JPS60172943A - ヘプタン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
ヘプタン酸誘導体の製造方法Info
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- JPS60172943A JPS60172943A JP1287584A JP1287584A JPS60172943A JP S60172943 A JPS60172943 A JP S60172943A JP 1287584 A JP1287584 A JP 1287584A JP 1287584 A JP1287584 A JP 1287584A JP S60172943 A JPS60172943 A JP S60172943A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プロスタグランノン類の製造中間体として有
用なヘプタン酸誘導体の製造方法に関するものである。
用なヘプタン酸誘導体の製造方法に関するものである。
プロスタグランジン(Prostaglandin)類
1土、血小板凝集阻害作用、血圧降下および上昇作用、
平滑筋収縮作用、胃液分泌抑制作用等多くの薬理作用を
有し、故に血栓症、高血圧症、胃潰瘍等各種病気の予防
、治療薬として有用である。
1土、血小板凝集阻害作用、血圧降下および上昇作用、
平滑筋収縮作用、胃液分泌抑制作用等多くの薬理作用を
有し、故に血栓症、高血圧症、胃潰瘍等各種病気の予防
、治療薬として有用である。
プロスタグランノン類は、7−(2,5−ジオキソシク
ロペンチル)へブタン酸から容易に製造される(例えば
、Chem 、 Pbarm 、Bul 1. 、 1
7 。
ロペンチル)へブタン酸から容易に製造される(例えば
、Chem 、 Pbarm 、Bul 1. 、 1
7 。
408 (1969) ; Agr、 and Bio
l、CI+em 、+33.1078(1969)参照
)。しh化、7−(2,5−ジオキソシクロペンチル)
へブタン酸の従来知られている製造法によれば合成工程
が極めて長イ(CI+em、 PharIo、 Bul
l、、旦、408(1969); Agr、 and
Biol、Che+o 、+33+ 1078(196
9))、あるいは触媒の調製が煩雑である( C1+e
+o 、 Ber、、ユ↓3.2939(1980))
という問題があり、工業上有利な製造法の開発が望まれ
ていた。
l、CI+em 、+33.1078(1969)参照
)。しh化、7−(2,5−ジオキソシクロペンチル)
へブタン酸の従来知られている製造法によれば合成工程
が極めて長イ(CI+em、 PharIo、 Bul
l、、旦、408(1969); Agr、 and
Biol、Che+o 、+33+ 1078(196
9))、あるいは触媒の調製が煩雑である( C1+e
+o 、 Ber、、ユ↓3.2939(1980))
という問題があり、工業上有利な製造法の開発が望まれ
ていた。
本発明者らは、プロスタグランジン類を取得するために
7−(2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸を
簡便かつ低コストで製造する方法を開発すべく鋭意研究
した結果、1−シクロオクテン−1−イル アセテート
と無水コハク酸またはコハク酸クロリドを7リ一デルク
ラ7ツ反応に付し、水又は酸若しくはアルカリ水で処理
することにより極めて簡便、安価に高純度度の7−(2
゜5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸を製造でき
ることを見出し、この発見に基いて本発明を完成するに
至った。
7−(2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸を
簡便かつ低コストで製造する方法を開発すべく鋭意研究
した結果、1−シクロオクテン−1−イル アセテート
と無水コハク酸またはコハク酸クロリドを7リ一デルク
ラ7ツ反応に付し、水又は酸若しくはアルカリ水で処理
することにより極めて簡便、安価に高純度度の7−(2
゜5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸を製造でき
ることを見出し、この発見に基いて本発明を完成するに
至った。
即ち、本発明は、一般式
で示されるシクロオクテン誘導体と、一般式で示される
化合物とを反応せしめ、一般式〇 で示されるヘプタン酸誘導体を製造することを特徴とす
るものである。
化合物とを反応せしめ、一般式〇 で示されるヘプタン酸誘導体を製造することを特徴とす
るものである。
上記式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基、アリール
基又はアラルキル基を表わし、 R2はアセトキシ、ブ
チロキシ等のアシルオキシ基、塩素。
基又はアラルキル基を表わし、 R2はアセトキシ、ブ
