JPS60193182A - 負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法 - Google Patents
負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法Info
- Publication number
- JPS60193182A JPS60193182A JP5007584A JP5007584A JPS60193182A JP S60193182 A JPS60193182 A JP S60193182A JP 5007584 A JP5007584 A JP 5007584A JP 5007584 A JP5007584 A JP 5007584A JP S60193182 A JPS60193182 A JP S60193182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- negative pressure
- film
- magnetic head
- slider
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
＋８） 発明の技術分野
本発明は負圧型磁気ヘントスライダの製造方法に係り、
特に負圧発生凹部をエツチング形成する際に、サイトレ
ール面の一部となるべき薄膜ヘッドのギャップ部を保護
している保護膜の、エツジ部分のエツチング欠損を防止
して精度の良いギャップ長を有する負圧型磁気ヘッドス
ライダを得ることを可能にした製造方法に関するもので
ある。
特に負圧発生凹部をエツチング形成する際に、サイトレ
ール面の一部となるべき薄膜ヘッドのギャップ部を保護
している保護膜の、エツジ部分のエツチング欠損を防止
して精度の良いギャップ長を有する負圧型磁気ヘッドス
ライダを得ることを可能にした製造方法に関するもので
ある。
（ｂｌ 技術の背景
磁気ディスク装置用の磁気ヘントスライダは周知のよう
に、正圧のみを利用したテーパ・フラントタイプの正圧
型磁気ヘントスライダがその主流となっている。しかし
この正圧型磁気ヘントスライダの空気膜剛性は、該スラ
イダに負荷する押圧力に略比例するため、一定荷重ヘッ
ドではその剛性を高めることにもある程度の限度がある
。特にＣＳ Ｓ （Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔ
ｏｐ）方式を用いた装置においては、耐摩耗性の点から
荷重を大きく出来ない為、空気膜剛性を高くした浮上量
追従特性の良い磁気ヘッドスライダの実現を困難にして
いる。
に、正圧のみを利用したテーパ・フラントタイプの正圧
型磁気ヘントスライダがその主流となっている。しかし
この正圧型磁気ヘントスライダの空気膜剛性は、該スラ
イダに負荷する押圧力に略比例するため、一定荷重ヘッ
ドではその剛性を高めることにもある程度の限度がある
。特にＣＳ Ｓ （Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔ
ｏｐ）方式を用いた装置においては、耐摩耗性の点から
荷重を大きく出来ない為、空気膜剛性を高くした浮上量
追従特性の良い磁気ヘッドスライダの実現を困難にして
いる。
このような観点から近来、磁気ヘントスライダの浮動に
正圧のみによらず、該スライダのスライド面内に逆段差
面を設けて負圧を発生させ、その負圧吸引力を浮動磁気
へソドスライダに対する負荷荷重として作用させて浮上
量追従特性の改善を図った所謂負圧型磁気ヘントスライ
ダの開発が盛んに進められている。
正圧のみによらず、該スライダのスライド面内に逆段差
面を設けて負圧を発生させ、その負圧吸引力を浮動磁気
へソドスライダに対する負荷荷重として作用させて浮上
量追従特性の改善を図った所謂負圧型磁気ヘントスライ
ダの開発が盛んに進められている。
（Ｃ１従来技術と問題点
ところで上記した従来の負圧型磁気ヘントスライダを得
るには、第１図に示すように例えばスライダ基材となる
ホトセラム、或いはアルチック（ＡＣ３ｏ３・Ｔｉｃ
）等からなる非磁性基板１上に、薄膜形成技法及びフォ
トリソグラフィ技法を用いて多数個の薄膜磁気ヘッド素
子２と、これを記録・再生回路へ接続するだめの接続端
子パターン３とを形成し、この基板ｌ上の全面に５１０
２、或いはＡｌ！２０３等の高硬度で非磁性な保護膜４
を厚く被覆形成する。しかる後、上記ヘッド素子構成基
板を切断加工手段により個々の薄膜磁気ヘッド素子単位
に切断する。次に第２図に示すように上記切断分離され
た単位ヘッド素子構成体２１のスライダ形成基板２２の
スライド面となるべき面に、イオンエツチング用のマス
ク材となるチタン（Ｔｉ）膜を被着し、該Ｔｉ膜をバタ
ーニングして負圧発生凹部形成用マスク２４を形成し、
該マスク２４を介してイオンエツチングにより第３図に
示すように負圧発生凹部２３を形成する。次に前記負圧
