサ
ー35の出力に対する演算処理部はすべて、マイククコ
/ビューターで行うことができる。
(効 果) 以上、本発明によれば、新規な表面形状11111定f
fdケ提供できる。この測定装置では、測定すべき表面
形状が非球面であるときは、縞走愼/ニアリング干渉方
式で測定でき、また測定すべき表1tii形状が平面2
球面であるときは、縞走予1−フィゾー型干渉方式で測
定できるので、測定すべき表面形状に応じて、會」度艮
< 6111定を行うことかできる。
【図面の簡単な説明】
1・1図は、本発明の1冥殉例の、球面形状4111定
時の態僚を示す図53・2図は、上記実捲例の、平面形
状測定時の態様を示す図、牙ろ図は、縞走歪ノエアリ7
グ干渉方i、lX、の表面形状測定を説明するだめの図
である。 Ob、、、Obl 、Ob2 ・・・仮測定物、21・
・ガスレーザー光源、22・・コリメーターレンズ、2
6・・ニュートラルデンンティフィルター、24・・・
マスク、25゜29・・・ビームスプリッタ−126・
・矛2の光学系、27・・コリメーターレ/ズ、28・
・リレーレンズ、30 。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 被測定物の表面形状?、都走査シェアリング干渉方式で
    測定するための牙1の光学系と、ハーフミラ−に形成さ
    れたオプチカルフラットおよび、このオプチカルフラッ
    トを光軸方向へ高Th度に変位させるための変位手段に
    より構成される第2の光学系と。 上記牙1の光学系における、光源からコンバーターレン
    ズへ到る光路と、情報光光路との共通ブC路部分に、」
    =記牙2の光学系?出入するための、光学系移動手段と
    、 上記牙1の光学系における測定元光路および参照光光路
    のうちの一方を開閉するだめのシャック−とな有する、
    表面形状測定装置。
JP5292884A 1984-03-19 1984-03-19 表面形状測定装置 Pending JPS60196612A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5292884A JPS60196612A (ja) 1984-03-19 1984-03-19 表面形状測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5292884A JPS60196612A (ja) 1984-03-19 1984-03-19 表面形状測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60196612A true JPS60196612A (ja) 1985-10-05

Family

ID=12928499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5292884A Pending JPS60196612A (ja) 1984-03-19 1984-03-19 表面形状測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60196612A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63193003A (ja) * 1987-02-06 1988-08-10 Japan Spectroscopic Co 凹部深さ・膜厚測定装置
JPS63218802A (ja) * 1987-03-06 1988-09-12 Ricoh Co Ltd 縞走査シアリング干渉測定装置
JPS63222208A (ja) * 1987-03-11 1988-09-16 Japan Spectroscopic Co 凹部深さ測定装置
JPH0251005A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Hitachi Ltd 深さ測定方法および装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63193003A (ja) * 1987-02-06 1988-08-10 Japan Spectroscopic Co 凹部深さ・膜厚測定装置
JPS63218802A (ja) * 1987-03-06 1988-09-12 Ricoh Co Ltd 縞走査シアリング干渉測定装置
JPS63222208A (ja) * 1987-03-11 1988-09-16 Japan Spectroscopic Co 凹部深さ測定装置
JPH0251005A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Hitachi Ltd 深さ測定方法および装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5757493A (en) Interferometer with catadioptric imaging system having expanded range of numerical aperture
CN109269443B (zh) 一种激光差动共焦曲率半径测量方法与装置
US4758089A (en) Holographic interferometer
US4818108A (en) Phase modulated ronchi testing of aspheric surfaces
US5493398A (en) Device for observing test-piece surfaces by the speckle-shearing-method for the measurement of deformations
JPH0224504A (ja) 計算機ホログラムを利用した非球面形状測定用干渉計
JPH02161332A (ja) 曲率半径測定装置及び方法
JPS60196612A (ja) 表面形状測定装置
JPS6161178B2 (ja)
US4120590A (en) Method for measuring the thickness of transparent articles
US3832063A (en) Lens axis detection using an interferometer
JP2000097622A (ja) 干渉計
JPS63210605A (ja) 光学表面の形状測定装置
JPS6117908A (ja) 3次元形状測定装置
JPH05500853A (ja) ガラス管壁の厚さを決定するための方法及び装置
JP3164444B2 (ja) 干渉測定方法
JPS60222704A (ja) 表面形状測定装置
JPS60211306A (ja) 縞走査シエアリング干渉測定装置における光学系調整方法
SU920367A1 (ru) Интерферометр дл контрол вогнутых сферических поверхностей
JPH02156106A (ja) 球面計
JP2890639B2 (ja) 真球度の絶対測定方法及び装置
SU1661567A1 (ru) Способ контрол поверхностей оптических деталей
SU848999A1 (ru) Интерферометр дл контрол изменени АбЕРРАций лиНз и зЕРКАл пРи зАКРЕплЕНиииХ B ОпРАВы
JP3061653B2 (ja) 非球面の測定方法および測定装置
JP2902417B2 (ja) 波面収差測定用干渉装置