チロキシ等のアシルオキシ基、塩素。
臭素等のハロゲン原子又は水素原子を表わし、また、X
I、X2はハロゲン原子をそれぞれ表わす。
I、X2はハロゲン原子をそれぞれ表わす。
本発明において、出発物質であるシクロオクテン誘導体
として上記1−シクロオクテン−1−イル アセテート
を使用する場合には、シクロオクタメンに酸の存在下、
インプロペニル アセテートを反応させることにより極
めて容易かつ高収率で得られる。
として上記1−シクロオクテン−1−イル アセテート
を使用する場合には、シクロオクタメンに酸の存在下、
インプロペニル アセテートを反応させることにより極
めて容易かつ高収率で得られる。
触媒としては、フリーデルクラフッ反応に用いられる塩
化アルミニウム、塩化スズ、三7フ化ホウ素、塩化亜鉛
等のルイス酸が使用される。
化アルミニウム、塩化スズ、三7フ化ホウ素、塩化亜鉛
等のルイス酸が使用される。
溶媒としては、塩化メチレン、1,2ジクロルエタン、
ニトロメタン、ニトロベンゼン等を用いればよい。
ニトロメタン、ニトロベンゼン等を用いればよい。
また、反応混合物からの7(2+5−シ゛オキソシクロ
ペンチル)へブタン酸の単離、精製は溶媒抽出、アルカ
リ抽出および水洗だけでよいことを見出している。従っ
て、本発明方法は・極めて簡便、有利な方法といえる。
ペンチル)へブタン酸の単離、精製は溶媒抽出、アルカ
リ抽出および水洗だけでよいことを見出している。従っ
て、本発明方法は・極めて簡便、有利な方法といえる。
?−(2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸か
らプロスタグランジン類の合成に関しては種々公知(例
えば、Agr、 and B iol、 Cben+、
+ 33 +1078 (1969’);C1+cq
++、 PharIo、 Bull、、↓ユ。
らプロスタグランジン類の合成に関しては種々公知(例
えば、Agr、 and B iol、 Cben+、
+ 33 +1078 (1969’);C1+cq
++、 PharIo、 Bull、、↓ユ。
408(1969)参照。)であり、従来この製造には
長い工程(例えばマロン酸ジエチルから7エ程)を要し
、その収車上、煩雑さの上から工業上問題であった。
長い工程(例えばマロン酸ジエチルから7エ程)を要し
、その収車上、煩雑さの上から工業上問題であった。
本発明によれば、前述の如く極めて簡便、かつ高収率に
7−(2,5−ジオキソシクロペンチル)ヘプタン酸誘
導体を製造することができるので本発明は極めて有用で
ある。
7−(2,5−ジオキソシクロペンチル)ヘプタン酸誘
導体を製造することができるので本発明は極めて有用で
ある。
なお、マロン酸ジエチルを出発原料とする従来法は次の
とおりである。
とおりである。
C112(C02EL)2−→EL00CC112CI
l(Co□Eth→P11CI+200CC112C1
1(C00CII2PIl)2←PhCII□00CC
II2C(C00CII2PIl)2CO(C1l□)
、C00Et0OI1 ←1100CC1+2CCO(CI+2)7COOEL
←0OI1 1100cc+12CII□C0(CI+□)、C00
Et←前述の如く、本発明によればロスタグランノン類
の製造中間体として有用なヘプタン酸誘導体を僅かに2
工程で製造することができ、反応繰作、単離精製も簡便
であるので、従来法に比較し製造工程、設備等が格段に
改善されることになる。
l(Co□Eth→P11CI+200CC112C1
1(C00CII2PIl)2←PhCII□00CC
II2C(C00CII2PIl)2CO(C1l□)
、C00Et0OI1 ←1100CC1+2CCO(CI+2)7COOEL
←0OI1 1100cc+12CII□C0(CI+□)、C00
Et←前述の如く、本発明によればロスタグランノン類
の製造中間体として有用なヘプタン酸誘導体を僅かに2
工程で製造することができ、反応繰作、単離精製も簡便
であるので、従来法に比較し製造工程、設備等が格段に
改善されることになる。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例1
シクロオクタノン50gとインプロペニル アセテ−)
100mlをパラトルエンスルホン酸0.6gの存在下
、11時間加熱還流した。冷却後、無水炭酸ナトリウム
0.68を加え、室温にて1時間攪拌し、−夜装置、濾
過した後、濾液な減圧蒸留した。沸点71−73℃/
3 rain I−1gの1−シクロオクテン−1−イ
ルアセテート60gを得た。
100mlをパラトルエンスルホン酸0.6gの存在下
、11時間加熱還流した。冷却後、無水炭酸ナトリウム
0.68を加え、室温にて1時間攪拌し、−夜装置、濾
過した後、濾液な減圧蒸留した。沸点71−73℃/
3 rain I−1gの1−シクロオクテン−1−イ
ルアセテート60gを得た。
塩化アルミニウム2.7gを1,2−ジクロルエタン5
1n1に懸濁させ、無水フハク酸1gを加えた後、冷却