発生凹部形成用マスク２４を研磨除去した後、更にスラ
イダ形成基板２２のスライド面となるべき面を平坦に研
磨して磁気ヘッドのコイル部分からヘッド先端までの距
離、即ちギャップ長を正確に揃え、第４図に示すように
所望とする負圧型磁気へソトスライダ２５を完成してい
る。
るには、第１図に示すように例えばスライダ基材となる
ホトセラム、或いはアルチック（ＡＣ３ｏ３・Ｔｉｃ
）等からなる非磁性基板１上に、薄膜形成技法及びフォ
トリソグラフィ技法を用いて多数個の薄膜磁気ヘッド素
子２と、これを記録・再生回路へ接続するだめの接続端
子パターン３とを形成し、この基板ｌ上の全面に５１０
２、或いはＡｌ！２０３等の高硬度で非磁性な保護膜４
を厚く被覆形成する。しかる後、上記ヘッド素子構成基
板を切断加工手段により個々の薄膜磁気ヘッド素子単位
に切断する。次に第２図に示すように上記切断分離され
た単位ヘッド素子構成体２１のスライダ形成基板２２の
スライド面となるべき面に、イオンエツチング用のマス
ク材となるチタン（Ｔｉ）膜を被着し、該Ｔｉ膜をバタ
ーニングして負圧発生凹部形成用マスク２４を形成し、
該マスク２４を介してイオンエツチングにより第３図に
示すように負圧発生凹部２３を形成する。次に前記負圧
発生凹部形成用マスク２４を研磨除去した後、更にスラ
イダ形成基板２２のスライド面となるべき面を平坦に研
磨して磁気ヘッドのコイル部分からヘッド先端までの距
離、即ちギャップ長を正確に揃え、第４図に示すように
所望とする負圧型磁気へソトスライダ２５を完成してい
る。
しかしながら、上記した製造方法においては、分離され
た単位ヘッド素子構成体２■のスライダ形成基板２２の
スライド面となるべき面に、負圧発生四部形成用マスク
２４を介してイオンエツチングにより負圧発生凹部２３
を形成した際に、第５図に示すように前記スライダ形成
基板２２の負圧発生凹部２３形成領域は勿論のこと、該
負圧発生凹部２３の保護膜４からなるエツジ部及びサイ
トレール面の一部となる薄膜磁気ヘッド素子２の先端ギ
ャップ部を保護している保護膜４のエツジ部が斜線へ及
びＢで示すようにエツチングされる不都合があった。
た単位ヘッド素子構成体２■のスライダ形成基板２２の
スライド面となるべき面に、負圧発生四部形成用マスク
２４を介してイオンエツチングにより負圧発生凹部２３
を形成した際に、第５図に示すように前記スライダ形成
基板２２の負圧発生凹部２３形成領域は勿論のこと、該
負圧発生凹部２３の保護膜４からなるエツジ部及びサイ
トレール面の一部となる薄膜磁気ヘッド素子２の先端ギ
ャップ部を保護している保護膜４のエツジ部が斜線へ及
びＢで示すようにエツチングされる不都合があった。
特にサイトレール面の一部となる薄膜磁気ヘッド素子２
の先端ギャップ部を保護している保護膜４のエツジ部上
には、前記負圧発生凹部形成用マスク２４が覆われてい
るにもかかわらず、該マスク２４のエツジがエツチング
され、引続き前記薄膜磁気ヘッド素子２の先端ギャップ
部を保護している保護膜４のエツジ部もエツチングされ
る。このため前記負圧発生凹部２３形成後、スライダ形
成基板２２のスライド面となるべき面を平坦に研磨して
磁気ヘッドのコイル部分からヘッド先端までのギャップ
長を所定寸法に加工する工程におけるギャップ長の測定
を正確に行うことが困難となり、その結果、精度の良い
ギャップ長を得る加工が不可能となる欠点を有していた
。
の先端ギャップ部を保護している保護膜４のエツジ部上
には、前記負圧発生凹部形成用マスク２４が覆われてい
るにもかかわらず、該マスク２４のエツジがエツチング
され、引続き前記薄膜磁気ヘッド素子２の先端ギャップ
部を保護している保護膜４のエツジ部もエツチングされ
る。このため前記負圧発生凹部２３形成後、スライダ形
成基板２２のスライド面となるべき面を平坦に研磨して
磁気ヘッドのコイル部分からヘッド先端までのギャップ
長を所定寸法に加工する工程におけるギャップ長の測定
を正確に行うことが困難となり、その結果、精度の良い
ギャップ長を得る加工が不可能となる欠点を有していた
。
（ｄｌ 発明の目的
本発明は上記従来の実情に鑑み、薄膜磁気ヘッドが形成
されたスライダ形成基板のスライド面となるべき面に、
負圧発生四部をエツチング加工により形成する際に、薄
膜磁気ヘッドの保護股上に更にエツジ・エツチング防止
膜を被覆して、エツジ部のエツチング欠損を防止し、負
圧発生凹部２３形成後の薄膜磁気ヘッドのギャップ長を
正確に加工、測定することを可能にした負圧型磁気ヘッ
ドスライダの製造方法を提供することを目的とするもの
である。
されたスライダ形成基板のスライド面となるべき面に、
負圧発生四部をエツチング加工により形成する際に、薄
膜磁気ヘッドの保護股上に更にエツジ・エツチング防止
膜を被覆して、エツジ部のエツチング欠損を防止し、負
圧発生凹部２３形成後の薄膜磁気ヘッドのギャップ長を
正確に加工、測定することを可能にした負圧型磁気ヘッ
ドスライダの製造方法を提供することを目的とするもの
