JPS60158196A - ニツケル含有光安定剤を含有する組成物 - Google Patents
ニツケル含有光安定剤を含有する組成物Info
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- JPS60158196A JPS60158196A JP60000318A JP31885A JPS60158196A JP S60158196 A JPS60158196 A JP S60158196A JP 60000318 A JP60000318 A JP 60000318A JP 31885 A JP31885 A JP 31885A JP S60158196 A JPS60158196 A JP S60158196A
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- C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
- C09K15/32—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing two or more of boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C09K15/326—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing two or more of boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing only metals
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はニッケル安定剤の混合物、及び光の作用に対す
るポリオレフィンの安定性を改良する為の該混合物の使
用法に関する。
るポリオレフィンの安定性を改良する為の該混合物の使
用法に関する。
他の物質と同様に、有機プラスチック材料は。
時間の経過に伴って性質がある程度変化し、この変化は
それを引き起こす影響によって多少速くなる。通常、こ
の変化はポリマーにいわゆる安定剤を添加することによ
って多少防ぐことができる。光または大気中の酸素によ
り起こる分解から有機ポリマーを保護する為にこれらに
添加剤を添加し得ることは公知である。添加剤に対する
需要は多く、その為に添加剤は有機ポリマーの老化現象
を防止または少なくとも大幅に遅らせることができなけ
ればならない。例えば、黄変現象１表面の艶もしくは透
明度の低下、並びＫまた衝撃強さ、曲げ強さ及び伸張能
力の低下が著しく抑制されるべきである。例えば、ビー
（ｙルキルフェノール）−モノスルフィドのＮｉ−フェ
ルレートを使用することにより、ポリオレフィンを光及
び熱によシ引き起こされる分解から保護できることがド
イツ特許公告公報第１１４４００４号により公知である
。さらにある種のホスホン酸またはホスホン酸の半エス
テルのニッケル塩が光の影響下での重合性有機材料の変
色を妨げることがスイス国特許願第４５７８３７号明細
書により公知である。しかしながら、これらの安定剤は
増大する要求に対して全ての点で適合する訳ではない。
それを引き起こす影響によって多少速くなる。通常、こ
の変化はポリマーにいわゆる安定剤を添加することによ
って多少防ぐことができる。光または大気中の酸素によ
り起こる分解から有機ポリマーを保護する為にこれらに
添加剤を添加し得ることは公知である。添加剤に対する
需要は多く、その為に添加剤は有機ポリマーの老化現象
を防止または少なくとも大幅に遅らせることができなけ
ればならない。例えば、黄変現象１表面の艶もしくは透
明度の低下、並びＫまた衝撃強さ、曲げ強さ及び伸張能
力の低下が著しく抑制されるべきである。例えば、ビー
（ｙルキルフェノール）−モノスルフィドのＮｉ−フェ
ルレートを使用することにより、ポリオレフィンを光及
び熱によシ引き起こされる分解から保護できることがド
イツ特許公告公報第１１４４００４号により公知である
。さらにある種のホスホン酸またはホスホン酸の半エス
テルのニッケル塩が光の影響下での重合性有機材料の変
色を妨げることがスイス国特許願第４５７８３７号明細
書により公知である。しかしながら、これらの安定剤は
増大する要求に対して全ての点で適合する訳ではない。
本発明において、ポリオレフィンをベースとした、光の
作用に対するグラスチック安定剤（以後、光安定剤と記
す）としてそれ自身が公知であるニッケル安定剤を少な
くとも２種含有する組成物が、光により引き起こされる
分解に対するポリオレフィンの保護に関して驚くべき相
剰作用を有することが見出された。該組成物に使用され
るニッケル含有安定剤はそれ自身が光安定剤であるが本
発明において得られた程の有効性は示さない。
作用に対するグラスチック安定剤（以後、光安定剤と記
す）としてそれ自身が公知であるニッケル安定剤を少な
くとも２種含有する組成物が、光により引き起こされる
分解に対するポリオレフィンの保護に関して驚くべき相
剰作用を有することが見出された。該組成物に使用され
るニッケル含有安定剤はそれ自身が光安定剤であるが本
発明において得られた程の有効性は示さない。
本発明は、下記の副群：
リ 次式■：
（式中、Ｒは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
わす）で表わされる化合物。
わす）で表わされる化合物。
２）次式■または■
（式中、
几は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、そし
て 式Ｈ中のニッケルは所望によ）追加される配位子Ａ１例
えば炭素原子数１ないし１８の第一もしくは第二アルキ
ルアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルジェ
タノールアミンもしくはアニリン、アニシジン、トルイ
ジン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、ｐ−
ブチルアニリン、キシリジン、ｐ−オクチルオキシアニ
リンもしくはモルホリン、ヘキサメチレンイミン、ピペ
ラジンまたはピペリジンを含有していても良い）で表わ
される化合物。
て 式Ｈ中のニッケルは所望によ）追加される配位子Ａ１例
えば炭素原子数１ないし１８の第一もしくは第二アルキ
ルアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルジェ
タノールアミンもしくはアニリン、アニシジン、トルイ
ジン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、ｐ−
ブチルアニリン、キシリジン、ｐ−オクチルオキシアニ
リンもしくはモルホリン、ヘキサメチレンイミン、ピペ
ラジンまたはピペリジンを含有していても良い）で表わ
される化合物。
５）次式Ｍ＝
（式中、几１及びＷは同一または異なって炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる化合物。
ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる化合物。
リ 次式■：
（式中、ｌ（＋”及びＲ４は同一または異なって炭素原
子ａ１ないし４のアルキル基を表わし、そしてＲ’＃［
素原子数１ないし１８のアルキル基を表わす）で表わさ
