JPS60176040A - シヤドウマスク用パタ−ン版の製造方法 - Google Patents
シヤドウマスク用パタ−ン版の製造方法Info
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- JPS60176040A JPS60176040A JP59032840A JP3284084A JPS60176040A JP S60176040 A JPS60176040 A JP S60176040A JP 59032840 A JP59032840 A JP 59032840A JP 3284084 A JP3284084 A JP 3284084A JP S60176040 A JPS60176040 A JP S60176040A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シャドウマスク形成用パター７版の製造方法
に関する。
に関する。
一般に、シャドウマスクは、金属板の両面にレジスト膜
に塗布し、こ几らレジスト膜に多数の孔パターンが形成
された大孔側および小孔側の２枚のパターン版をそれぞ
れ密着させて露光および現像し、次いでレジスト膜の未
露光部分を除去してレジストパターンを形成し、このレ
ジストパターンをマスクとして金属板を両面からエツチ
ングすることにより製造される。このようなシャドウマ
スクの製造に用いら几るパターン版は、従来、第１図に
示すように成形前のシャドウマスク板の外形に対応する
外枠パターン１が形成されたガラス乾板２に、孔パター
ン３が有効部（孔パターンの集合体が占めるべき領域を
有効部という）の大きさに形成された孔パターンフィル
ム４を貼り込み用テープ５ｔｌ−用い′て貼り付けるこ
とにエリ形成されていた。なお、第１図に示すパターン
版は大孔側および小孔側のいずれか一方であり、他方の
パターン版には外枠パターンが形成さ几ている必要はな
い。
に塗布し、こ几らレジスト膜に多数の孔パターンが形成
された大孔側および小孔側の２枚のパターン版をそれぞ
れ密着させて露光および現像し、次いでレジスト膜の未
露光部分を除去してレジストパターンを形成し、このレ
ジストパターンをマスクとして金属板を両面からエツチ
ングすることにより製造される。このようなシャドウマ
スクの製造に用いら几るパターン版は、従来、第１図に
示すように成形前のシャドウマスク板の外形に対応する
外枠パターン１が形成されたガラス乾板２に、孔パター
ン３が有効部（孔パターンの集合体が占めるべき領域を
有効部という）の大きさに形成された孔パターンフィル
ム４を貼り込み用テープ５ｔｌ−用い′て貼り付けるこ
とにエリ形成されていた。なお、第１図に示すパターン
版は大孔側および小孔側のいずれか一方であり、他方の
パターン版には外枠パターンが形成さ几ている必要はな
い。
このような方法にエリ形成されたパターン版によると、
大孔側パターンと小孔側パターンとをそれぞｎレジスト
膜に互いに整合させて密着させた場合、孔パターンフィ
ルム４ （フィルムベースは合成樹脂である）の伸縮に
より位置合わせを精確に行なうことができず、そのため
精度よくシャドウマスクを製造することが困難であった
。また、上述の方法によると、シャドウマスク１品櫨ご
とに有効部の大きさがＳなる場合には孔パターンフィル
ムとしてその度に異なるものを作成する必要があり、そ
のため効率が悪く、孔パターンのピッチおよび孔径に変
更が無い場合には、多品機にわたって同一の孔パターン
フィルムを共用することが望ま几ていた。
大孔側パターンと小孔側パターンとをそれぞｎレジスト
膜に互いに整合させて密着させた場合、孔パターンフィ
ルム４ （フィルムベースは合成樹脂である）の伸縮に
より位置合わせを精確に行なうことができず、そのため
精度よくシャドウマスクを製造することが困難であった
。また、上述の方法によると、シャドウマスク１品櫨ご
とに有効部の大きさがＳなる場合には孔パターンフィル
ムとしてその度に異なるものを作成する必要があり、そ
のため効率が悪く、孔パターンのピッチおよび孔径に変
更が無い場合には、多品機にわたって同一の孔パターン
フィルムを共用することが望ま几ていた。
本発明は、上記事情の下になされ％尚積度かつ高効率で
シャドウマスク用パター７版を製造することを目的とす
る。
シャドウマスク用パター７版を製造することを目的とす
る。
即ち、本発明のシャドウマスク用パター７版の製造方法
は。
は。
（ａ） ポジ型孔パターンおよび周辺領域に位置合わせ
マークを有する孔パターン版を第１のガラス乾板上に重
ねて第１の露光を行ない、ネガ型孔パターンの潜像およ
び位置合わせマークの潜像を第１のガラス乾板に形成す