下上述のようにして得た1−シクロオクテン−1−イル
アセテ−)1.66gを約3分間で滴下し、1時間室温
にて攪拌した。70℃にて5時間加熱攪拌した後冷却し
、氷を含む1N−塩酸50「1にあけ、酢酸エチル30
m1にて3回抽出した。酢酸エチルを留去後、飽和重曹
水30拍1とエーテル30M1を加えて攪拌、分層し、
再び飽和重曹水20m1とエーテル20m1にて攪拌、
分層し、得られた水層を合わせ、エーテル20+111
にて3回洗浄した。水層を6N塩酸にてpi−11〜2
に調整後、酢酸エチルにて抽出、乾燥後、酢酸エチルを
留去した。残留物を水3n+1で2回洗浄し、7−(2
゜5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸0.24g
を得た。このものは、m、p138〜14°6℃で、別
途合成した標準物質とIRおよびNMRスペクトルが一
致した。
1n1に懸濁させ、無水フハク酸1gを加えた後、冷却
下上述のようにして得た1−シクロオクテン−1−イル
アセテ−)1.66gを約3分間で滴下し、1時間室温
にて攪拌した。70℃にて5時間加熱攪拌した後冷却し
、氷を含む1N−塩酸50「1にあけ、酢酸エチル30
m1にて3回抽出した。酢酸エチルを留去後、飽和重曹
水30拍1とエーテル30M1を加えて攪拌、分層し、
再び飽和重曹水20m1とエーテル20m1にて攪拌、
分層し、得られた水層を合わせ、エーテル20+111
にて3回洗浄した。水層を6N塩酸にてpi−11〜2
に調整後、酢酸エチルにて抽出、乾燥後、酢酸エチルを
留去した。残留物を水3n+1で2回洗浄し、7−(2
゜5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸0.24g
を得た。このものは、m、p138〜14°6℃で、別
途合成した標準物質とIRおよびNMRスペクトルが一
致した。
実施例2
塩化アルミニウム2.7gを1,2−ジクロルエタン5
m’lに懸濁させ、フハク酸クロリド1.6gと1−シ
クロオクテン−1−イル アセテ−)2.7gを室温に
て加えた後、70℃にて5時間攪拌した。
m’lに懸濁させ、フハク酸クロリド1.6gと1−シ
クロオクテン−1−イル アセテ−)2.7gを室温に
て加えた後、70℃にて5時間攪拌した。
氷を含む1N塩酸50m1にて分解、酢酸エチル3(l
u+ l lこて3回抽出した。酢酸エチル層から飽
和重曹水30+nlにて2回抽出、水層を酢酸エチルで
洗浄後、pi−11−2に調整、再び酢酸エチル30+
nlにて3回抽出、乾燥後、溶媒を留去した。残留物を
水で洗浄し、0.28の7−(2,S−ジオキソシクロ
ペンチル)へブタン酸を得た。m、p 135〜146
°C 実施例3 塩化アルミニウム2.5gを1,2−ジクロルエタン]
(imlに懸濁し、無水フハク酸1gを加え室温にて1
.5時間攪拌した。水冷下、1−シクロオクテン−1−
イル アセテート1.7gを3分間で加え、室温にて1
0分間攪拌した。その後、4時間加熱還流し、冷却後水
を含むIN塩酸50偵1にあける。酢酸エチル30m1
にて4回抽出後、飽和重曹水30+nlにて逆抽出、p
H7に調整する。酢酸エチル20m1にて3回洗浄後、
水層な6N塩酸にてpl−12に調整、再び酢酸エチル
30m1にて4回抽出し、乾燥した。溶媒を留去し、残
留物を水で洗浄し、+n、p 130〜125℃の7−
(2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸0.2
gを得た。IRおよびNMRスペクトルは別途合成し
た標準物質と一致した。
u+ l lこて3回抽出した。酢酸エチル層から飽
和重曹水30+nlにて2回抽出、水層を酢酸エチルで
洗浄後、pi−11−2に調整、再び酢酸エチル30+
nlにて3回抽出、乾燥後、溶媒を留去した。残留物を
水で洗浄し、0.28の7−(2,S−ジオキソシクロ
ペンチル)へブタン酸を得た。m、p 135〜146
°C 実施例3 塩化アルミニウム2.5gを1,2−ジクロルエタン]
(imlに懸濁し、無水フハク酸1gを加え室温にて1
.5時間攪拌した。水冷下、1−シクロオクテン−1−
イル アセテート1.7gを3分間で加え、室温にて1
0分間攪拌した。その後、4時間加熱還流し、冷却後水
を含むIN塩酸50偵1にあける。酢酸エチル30m1
にて4回抽出後、飽和重曹水30+nlにて逆抽出、p
H7に調整する。酢酸エチル20m1にて3回洗浄後、
水層な6N塩酸にてpl−12に調整、再び酢酸エチル
30m1にて4回抽出し、乾燥した。溶媒を留去し、残
留物を水で洗浄し、+n、p 130〜125℃の7−
(2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸0.2
gを得た。IRおよびNMRスペクトルは別途合成し
た標準物質と一致した。
実施例4
塩化アルミニウム2.7gをニトロメタン15m1に溶
解上無水コハク酸1.Og)加えた後、冷却下1−シク