れる化合物、及び５）次式Ｖ： （式中、Ｒ６は炭素原子数４ないし１２のアルキル基を
表わす）で表わされる化合物 からなる群から選ばれる少なくとも２種のニッケル含有
光安定剤を含有する組成物に関する。
子ａ１ないし４のアルキル基を表わし、そしてＲ’＃［
素原子数１ないし１８のアルキル基を表わす）で表わさ
れる化合物、及び５）次式Ｖ： （式中、Ｒ６は炭素原子数４ないし１２のアルキル基を
表わす）で表わされる化合物 からなる群から選ばれる少なくとも２種のニッケル含有
光安定剤を含有する組成物に関する。
上記式１中、几は直鎖または分枝鎖であυ。
好ましくは直鎖の炭素原子数４ないし１２のアルキル基
、例えばｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシルｔｓｓ ｎ−オク
チル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ロードデシル基
、好ましくはｎ−オクチル基、ｎ−デシル基またはｎ−
ドデシル基を表わす。
、例えばｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシルｔｓｓ ｎ−オク
チル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ロードデシル基
、好ましくはｎ−オクチル基、ｎ−デシル基またはｎ−
ドデシル基を表わす。
上記式■及び■′中、Ｂ′は直鎖または分枝鎖であシ、
好ましくは分枝鎖の炭素原子数４ないし８のアルキル基
、例えば第ニブチル基、第三ブチル基、ネオペンチル基
、２−ジエチルブチル基、第三オクチル基、とりわけ第
三オクチル基を表わす、第三オクチル基は１．１．５．
５−テトラメチルブチル基を意味するものと理解された
い。
好ましくは分枝鎖の炭素原子数４ないし８のアルキル基
、例えば第ニブチル基、第三ブチル基、ネオペンチル基
、２−ジエチルブチル基、第三オクチル基、とりわけ第
三オクチル基を表わす、第三オクチル基は１．１．５．
５−テトラメチルブチル基を意味するものと理解された
い。
ニッケルが付加配位子Ａとして炭素原子数１ないし１８
の第一または第二アルキルアミンを含有する場合（上記
式Ｉの場合）、アミンの置換基は直鎖または分枝鎖のア
ルキル基、好ましくは炭素原子数１ないし１２の直鎖の
アルキル基、とシわけｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基も
しくはｎ−ドデシル基を表わす。
の第一または第二アルキルアミンを含有する場合（上記
式Ｉの場合）、アミンの置換基は直鎖または分枝鎖のア
ルキル基、好ましくは炭素原子数１ないし１２の直鎖の
アルキル基、とシわけｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基も
しくはｎ−ドデシル基を表わす。
上記式■中 Ｈｌ及びＷは直鎖もしくは分枝鎖でも良く
、好ましくは同一の分枝鎖を表わし、と９わけ第三ブチ
ル基を表わす。
、好ましくは同一の分枝鎖を表わし、と９わけ第三ブチ
ル基を表わす。
上記式■中・Ｒ３及びＲ４は直鎖または分枝鎖でも良く
、好ましくは同一の分枝鎖を表わし、その場合と夛わけ
第三ブチル基を表わす。置換基几５は直鎖または分枝鎖
でも良く、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基
、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第ニブチル基、第三
ブチル基、ｎ−ペンチル基またはｎ−ヘキシル基を表わ
すが、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ −プロピル
基またはｎ−ブチル基を表わす。
、好ましくは同一の分枝鎖を表わし、その場合と夛わけ
第三ブチル基を表わす。置換基几５は直鎖または分枝鎖
でも良く、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基
、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第ニブチル基、第三
ブチル基、ｎ−ペンチル基またはｎ−ヘキシル基を表わ
すが、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ −プロピル
基またはｎ−ブチル基を表わす。
上記式Ｖ中、Ｖは直鎖または分枝鎖でも良く、好ましく
は炭素原子数８ないし１２のアルキル基を表わし、下記
の基：ｎ−オクチル基、ｎ−ノニルｌ ｎ−デシル基、
ｎ−ウンデシル基マたはｎ−ドデシル基、とりわけｎ−
ノニル基を表わすことができる。
は炭素原子数８ないし１２のアルキル基を表わし、下記
の基：ｎ−オクチル基、ｎ−ノニルｌ ｎ−デシル基、
ｎ−ウンデシル基マたはｎ−ドデシル基、とりわけｎ−
ノニル基を表わすことができる。
所望により、副群１．５．４及び５のニッケル化合物は
副群２で定義した配位子Ａの様な配位子をさらに含有し
ていても良い。
副群２で定義した配位子Ａの様な配位子をさらに含有し
ていても良い。
好ましくはこれらの組成物は１種が副群２から選ばれ、
もう１種が副群１．５．４及び５のいずれか１群から選
ばれ得る２種のニッケル含有光安定剤を含有する。
もう１種が副群１．５．４及び５のいずれか１群から選
ばれ得る２種のニッケル含有光安定剤を含有する。
さらに好ましいのは１種が副群３のニッケル含有化合物
であり、もう１種が副群１及び副群５のいずれかから選
ばれ得る２１１のニッケル含有光安定剤を含有する組成
物である。
であり、もう１種が副群１及び副群５のいずれかから選
ばれ得る２１１のニッケル含有光安定剤を含有する組成
物である。
さらに、１種が副群１のニッケル含有化合物でありもう
１種が副群５のニッケル含有化合物である２種のニッケ
ル含有光安定剤を含有する組成物が好ましい。
１種が副群５のニッケル含有化合物である２種のニッケ
ル含有光安定剤を含有する組成物が好ましい。
とシわけ好ましいのは。
（ａ）２．２−チオビス−（４−第三オクチルー７エル
−ト）−ブチルアミノ−ニッケル（ＩＮ）／２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンのニッケル（
ＩＩ）キレート、（ｂ） ２． ２’−チオビス−（４
−第三オクチルフェルレート）−ブチルアミノ−ニッケ
ル（ＩＩ） ／ニッケルービスー（１−フェニルー５−
メｆルー４−デカノイルー５−ビラゾレート）（Ｃ）
２９ ２’−チオビス−〔４−第三オクチルフェル−ト
〕−ブチルアミノ−ニッケル（…）／ニッケルービスー
〔（エチル−（５，５−ジーｇ＝ブチルー４−ヒドロキ
シベンジル）−ホスホネート）〕 （ｄ）２．２’−チオビス−〔４−第三オクチルフェル
−ト〕−ブチルアミノ−ニッケル（ＩＩ）／ビス（２，
２’−チオビス（４−第三オクチルフェルレート）〕−
ニッケル（Ｉ） （ｅ） ２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンのニッケル（ＩＦ）キレート／ビス〔２゜２′−
チオビス−（４−第三オクチルフェノレート）〕−ニッ
ケル（１） （ｆ） ２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンのニッケル（ｎ）キレート／ニッケルービス（１
−フェニル−３−メチル−４−デカノイル−５−ビラゾ
レート） （ｇ） ニッケルービス−〔エチル−（５，５−ジー第
三ブチ／Ｉ／−４−ヒドロキシベンジル）−ホスホネー