る工程。
マークを有する孔パターン版を第１のガラス乾板上に重
ねて第１の露光を行ない、ネガ型孔パターンの潜像およ
び位置合わせマークの潜像を第１のガラス乾板に形成す
る工程。
（ｂ） 前記第１のガラス乾板の周辺領域に位置合わせ
マークｔｓ分現像する工程、 （ｃ） シャドウマスクの有効部に対応する遮光部と、
周辺領域に位置合わせマークと？有する外形部マスク板
ｔ％罰記第１のガラス乾板上に、両者の位置合わせマー
クが合致する工うに殖ねて第２の露光を行ない、前記第
１のガラス乾板の、前記遮光部で覆われた領域以外の不
要な孔パターンの潜像を消去する工程。
マークｔｓ分現像する工程、 （ｃ） シャドウマスクの有効部に対応する遮光部と、
周辺領域に位置合わせマークと？有する外形部マスク板
ｔ％罰記第１のガラス乾板上に、両者の位置合わせマー
クが合致する工うに殖ねて第２の露光を行ない、前記第
１のガラス乾板の、前記遮光部で覆われた領域以外の不
要な孔パターンの潜像を消去する工程。
（ｄ） 前記第１のガラス乾板の消去されなかった孔パ
ターンの潜像を現像してネガ型、マスター版を作成する
工程、および （ｅ） 前記ネガ型マスター版からポジ型パター７版を
形成する工程を 具備することを特許とする。
ターンの潜像を現像してネガ型、マスター版を作成する
工程、および （ｅ） 前記ネガ型マスター版からポジ型パター７版を
形成する工程を 具備することを特許とする。
本発明の方法は、表裏２板のシャドウマスク形成用パタ
ー７版のいずれの製造にも適用可能である。孔パターン
のみｔ有するパターン版をＭ遺する場合には、前記工程
（ｅ）は、単にネガ型マスター版を反転してポジ型パタ
ー７版を形成すルば工い、孔パターンおよび外枠パター
ンを有するパターン版ｔ−製造する場合には、前記工程
（ｅ）は、前記ネガ型マスター版′ｆｔ第２のガラス乾
板上に点ねて第３の露光を行ない、ポジ型孔パターンの
潜像および位置合わせマークの潜像を第２のガラス乾板
に形成すること、前記第２のガラス乾板上周辺領域にあ
る位置合わせマークを部分現像すること、外枠パターン
と位置合わせマークとを有するネガ型外形部マスク板ｔ
−１前記第２のガラス乾板上に、両者の位置合わせマー
クが合致するように重ねて第４の露光を行ない、前記ガ
ラス乾板に外枠パターンのｍ像を形成すること、前記第
２のガラス乾板の孔パターンおよび外枠パターンの潜像
を現像し、孔パターンと外枠パターンとを有するポジ型
パターン版？形成することから構成される。なお、孔パ
ターンのみを有するパターン版と、孔パターンおよび外
枠パターンを有する孔パターンは、いずれが大孔側の版
であっても小孔側の版であってもよい、いずれか一方の
面からのエツチングにより、十分シャドウマスクの外枠
部の貫通が可能だからである。
ー７版のいずれの製造にも適用可能である。孔パターン
のみｔ有するパターン版をＭ遺する場合には、前記工程
（ｅ）は、単にネガ型マスター版を反転してポジ型パタ
ー７版を形成すルば工い、孔パターンおよび外枠パター
ンを有するパターン版ｔ−製造する場合には、前記工程
（ｅ）は、前記ネガ型マスター版′ｆｔ第２のガラス乾
板上に点ねて第３の露光を行ない、ポジ型孔パターンの
潜像および位置合わせマークの潜像を第２のガラス乾板
に形成すること、前記第２のガラス乾板上周辺領域にあ
る位置合わせマークを部分現像すること、外枠パターン
と位置合わせマークとを有するネガ型外形部マスク板ｔ
−１前記第２のガラス乾板上に、両者の位置合わせマー
クが合致するように重ねて第４の露光を行ない、前記ガ
ラス乾板に外枠パターンのｍ像を形成すること、前記第
２のガラス乾板の孔パターンおよび外枠パターンの潜像
を現像し、孔パターンと外枠パターンとを有するポジ型
パターン版？形成することから構成される。なお、孔パ
ターンのみを有するパターン版と、孔パターンおよび外
枠パターンを有する孔パターンは、いずれが大孔側の版
であっても小孔側の版であってもよい、いずれか一方の
面からのエツチングにより、十分シャドウマスクの外枠
部の貫通が可能だからである。
以下、図面を参照して１本発明の実態列について説明す
る。
る。
実施例１
第２図は、一孔パターンのみを有する小孔例パターン版
の製造工程を示す。
の製造工程を示す。
まず、ガラス乾板１１上に孔パターン版１２′に重ね、
露光して潜像を形成する。孔パターン版１２には、ポジ
型小孔パターン１３と周辺領域に４個Ｑ位置合わせマー
ク１４とが設けられている。この孔パターン版１２は特
殊な殖版装置により、全面に孔／（ターンが形成された
ものである０次いでガラス乾板１１の周辺領域にある位
置合わせマーク１４′のみを部分現像する。