である。
＋ｌ１ｌ） 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、保護膜で被覆され、
ｉ膜磁気ヘッドが形成されて成る非磁性のスライダ形成
基板のスライド面となるべき面に、負圧発生凹部形成用
マスクを被着し、゛エツチング手段により負圧発生凹部
を形成する負圧型磁気ヘントスライダの製造方法におい
て、上記スライダ形成基板のスライド面となるべき面に
、負圧発生凹部形成用マスクを被着するに先立ち、前記
保護膜が被覆された薄膜磁気ヘソＦ上に、あらかじめレ
ジスト膜を被着し、ハードキュアするようにしたことを
特徴とする負圧型磁気ヘントスライダの製造方法を提供
することによって達成される。
ｉ膜磁気ヘッドが形成されて成る非磁性のスライダ形成
基板のスライド面となるべき面に、負圧発生凹部形成用
マスクを被着し、゛エツチング手段により負圧発生凹部
を形成する負圧型磁気ヘントスライダの製造方法におい
て、上記スライダ形成基板のスライド面となるべき面に
、負圧発生凹部形成用マスクを被着するに先立ち、前記
保護膜が被覆された薄膜磁気ヘソＦ上に、あらかじめレ
ジスト膜を被着し、ハードキュアするようにしたことを
特徴とする負圧型磁気ヘントスライダの製造方法を提供
することによって達成される。
（ｆｌ 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第６図乃至第９図は本発明に係る負圧型磁気ヘントスラ
イダの製造方法の一実施例を工程順に示す斜視図である
。
イダの製造方法の一実施例を工程順に示す斜視図である
。
まず第６図に示すように、例えばスライダ基材となるホ
トセラム、或いはアルチック（Ｍ２０３・ＴｉＣ）等か
らなる非磁性基板４１上に、薄膜形成技法及びフォトリ
ソグラフィ技法を用いて多数個の薄膜磁気ヘッド素子４
２とこれを記録・再生回路へ接続するための接続端子パ
ターン４３とを形成し、更にこの基板４１上の全面に５
ｉ０２ 、或いはＡｌ！２０３等の高硬度で非磁性な保
護膜４４を厚く被覆形成する。次に該保護膜４４の上面
に更にエツジ・エツチング防止用のレジスト膜４５を被
着すると共に、該レジスト膜４５を例えば約２００℃に
加熱してハードキュアしておく。次にかかるヘッド素子
構成基板４６を切断加工手段により一点鎖線で示すよう
に個々の薄膜磁気ヘッド素子単位に切断する。次に第７
図に示すように切断分離された単位へノド素子構成体４
７のスライダ形成基板４８のスライド面となるべき面に
、従来と同様にイオンエツチング用のマスク材となるチ
タン（Ｔｉ）膜を被着し、該Ｔｉ膜をパターニングして
負圧発生凹部形成用マスク４９を形成する。しかる後、
該マスク４９を介して前記スライダ形成基板４８のスラ
イド面となるべき面にイオンエツチングを行って、第８
図に示すように所定深さ寸法を有する負圧発生凹部５０
を形成する。
トセラム、或いはアルチック（Ｍ２０３・ＴｉＣ）等か
らなる非磁性基板４１上に、薄膜形成技法及びフォトリ
ソグラフィ技法を用いて多数個の薄膜磁気ヘッド素子４
２とこれを記録・再生回路へ接続するための接続端子パ
ターン４３とを形成し、更にこの基板４１上の全面に５
ｉ０２ 、或いはＡｌ！２０３等の高硬度で非磁性な保
護膜４４を厚く被覆形成する。次に該保護膜４４の上面
に更にエツジ・エツチング防止用のレジスト膜４５を被
着すると共に、該レジスト膜４５を例えば約２００℃に
加熱してハードキュアしておく。次にかかるヘッド素子
構成基板４６を切断加工手段により一点鎖線で示すよう
に個々の薄膜磁気ヘッド素子単位に切断する。次に第７
図に示すように切断分離された単位へノド素子構成体４
７のスライダ形成基板４８のスライド面となるべき面に
、従来と同様にイオンエツチング用のマスク材となるチ
タン（Ｔｉ）膜を被着し、該Ｔｉ膜をパターニングして
負圧発生凹部形成用マスク４９を形成する。しかる後、
該マスク４９を介して前記スライダ形成基板４８のスラ
イド面となるべき面にイオンエツチングを行って、第８
図に示すように所定深さ寸法を有する負圧発生凹部５０
を形成する。
このようにして負圧発生凹部５０を形成ずれば、該負圧
発生凹部形成用マスク４９のエツジ部分が、例え斜線Ｃ
で示す如くエツチングされても、該負圧発生凹部５０の
保護膜４４からなるエツジ部分４４ａ及びサイトレール
面の一部となる薄膜磁気ヘッド素子４２の先端ギヤツブ
部を保護している保護膜４４のエツジ部分４４ｂが、ハ
ードキュアされたレジスト膜４５により確実に保護され
て従来のようにエツチングされる不都合がなくなる。従
ってその後、前記レジスト膜４５を例えば酸素（０２）
プラズマエツチングによって除去し、従来と同様にラソ
ピング工程により負圧発生凹部形成用マスク４９の除去
と薄膜磁気ヘッドのギャップ長を所定寸法に加工するこ
とにより、正確にギャップ長を加工・測定することが可
能となり、第９図に示すようにエツジ部分にエツチング