ト〕／ビス（２，２’−チオビス−（４−第三オクチル
−フェルレート）〕−二ニッケル１）及び （ｈ） ビス〔２，２−チオビス−（４−第三オクチル
７工／Ｌ／−）））−ニッケル（ＩＩ） ／ニッケルー
ビスー（１−フェニル−５−メチル−４−デカノイル−
５−ビラゾレート） からなる群から選ばれる２種のニッケル含有光安定剤を
含有する組成物である。
−ト）−ブチルアミノ−ニッケル（ＩＮ）／２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンのニッケル（
ＩＩ）キレート、（ｂ） ２． ２’−チオビス−（４
−第三オクチルフェルレート）−ブチルアミノ−ニッケ
ル（ＩＩ） ／ニッケルービスー（１−フェニルー５−
メｆルー４−デカノイルー５−ビラゾレート）（Ｃ）
２９ ２’−チオビス−〔４−第三オクチルフェル−ト
〕−ブチルアミノ−ニッケル（…）／ニッケルービスー
〔（エチル−（５，５−ジーｇ＝ブチルー４−ヒドロキ
シベンジル）−ホスホネート）〕 （ｄ）２．２’−チオビス−〔４−第三オクチルフェル
−ト〕−ブチルアミノ−ニッケル（ＩＩ）／ビス（２，
２’−チオビス（４−第三オクチルフェルレート）〕−
ニッケル（Ｉ） （ｅ） ２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンのニッケル（ＩＦ）キレート／ビス〔２゜２′−
チオビス−（４−第三オクチルフェノレート）〕−ニッ
ケル（１） （ｆ） ２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンのニッケル（ｎ）キレート／ニッケルービス（１
−フェニル−３−メチル−４−デカノイル−５−ビラゾ
レート） （ｇ） ニッケルービス−〔エチル−（５，５−ジー第
三ブチ／Ｉ／−４−ヒドロキシベンジル）−ホスホネー
ト〕／ビス（２，２’−チオビス−（４−第三オクチル
−フェルレート）〕−二ニッケル１）及び （ｈ） ビス〔２，２−チオビス−（４−第三オクチル
７工／Ｌ／−）））−ニッケル（ＩＩ） ／ニッケルー
ビスー（１−フェニル−５−メチル−４−デカノイル−
５−ビラゾレート） からなる群から選ばれる２種のニッケル含有光安定剤を
含有する組成物である。
特に好ましいものは（５） ２，２−チオビス−（４−
第三オクチル−フェルレート）−ブチルアンノーニッケ
ル（Ｉｆ） ／ニッケルービスー〔エチル−（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジＡ／）−ホスホ
ネート〕（Ｑ２１２−チオビス−（４−第三オクチル−
フェルレート）−ブチルアきノーニッケル（■）／ニッ
ケルービスー（１−フェニル−５−メチル−４−デカノ
イル−５−ビラゾレート）（Ｃ）２．２’−チオビス−
（４−第三オクチルー７エル−ト）−ブチルアミノ−ニ
ッケル（■）／２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベ
ンゾフェノンのニッケル（ＩＩ）キレート０ ビス（２
，２’−チオビス−（４−第三オクチルフェルレート）
〕−ニッケル（ＩＩ） ／ニッケルービスー（１−フェ
ニル−３−メチル−４−デカノイル−５−ビラゾレート
） （ト） ビス（２，２’−チオビス−（４−第三オクチ
ル−フェルレート）〕−ニッケル（ＩＩ）／２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンのニッケル（
ＩＩ）キレート からなる群から選ばれる２種のニッケル含有光安定剤を
含有する組成物である。
第三オクチル−フェルレート）−ブチルアンノーニッケ
ル（Ｉｆ） ／ニッケルービスー〔エチル−（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジＡ／）−ホスホ
ネート〕（Ｑ２１２−チオビス−（４−第三オクチル−
フェルレート）−ブチルアきノーニッケル（■）／ニッ
ケルービスー（１−フェニル−５−メチル−４−デカノ
イル−５−ビラゾレート）（Ｃ）２．２’−チオビス−
（４−第三オクチルー７エル−ト）−ブチルアミノ−ニ
ッケル（■）／２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベ
ンゾフェノンのニッケル（ＩＩ）キレート０ ビス（２
，２’−チオビス−（４−第三オクチルフェルレート）
〕−ニッケル（ＩＩ） ／ニッケルービスー（１−フェ
ニル−３−メチル−４−デカノイル−５−ビラゾレート
） （ト） ビス（２，２’−チオビス−（４−第三オクチ
ル−フェルレート）〕−ニッケル（ＩＩ）／２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンのニッケル（
ＩＩ）キレート からなる群から選ばれる２種のニッケル含有光安定剤を
含有する組成物である。
本発明による安定剤系中に存在するニッケル化合物は公
知方法、例えばイギリス国特許第９４４０８１号、イギ
リス国特許第９９１，５９１号１合衆国特許第へ０２９
，２７６号、合衆国特許第４１８９，６５０号、合衆国
特許第３，５１０，５７５号、スイス国特許第４５７、
８３７号及び合衆国特許第４．００ ａ２００号に記載
されている方法によって製造される。また化合物の多く
は市販品として入手し得る。
知方法、例えばイギリス国特許第９４４０８１号、イギ
リス国特許第９９１，５９１号１合衆国特許第へ０２９
，２７６号、合衆国特許第４１８９，６５０号、合衆国
特許第３，５１０，５７５号、スイス国特許第４５７、
８３７号及び合衆国特許第４．００ ａ２００号に記載
されている方法によって製造される。また化合物の多く
は市販品として入手し得る。
本発明による安定剤混合物を供給できるプラスチック材
料の例を下記に示す： ｔ モジオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ば所望によシ架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリイソブチレン−ポリブテン−１、ポリメチル
ペンテン−１、ポリイソプレンま九はポリブタジェン、
ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンモジく
はノルボルネンのポリマー。
料の例を下記に示す： ｔ モジオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ば所望によシ架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリイソブチレン−ポリブテン−１、ポリメチル
ペンテン−１、ポリイソプレンま九はポリブタジェン、
ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンモジく
はノルボルネンのポリマー。
２ って述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混合物。
ンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混合物。
＆ モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プ
ロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン
−１コポリマー、エチレン／ペンテン−１コポリマー、
エチレン／４−メチル−１−ペンテンコポリマー、エチ