露光して潜像を形成する。孔パターン版１２には、ポジ
型小孔パターン１３と周辺領域に４個Ｑ位置合わせマー
ク１４とが設けられている。この孔パターン版１２は特
殊な殖版装置により、全面に孔／（ターンが形成された
ものである０次いでガラス乾板１１の周辺領域にある位
置合わせマーク１４′のみを部分現像する。
部分現像は、暗室内において、現像液および定着液を現
像すべき部分のみに塗布して現像することにより行なわ
ｎる。なお１部分現像後も孔パターンの潜像はガラス乾
板１１に残留している。
像すべき部分のみに塗布して現像することにより行なわ
ｎる。なお１部分現像後も孔パターンの潜像はガラス乾
板１１に残留している。
その後、ガラス乾板１１上に外形部マスク１５１ｆ重ね
て露光を行なう、外形部マスク１５は、シャドウマスク
のＭ＠部即ち多数の孔が形成されるべき部分に対応する
遮光部１６と、周辺領域に位置合わせマーク１７とｔ”
／Ｋｔルモ。
て露光を行なう、外形部マスク１５は、シャドウマスク
のＭ＠部即ち多数の孔が形成されるべき部分に対応する
遮光部１６と、周辺領域に位置合わせマーク１７とｔ”
／Ｋｔルモ。
である、ガラス乾板１１と外形部マスク１５との位置合
わせは、乾板１）の位置合わせマーク１４′と外形部マ
スク１５の位置合わせマーク１７とを合致させることに
エリ精度良く行なうことができる。この露光により遮光
部１６により遮光された必要な孔パターン領域以外の不
要な孔パターンの潜像が消去される。
わせは、乾板１）の位置合わせマーク１４′と外形部マ
スク１５の位置合わせマーク１７とを合致させることに
エリ精度良く行なうことができる。この露光により遮光
部１６により遮光された必要な孔パターン領域以外の不
要な孔パターンの潜像が消去される。
次に、ガラス乾板１１の消去されなかった孔パターンの
潜像を現像して、有効部に孔パターン１８ｔ−有するネ
ガ型マスター版１９ｆ作成する。そして最後にこのネガ
型マスター版１９１に他のガラス乾板に反転して、ポジ
型孔パターン１８′を有するシャドウマスク用小孔側パ
ター７版３．０が得られる。
潜像を現像して、有効部に孔パターン１８ｔ−有するネ
ガ型マスター版１９ｆ作成する。そして最後にこのネガ
型マスター版１９１に他のガラス乾板に反転して、ポジ
型孔パターン１８′を有するシャドウマスク用小孔側パ
ター７版３．０が得られる。
実施例２
第３図は、孔パターンと外枠パターンの両方を有する大
孔側パターン版の製造上ａｔ示す。
孔側パターン版の製造上ａｔ示す。
まずガラス乾板２１上に、大孔パターンを形成すること
ｔ除いて実施例１と同様の製造工程で製造されたネガ型
マスター版２２’（重ねて露光を行ない潜像を与える。
ｔ除いて実施例１と同様の製造工程で製造されたネガ型
マスター版２２’（重ねて露光を行ない潜像を与える。
ネガ型マスター版２２は、孔パターン２３と位置合わせ
マーク２４とを有するものである０次いで、実施例１に
示す方法と同様にして、ガラス乾板２１の周辺部にある
位置合わせマーク２４′ｔ一部分現像する。
マーク２４とを有するものである０次いで、実施例１に
示す方法と同様にして、ガラス乾板２１の周辺部にある
位置合わせマーク２４′ｔ一部分現像する。
その後、ポジ型外形部マスクフィルム２５を反転して得
られるネガ型外形部マスク板２６ｔ−ガラス乾板２）上
に重ねて、露光を行なう、ネガ型外形部マスク板２６は
、成形前のシャドウマスク板の外形に対応するネガ型外
枠パターン２７と、位置合わせマーク２８とを有してい
る。
られるネガ型外形部マスク板２６ｔ−ガラス乾板２）上
に重ねて、露光を行なう、ネガ型外形部マスク板２６は
、成形前のシャドウマスク板の外形に対応するネガ型外
枠パターン２７と、位置合わせマーク２８とを有してい
る。
ガラス乾板２１と尿ガ型外形部マスク板２６との位置合
わせは、ガラス乾板２１の位置合わせマーク２４′とネ
ガ型外形部マスク板２６の位置会わせマーク２８とを合
致させることにより精度良く行なうことができる。
わせは、ガラス乾板２１の位置合わせマーク２４′とネ
ガ型外形部マスク板２６の位置会わせマーク２８とを合
致させることにより精度良く行なうことができる。
最後にガラス乾板２ノ全面を現像することにより、孔パ
ターン２９と枠パターン３０とｔｉするシャドウマスク
用大孔側パター７版３１が得られる。
ターン２９と枠パターン３０とｔｉするシャドウマスク
用大孔側パター７版３１が得られる。
以上説明した本発明の方法によると、従来の方法のよう
に孔パターンフィルムを貼りつけることなく、ガラス乾
板に孔パターンと外枠パターンとを形成することが可能
である。従って、フィルムの伸縮による精度の低下なし