欠損が無く、かつ精度の良いギャップ長を有する負圧型
磁気ヘントスライダ５１を得ることができる。
発生凹部形成用マスク４９のエツジ部分が、例え斜線Ｃ
で示す如くエツチングされても、該負圧発生凹部５０の
保護膜４４からなるエツジ部分４４ａ及びサイトレール
面の一部となる薄膜磁気ヘッド素子４２の先端ギヤツブ
部を保護している保護膜４４のエツジ部分４４ｂが、ハ
ードキュアされたレジスト膜４５により確実に保護され
て従来のようにエツチングされる不都合がなくなる。従
ってその後、前記レジスト膜４５を例えば酸素（０２）
プラズマエツチングによって除去し、従来と同様にラソ
ピング工程により負圧発生凹部形成用マスク４９の除去
と薄膜磁気ヘッドのギャップ長を所定寸法に加工するこ
とにより、正確にギャップ長を加工・測定することが可
能となり、第９図に示すようにエツジ部分にエツチング
欠損が無く、かつ精度の良いギャップ長を有する負圧型
磁気ヘントスライダ５１を得ることができる。
Ｔｇｌ 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る負圧型磁
気ヘントスライダの製造方法によれば、イオンエツチン
グによって負圧発生凹部を形成する際に、負圧発生凹部
の保護膜からなるエツジ部分及びサイトレール面の一部
となる薄膜磁気ヘッド素子の先端ギャップ部を保護して
いる保護膜のエツジ部分のエツチング欠損が、ハードキ
ュアされたレジスト膜により確実に保護され、最終工程
でのヘッド先端とコイル間のギャップ長を所定寸法に容
易に、かつ正確に微細加工、又測定することが可能とな
る。従って精度の良いギャップ長を有する負圧型磁気ヘ
ッドスライダを得ることができ、この種の負圧型磁気ヘ
ッドスライダの製造に適用して優れた効果を奏する。
気ヘントスライダの製造方法によれば、イオンエツチン
グによって負圧発生凹部を形成する際に、負圧発生凹部
の保護膜からなるエツジ部分及びサイトレール面の一部
となる薄膜磁気ヘッド素子の先端ギャップ部を保護して
いる保護膜のエツジ部分のエツチング欠損が、ハードキ
ュアされたレジスト膜により確実に保護され、最終工程
でのヘッド先端とコイル間のギャップ長を所定寸法に容
易に、かつ正確に微細加工、又測定することが可能とな
る。従って精度の良いギャップ長を有する負圧型磁気ヘ
ッドスライダを得ることができ、この種の負圧型磁気ヘ
ッドスライダの製造に適用して優れた効果を奏する。
第１図乃至、第４図は従来の負圧型磁気へソドスライダ
の製造方法を工程順に示す斜視図、第５図は従来の製造
工程における薄膜磁気ヘッド素子の先端ギヤツブ部を保
護している保護膜のエツジ部分のエツチング欠損を示す
斜視図、第６図乃至第９図は本発明に係る負圧型磁気ヘ
ントスライダの製造方法の一実施例を工程順に示す斜視
図である。
の製造方法を工程順に示す斜視図、第５図は従来の製造
工程における薄膜磁気ヘッド素子の先端ギヤツブ部を保
護している保護膜のエツジ部分のエツチング欠損を示す
斜視図、第６図乃至第９図は本発明に係る負圧型磁気ヘ
ントスライダの製造方法の一実施例を工程順に示す斜視
図である。
Claims (1)
- 保護膜で被覆された薄膜磁気ヘッドを形成した非磁性の
スライダ形成基板のスライド面となるべき面に、負圧発
生四部形成用マスクを形成し、エツチング手段により負
圧発生四部を形成する負圧型磁気ヘントスライダの製造
方法において、上記スライダ形成基板のスライド面とな
るべき面に、負圧発生凹部形成用マスクを形成するに先
立ち、前記保護膜が被覆された薄膜磁気ヘッド上に、あ
らかじめレジスト膜を被着し、ハードキュ、アするよう
にしたことを特徴とする負圧型磁気ヘントスライダの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5007584A JPS60193182A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5007584A JPS60193182A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60193182A true JPS60193182A (ja) | 1985-10-01 |
| JPH0550044B2 JPH0550044B2 (ja) | 1993-07-28 |
Family
ID=12848884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5007584A Granted JPS60193182A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60193182A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0644535A2 (en) * | 1993-09-20 | 1995-03-22 | Read-Rite Corporation | Air bearing thin film magnetic head with a wear-resistant end cap |