レン／ヘキセン−１コポリマー、エチレン／オクテン−
１コポリマー、プロピレン／ブタジェンコポリマー、イ
ンブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキ
ルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタア
クリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコ
ポリマーマタハエチレン／アクリル酸コポリマー及びそ
れらの塩類（アイオノマー）のようなものそしてエチレ
ンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネンとのター
ポリマー。
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プ
ロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン
−１コポリマー、エチレン／ペンテン−１コポリマー、
エチレン／４−メチル−１−ペンテンコポリマー、エチ
レン／ヘキセン−１コポリマー、エチレン／オクテン−
１コポリマー、プロピレン／ブタジェンコポリマー、イ
ンブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキ
ルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタア
クリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコ
ポリマーマタハエチレン／アクリル酸コポリマー及びそ
れらの塩類（アイオノマー）のようなものそしてエチレ
ンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネンとのター
ポリマー。
４ 上記ポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰ
Ｐ／ＢＰＤＭ６ 非常圧重要なのは特にポリオレフィン、そしてとりわけ
ポリプロピレンとポリエチレンである。
Ｐ／ＢＰＤＭ６ 非常圧重要なのは特にポリオレフィン、そしてとりわけ
ポリプロピレンとポリエチレンである。
本発明の組成物は安定化されるべきポリオレフィンの重
量に対して（１００５ないし５重ＪｉｋｅＩｂの濃度で
ポリオレフィンに添加される。好ましくは安定化される
べき材料に対してα０５ないし２重量％、特にＱｌない
し２重量％の組成物を該材料に混合する。
量に対して（１００５ないし５重ＪｉｋｅＩｂの濃度で
ポリオレフィンに添加される。好ましくは安定化される
べき材料に対してα０５ないし２重量％、特にＱｌない
し２重量％の組成物を該材料に混合する。
本発明による組成物が２種の安定剤からなる安定剤系を
構成する場合、該安定剤は１：２０ないし２０：１の比
でポリオレフィンに添加される。
構成する場合、該安定剤は１：２０ないし２０：１の比
でポリオレフィンに添加される。
配合は例えば本発明によるニッケル含有光安定剤と所望
により他の添加剤を成形前もしくは成形中に当該技術分
野において慣用の方法に従って混合することによって、
さもなければ溶解もしくは分散した化合物をポリマーに
施用し、続いて所望によシ溶媒を留去することを特徴と
する。添加剤は別々に１または混合物の形で配合される
。
により他の添加剤を成形前もしくは成形中に当該技術分
野において慣用の方法に従って混合することによって、
さもなければ溶解もしくは分散した化合物をポリマーに
施用し、続いて所望によシ溶媒を留去することを特徴と
する。添加剤は別々に１または混合物の形で配合される
。
本発明による組成物は該化合物を含有するマスターパッ
チの形で１例えば２．５ないし２５重量％の濃度で安定
化されるべきグラスチック材料に添加することもできる
。
チの形で１例えば２．５ないし２５重量％の濃度で安定
化されるべきグラスチック材料に添加することもできる
。
架橋されたポリエチレンの場合は架橋が起こる前に本発
明による組成物を添加する。
明による組成物を添加する。
本発明の方法により安定化された材料は広範囲にわたる
形態、例えばフィルム特にアグロフィルム（ａｇｒｏｆ
ｉｌｍ ） 、繊維、テープ、成形組成物、形材、発
泡製品の形態で、またはラッカー、接着剤もしくはセメ
ントの結合剤の形態で使用され得る。
形態、例えばフィルム特にアグロフィルム（ａｇｒｏｆ
ｉｌｍ ） 、繊維、テープ、成形組成物、形材、発
泡製品の形態で、またはラッカー、接着剤もしくはセメ
ントの結合剤の形態で使用され得る。
実際には、本発明による組成物は他の安定剤と共に使用
され得る。本発明によシ使用される安定剤と共に使用さ
れ得る他の添加剤の例を下記に示す： １、 酸化防止剤 ２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノ−＃％２−
ｉ三ブチルー４．６−９メチルフェノール、２．６−シ
ー第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジー第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジー第
三ブチル−４−ｉ−フチルフェノール、２，６−ジ−シ
クロベンチルー４−メチルフェノール、２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノール、２，
４．６−ドリーシクロヘキジルフエノールおよび２，６
−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。
され得る。本発明によシ使用される安定剤と共に使用さ
れ得る他の添加剤の例を下記に示す： １、 酸化防止剤 ２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノ−＃％２−
ｉ三ブチルー４．６−９メチルフェノール、２．６−シ
ー第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジー第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジー第
三ブチル−４−ｉ−フチルフェノール、２，６−ジ−シ
クロベンチルー４−メチルフェノール、２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノール、２，
４．６−ドリーシクロヘキジルフエノールおよび２，６
−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。
２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール、２
，５−ジー第三ブチルヒドロキノン、２゜５−ジー第三
アミルヒドロキノンおよび２．６−ジフェニル−４−オ
クタデシルオキシフェノ−／′Ｏ １、＆ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル２．２
′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、２，２′−チオ−ビス−（４−オクチルフェノ
ール）、４，４Ｌチオ−ビス−（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）および４，４Ｌチオ−ビス−（６−