に大孔側および小孔側２板のパターン板金精度良く、金
属板の表裏に塗布されたレジスト層に密着させることが
出来る。また、ガラス乾板と外形部マスクとの位置合わ
せは、ガラス乾板の部分現像により形成された位置合わ
せマークを用いて、浦精度で行なうことが可能である。
に孔パターンフィルムを貼りつけることなく、ガラス乾
板に孔パターンと外枠パターンとを形成することが可能
である。従って、フィルムの伸縮による精度の低下なし
に大孔側および小孔側２板のパターン板金精度良く、金
属板の表裏に塗布されたレジスト層に密着させることが
出来る。また、ガラス乾板と外形部マスクとの位置合わ
せは、ガラス乾板の部分現像により形成された位置合わ
せマークを用いて、浦精度で行なうことが可能である。
更に、本発明の工程は、すべて暗室内で連続的に行なう
ことができるので、工程に要する時間の短縮が可能であ
り、それによって工程途中の経時変化。
ことができるので、工程に要する時間の短縮が可能であ
り、それによって工程途中の経時変化。
例えば感光度の変化前によるトラブルを生ずることもな
い。
い。
第１図は、従来の方法にエリ得たシャドウマスク用パタ
ー２版の平面図、第２図は、本発明の一実施列であるシ
ャドウマスク用パターン版Ｖ製造工程図、および第３図
は、本発明の他の実施例であるシャドウマスク用パター
２版の製造工程図である。 Ｊ、Ｊ７．Ｊ（７・・・外枠パターン、２，１１゜２１
…ガラス乾板、Ｊ 、 Ｊ ：Ｉ 、 Ｊ Ｒ、Ｊ ｇ
／。 ２３．２９・・・孔パターン、４・・・孔パターンフィ
ルム、５・・・貼り込み用テープ、１２・・・孔パター
ン板％ １４ 、 Ｊ ４’、 １７ ＃ ２４ ａ
２４’、 ２ ＆…位置合わせマーク、１５．２６・・
・外形部マスク。 １６・・・遮光部、１９．２２・・・マスター版、２０
．３１・・・シャドウマスク用パター２版、２５・・・
外形部マスクフィルム。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図
ー２版の平面図、第２図は、本発明の一実施列であるシ
ャドウマスク用パターン版Ｖ製造工程図、および第３図
は、本発明の他の実施例であるシャドウマスク用パター
２版の製造工程図である。 Ｊ、Ｊ７．Ｊ（７・・・外枠パターン、２，１１゜２１
…ガラス乾板、Ｊ 、 Ｊ ：Ｉ 、 Ｊ Ｒ、Ｊ ｇ
／。 ２３．２９・・・孔パターン、４・・・孔パターンフィ
ルム、５・・・貼り込み用テープ、１２・・・孔パター
ン板％ １４ 、 Ｊ ４’、 １７ ＃ ２４ ａ
２４’、 ２ ＆…位置合わせマーク、１５．２６・・
・外形部マスク。 １６・・・遮光部、１９．２２・・・マスター版、２０
．３１・・・シャドウマスク用パター２版、２５・・・
外形部マスクフィルム。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図
Claims (3)
- （１） （ａ） ポジ型孔パターンおよび周辺領域に位
置合わせマークを有する孔パターン版ｔ−第１のガラス
乾板上に重ねて第１の露光を行ない、ネガ型孔パターン
の潜像および位置合わせマークの潜像を第１のガラス乾
板に形成する工程。 （ｂ） 前記第１のガラス乾板の周辺釦１こある位置合
わせマークを部分現像する工程。 （ｃ） シャドウマスクの有効部に対応する遮光部と、
周辺領域に位置合わせマークとを有する外形部マスク板
ｔ−１前記第１のガラス乾板上に、両者の位置合わせマ
ークが合致するように重ねて第２の露光を行ない、前記
第１のガラス乾板の、前記遮光部で榎わｎた領域以外の
不要な孔パターンの潜Ｉｔ ｋ消去する工程。 （ｄ） 前記第１のガラス乾板の消去されなかった孔パ
ターンの潜像を現像してネガ型マスター版を作成する工
程、お工び （ｅ） 前記ネガ型マスター版からポジ型パター７版を
形成する工程、 を具備するシャドウマスク用パター７版の製造方法。 - （２）前記工程（ｅ）は、前記ネガ型マスター版を反転
してポジ型パ鼾ン版を形成することからなる特許請求の
範囲第１項記載のシャドウマスク用パター７版の製造方
法。 - （３） 前記工程（ｅｌは、前記ネガ型マスター版を第
２のガラス乾板上に重ねて第３の露光を行ない、ポジ型
孔パターンの潜像および位置合わせマークの潜像を第２
のガラス乾板に形成すること％前記第２のガラス乾板の
周辺領域にある位置合わせマークｔ一部分現像すること
。 外枠パターンと位置合わせマークとｔ有するネガ型外形
部マスク板ｋｓｍ記第２のガラス乾板上に１両者の位置
合わせマークが合致するように重ねて第４の露光を行な
い、前記第２のガラス乾板に外枠パターンの潜像を形成
すること、前記第２のガラス乾板の孔パターン潜１象お