-
1984
- 1984-03-14 JP JP5007584A patent/JPS60193182A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0644535A2 (en) * | 1993-09-20 | 1995-03-22 | Read-Rite Corporation | Air bearing thin film magnetic head with a wear-resistant end cap |
| EP0644535A3 (en) * | 1993-09-20 | 1996-03-06 | Read Rite Corp | Thin film, air bearing magnetic head with wear resistant end cap. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0550044B2 (ja) | 1993-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100264700B1 (ko) | 희생 마스크층을 사용하여 자기 정렬되는 자극 폴을 가지는 박막 자기 트랜스듀서 및 그 제조 방법 | |
| US5116719A (en) | Top pole profile for pole tip trimming | |
| US7108796B2 (en) | Method for fabrication of magnetic write head with self aligned poles | |
| JPS60193182A (ja) | 負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法 | |
| JPS61151818A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP2572213B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0227727B2 (ja) | ||
| JPS61283012A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2811514B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62229512A (ja) | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS61120329A (ja) | ヘツドスライダの製造方法 | |
| JPS60242561A (ja) | 負圧型磁気ヘツドスライダの製造方法 | |
| JPS60177416A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS61284818A (ja) | 薄膜磁気ヘツドウエハ− | |
| JPH04368605A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62229510A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS61227211A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH01184613A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの抵抗モニタパターン | |
| JPS6025015A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH02244415A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS60229216A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0266713A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0837147A (ja) | パターンマスク位置合わせ用ターゲット、その製造方法及びこれを用いた薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60138716A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの保護膜厚み測定方法 | |
| JPH10289415A (ja) | Ｍｒヘッドの作製方法 |