第三ブチル−２−メチルフェノール）。
，５−ジー第三ブチルヒドロキノン、２゜５−ジー第三
アミルヒドロキノンおよび２．６−ジフェニル−４−オ
クタデシルオキシフェノ−／′Ｏ １、＆ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル２．２
′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、２，２′−チオ−ビス−（４−オクチルフェノ
ール）、４，４Ｌチオ−ビス−（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）および４，４Ｌチオ−ビス−（６−
第三ブチル−２−メチルフェノール）。
１．４ アルキリデン−ビスフェノール２．２Ｌメチレ
ン−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）
、２．２’−メチレン−ビス−（６−ｆＪｉＬ三）ｆル
ー４−エチルフェノール）、２．２′−メチレン−ビス
−〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−
７エノール〕、２９２′−メチレン−ビス−（４−メチ
ル−６−シクロヘキジルフエノール）、２．２’−メチ
レン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２
゜２′−メチレン−ビス−（４，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、２，２′−エチリデン−ビス−（４゜６−
ジー第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−
ビス−（６−第三ブチル−４−インブチルフェノール）
、２．２’−メチレン−ビス−（６−（α−メチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕、２．２′−メチレン
−ビス−〔６−（α。
ン−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）
、２．２’−メチレン−ビス−（６−ｆＪｉＬ三）ｆル
ー４−エチルフェノール）、２．２′−メチレン−ビス
−〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−
７エノール〕、２９２′−メチレン−ビス−（４−メチ
ル−６−シクロヘキジルフエノール）、２．２’−メチ
レン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２
゜２′−メチレン−ビス−（４，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、２，２′−エチリデン−ビス−（４゜６−
ジー第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−
ビス−（６−第三ブチル−４−インブチルフェノール）
、２．２’−メチレン−ビス−（６−（α−メチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕、２．２′−メチレン
−ビス−〔６−（α。
α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４
，４′−メチレン−ビス−（２，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、４．４’−メチレン−ビス−、（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、１．１−ビス−（５
−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−７１チルフエニル
）−ブタン、２，６−ジー（５−第三ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール
、１゜１．３−）リス−（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−ブタン、１．１−ビス−
（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）−５−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレング
リコール−ビス−〔３゜３−ビス−（３’−第三ブチル
−４′−ヒドロキシフェニル）−ブチレート〕、ジー（
３−第三プチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル
）−ジシクロペンタジエンおよびジー（２−（５’−第
三ブチル−２′−ヒドロキシ−５７−メチルベンジル）
−６−１１４三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフ
タレート。
，４′−メチレン−ビス−（２，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、４．４’−メチレン−ビス−、（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、１．１−ビス−（５
−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−７１チルフエニル
）−ブタン、２，６−ジー（５−第三ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール
、１゜１．３−）リス−（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−ブタン、１．１−ビス−
（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）−５−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレング
リコール−ビス−〔３゜３−ビス−（３’−第三ブチル
−４′−ヒドロキシフェニル）−ブチレート〕、ジー（
３−第三プチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル
）−ジシクロペンタジエンおよびジー（２−（５’−第
三ブチル−２′−ヒドロキシ−５７−メチルベンジル）
−６−１１４三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフ
タレート。
１．５． ベンジル化合物
１．３．５−トリー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、インオクチル６．５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス
−（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２，６−？メチ
ルベンジル）−ジチオールテレフタレー）、Ｉ 、３．
５−トリス−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、１．！１．５−）リス
−（４−第三ブチル−６−ヒドロキシ−２，６−シメチ
ルペンジル）インシアヌレート、ジオクタデシル３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、およびモノエチル５゜５− シー第三フｆルー４−
ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、インオクチル６．５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス
−（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２，６−？メチ
ルベンジル）−ジチオールテレフタレー）、Ｉ 、３．
５−トリス−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、１．！１．５−）リス
−（４−第三ブチル−６−ヒドロキシ−２，６−シメチ
ルペンジル）インシアヌレート、ジオクタデシル３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、およびモノエチル５゜５− シー第三フｆルー４−
ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。
１．６． アシルアミノフェノール
４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシス
テアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプ
ト−６−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシア
ニリノ）−８−）リアジンおよびＮ−（３，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−力ルバミン酸オ
クチルエステル。
テアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプ
ト−６−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシア
ニリノ）−８−）リアジンおよびＮ−（３，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−力ルバミン酸オ
クチルエステル。
１、Ｚ 以下のよりな一価または多価アルコールとβ−
（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシルコールの
例：メタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレング
リコール、ジエチレンクリコール、トリエチレングリコ
ール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒドロキシエチ
ルイソシアヌレートおよびジーヒドロキシエチルオキサ
ル酸ジアミド。
（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシルコールの
例：メタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレング
リコール、ジエチレンクリコール、トリエチレングリコ
ール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒドロキシエチ
ルイソシアヌレートおよびジーヒドロキシエチルオキサ
ル酸ジアミド。
１、 ＩＩＬ 以下のような一価または アルコールと
β−（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−６ル アルコールの例：メタノール、オクタデ、カッ−’／ｌ
／、１．６−ヘキサンジオール、ネオペンチルｆ ＩＪ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレンクリコール、ペンタエリトリトール
、トリス−ヒドロキシエチルインシアヌレートおよびジ
ーヒドロキシエチルオキサル酸ジアミド。
β−（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−６ル アルコールの例：メタノール、オクタデ、カッ−’／ｌ
／、１．６−ヘキサンジオール、ネオペンチルｆ ＩＪ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレンクリコール、ペンタエリトリトール
、トリス−ヒドロキシエチルインシアヌレートおよびジ
ーヒドロキシエチルオキサル酸ジアミド。
ロキシフェニル）−プロピオン酸のアミド例えばＮ 、
Ｎ’−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）−へキサメチレンジアミン、
Ｎ 、 Ｎ’−ジー（６，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）−トリメチレンジアミ
ンおよびＮ、ＮＬトリー ３．５−ジー第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジン。
Ｎ’−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）−へキサメチレンジアミン、
Ｎ 、 Ｎ’−ジー（６，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）−トリメチレンジアミ
ンおよびＮ、ＮＬトリー ３．５−ジー第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジン。
２、ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾ
トリアゾール 例えば５′−メチル、３′、５′−ジー第三ブチル、５
′−第三ブチル、５’−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）、５−クロル−３′、５′−ジー第三ブチル
、５−クロル−３′−第三ブチル−５′−メメル、３′
−第二プチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３／、５′−ジー第三アミル、または３′。
トリアゾール 例えば５′−メチル、３′、５′−ジー第三ブチル、５
′−第三ブチル、５’−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）、５−クロル−３′、５′−ジー第三ブチル
、５−クロル−３′−第三ブチル−５′−メメル、３′
−第二プチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３／、５′−ジー第三アミル、または３′。
５′−ビス−（α、α−ジメチルベンジル）−１０４体
。
。
２．２２−ヒドロキシベンゾフェノン
例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ
、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジ
ルオキシ、４ 、２’、 ４’＝ ）リヒドロキシまた
は２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジ
ルオキシ、４ 、２’、 ４’＝ ）リヒドロキシまた
は２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
ル