ロオクテン−1−イル アセテート2.7gを滴下し、
室温にて一夜攪拌した。加熱攪拌を4時間行った後冷却
し、氷を含むIN塩酸50m1にて分解、酢酸エチル3
011にて4回抽出した。飽和重曹水30+olにて2
回逆抽出し、pH7に調整、酢酸エチルにて洗浄、水層
な6N−塩酸にてpH2に調整後、再び酢酸エチル30
m1にて4回抽出した。酢酸エチルを乾燥後、溶媒を留
去、残留物を水で洗浄し、m、plO5〜122℃の7
− (2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸0
.2gを得た。
解上無水コハク酸1.Og)加えた後、冷却下1−シク
ロオクテン−1−イル アセテート2.7gを滴下し、
室温にて一夜攪拌した。加熱攪拌を4時間行った後冷却
し、氷を含むIN塩酸50m1にて分解、酢酸エチル3
011にて4回抽出した。飽和重曹水30+olにて2
回逆抽出し、pH7に調整、酢酸エチルにて洗浄、水層
な6N−塩酸にてpH2に調整後、再び酢酸エチル30
m1にて4回抽出した。酢酸エチルを乾燥後、溶媒を留
去、残留物を水で洗浄し、m、plO5〜122℃の7
− (2,5−ジオキソシクロペンチル)へブタン酸0
.2gを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 く式中、R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル
基を表わす。)で示されるシクロオクテン誘導体と、 (式中、1で2はアシルオキシ基、)・ロジン原子又は
水素原子を、X’、X2はハロゲン原子を、それぞれ表
わす。)で示される化合物とを反応せしめることを特徴
とする一般式 (式中、R2は上記と同一の意味を有する。)で示され
るヘプタン酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287584A JPS60172943A (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | ヘプタン酸誘導体の製造方法 |
DE8585300496T DE3561317D1 (en) | 1984-01-27 | 1985-01-25 | Manufacture of heptanoic acid derivatives |
EP85300496A EP0150996B1 (en) | 1984-01-27 | 1985-01-25 | Manufacture of heptanoic acid derivatives |
US06/695,187 US4658055A (en) | 1984-01-27 | 1985-01-28 | Method for manufacture of 7-(2,5-dioxocyclopentyl)heptanoic acid derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287584A JPS60172943A (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | ヘプタン酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60172943A true JPS60172943A (ja) | 1985-09-06 |
Family
ID=11817593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1287584A Pending JPS60172943A (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | ヘプタン酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60172943A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53120686A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-21 | Hitachi Ltd | Forming method for thin film by gas phase reaction |
-
1984
- 1984-01-27 JP JP1287584A patent/JPS60172943A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53120686A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-21 | Hitachi Ltd | Forming method for thin film by gas phase reaction |
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