よび外枠パターンのｍ像を現像し。 孔パターンと外枠パターンとを有するポジ型パター７版
を形成することからなる特許請求の範囲第１項記載のシ
ャドウマスク用パター７版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59032840A JPS60176040A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | シヤドウマスク用パタ−ン版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59032840A JPS60176040A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | シヤドウマスク用パタ−ン版の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60176040A true JPS60176040A (ja) | 1985-09-10 |
| JPS6319860B2 JPS6319860B2 (ja) | 1988-04-25 |
Family
ID=12370016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59032840A Granted JPS60176040A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | シヤドウマスク用パタ−ン版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60176040A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4107762B4 (de) * | 1990-03-09 | 2006-07-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Verfahren zum Herstellen von Master- und Arbeitsmusterplatten für den Ätzprozess |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4957768A (ja) * | 1972-10-04 | 1974-06-05 | ||
| JPS5355218A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-19 | Tokyo Shibaura Electric Co | Positioning method of multiilaminated printing |
| JPS5835538A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | パタ−ンマスクの作製方法 |
-
1984
- 1984-02-23 JP JP59032840A patent/JPS60176040A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4957768A (ja) * | 1972-10-04 | 1974-06-05 | ||
| JPS5355218A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-19 | Tokyo Shibaura Electric Co | Positioning method of multiilaminated printing |
| JPS5835538A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | パタ−ンマスクの作製方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4107762B4 (de) * | 1990-03-09 | 2006-07-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Verfahren zum Herstellen von Master- und Arbeitsmusterplatten für den Ätzprozess |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6319860B2 (ja) | 1988-04-25 |
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