例えば４−第三ブチルフェニルサリチレートフェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス−（４−ｍ三ブチルベンゾイ
ル）−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノールおｊ
び２，４−ジー第三ブチルフェニル３，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエートまたＨ３，５−ジ第
三ブチルー４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステ
ル。
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス−（４−ｍ三ブチルベンゾイ
ル）−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノールおｊ
び２，４−ジー第三ブチルフェニル３，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエートまたＨ３，５−ジ第
三ブチルー４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステ
ル。
２．４． アクリレート
例えばエチルまたはインオクチルα−シアノ−β、β−
ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシ
シンナメート、メチルまたはブチルα−シアノ−β−メ
チル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメ
トキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニ＃）−２−メチルインド
リン。
ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシ
シンナメート、メチルまたはブチルα−シアノ−β−メ
チル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメ
トキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニ＃）−２−メチルインド
リン。
２５、ニッケル化合物
例えば２，２Ｌチオ−ビス−［４−（＋、１．！ｉ。
３−ナト２メチルブチル）−フェノール］のニッケル錯
体、例として１：１または１：２錯体（所望によシ付加
配位子例えばトリエタノールアミンまた＃−ｒＮ−シク
ロヘキシルジェタノールアミンを有してよい）、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、ケトオキシム例えば２
−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトン、
オキシムのニッケル錯体またけ断端によシ付加配位子を
含んでよい１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロ
キシピラゾールのニッケル錯体。
体、例として１：１または１：２錯体（所望によシ付加
配位子例えばトリエタノールアミンまた＃−ｒＮ−シク
ロヘキシルジェタノールアミンを有してよい）、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、ケトオキシム例えば２
−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトン、
オキシムのニッケル錯体またけ断端によシ付加配位子を
含んでよい１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロ
キシピラゾールのニッケル錯体。
ビス−（２，２，６，６−チトラメチルーピベリジル）
−セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−セバケート、ｎ−ブチル−６，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
−エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ヒ、ドロキシピペリジンとコハク酸
との縮合物、Ｎ ＊ Ｎ’ （２ｔ ２ｔ ６ｔ ’−
テト２メチルピペリジル）−へキサメチレンジアミンと
４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロル−１，３，
５−ｓ−トリアジンとの縮合物、トリス−（２，２，，
６，６−チトラメチルビベリジル）−ニトリロトリアセ
テート、テトラキス−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル） −１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボン酸、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビ
ス−（５，３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）
。
−セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−セバケート、ｎ−ブチル−６，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
−エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ヒ、ドロキシピペリジンとコハク酸
との縮合物、Ｎ ＊ Ｎ’ （２ｔ ２ｔ ６ｔ ’−
テト２メチルピペリジル）−へキサメチレンジアミンと
４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロル−１，３，
５−ｓ−トリアジンとの縮合物、トリス−（２，２，，
６，６−チトラメチルビベリジル）−ニトリロトリアセ
テート、テトラキス−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル） −１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボン酸、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビ
ス−（５，３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）
。
２、ｌ シ瓢つ酸ジアミド
例えば４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２
．２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジー第三ブチ
ルオキサニリド、２．２’−ジ−ドデシルオキシ−５，
５Ｌジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′
−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス−（３−ジメチ
ルアミンプロピル）−オキサルアミド、２−エトキシ−
５−第三プチル−２′−エチルオキサニリドおよびこれ
と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジー第三ブ
チル−オキサニリドとの混合物、ならびにオルト−メト
キシおよびパラーメトキシニ置換オキサニリドの混合物
および０−、エトキシおよびｐ−エトキシニ置換オキサ
ニリドの混合物。
．２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジー第三ブチ
ルオキサニリド、２．２’−ジ−ドデシルオキシ−５，
５Ｌジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′
−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス−（３−ジメチ
ルアミンプロピル）−オキサルアミド、２−エトキシ−
５−第三プチル−２′−エチルオキサニリドおよびこれ
と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジー第三ブ
チル−オキサニリドとの混合物、ならびにオルト−メト
キシおよびパラーメトキシニ置換オキサニリドの混合物
および０−、エトキシおよびｐ−エトキシニ置換オキサ
ニリドの混合物。
Ｎ、ｔ＃ｆＮ、Ｎ’−ジフェニルオキサル酸ジアミド、
Ｎ−サリチラールーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ
、Ｎ’−ビスサリチロイルヒト２ジン、Ｎ、Ｎ’−ビス
（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ・ドロキシフェニル
グロビオニル）−ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ
−１，２，４−トリアゾールおよびビスーペンジリデン
シエウ酸ジヒドラジド。
Ｎ−サリチラールーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ
、Ｎ’−ビスサリチロイルヒト２ジン、Ｎ、Ｎ’−ビス
（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ・ドロキシフェニル
グロビオニル）−ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ
−１，２，４−トリアゾールおよびビスーペンジリデン
シエウ酸ジヒドラジド。
例Ｌｕ）リフェニルホヌフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ルーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−（
２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイ
ソデシルペンタエリトリトールジホスフィツト、ジー（
２，４−ジー第三ブチルフェニル）−ベンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトールト
リホスフィツトまたはテトラキス−（２，４−ジー第三
ブチルフェニル）−４，４’−ビフエニレンージホヌホ
ニイット。
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ルーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−（
２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイ
ソデシルペンタエリトリトールジホスフィツト、ジー（
２，４−ジー第三ブチルフェニル）−ベンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトールト
リホスフィツトまたはテトラキス−（２，４−ジー第三
ブチルフェニル）−４，４’−ビフエニレンージホヌホ
ニイット。
例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例として
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイ
ミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデクル
ジスルフイドおよびペンタエリトリトールテトラキス−
（β−ドデシルメルカプト）−プロピオネート。
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイ
ミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデクル
ジスルフイドおよびペンタエリトリトールテトラキス−
（β−ドデシルメルカプト）−プロピオネート。
例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタンならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばＣａステアレート、Ｚｎヌテアレート、Ｍｇステア
レート、Ｎａリシル−ト、Ｋパルミテート、アンチモン
ビロカテコレートまたはヌズピロカテコレート。
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタンならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばＣａステアレート、Ｚｎヌテアレート、Ｍｇステア
レート、Ｎａリシル−ト、Ｋパルミテート、アンチモン
ビロカテコレートまたはヌズピロカテコレート。
Ｚ 核剤
例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸またにジフ
ェニル酢酸。
ェニル酢酸。
例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸ノくリウム、金属酸
化物及び金属水酸化物、カーボンブラックまたは愚鉛。
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸ノくリウム、金属酸
化物及び金属水酸化物、カーボンブラックまたは愚鉛。
例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤
、静電防止剤まｆＩ−ｔ−を液体発泡剤。
、静電防止剤まｆＩ−ｔ−を液体発泡剤。
下記の実施例によシ、本発明の相剰混合物をさらに詳細
に説明する。
に説明する。
実施例１：
ａ）試験片の製造
低密度（ｄ＝α９１７）のボレエチレン粉末１００部を
ブラベンダー（Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ）グラストゲラフ中
で、第１表に挙けた安定剤ａ１５重量係と、または第１
の安定剤成分０．０７５重量％及び第２の安定剤成分０
．０７５重量俤（第２表に示す）と１８０℃の温度で１
０分間均一に混合する。この均一な組成物を実験室用プ
レス機中でプレスして２ないし５１ｍ１ｍの厚さのプレ
ートにする。このプレートの一部を再びプレス機中で１
７０℃の温度及びｌ ２ｍＨｇの圧力でプレスすると厚
さα１■のフィルムが得られ、これを冷水で冷却する。
ブラベンダー（Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ）グラストゲラフ中
で、第１表に挙けた安定剤ａ１５重量係と、または第１
の安定剤成分０．０７５重量％及び第２の安定剤成分０
．０７５重量俤（第２表に示す）と１８０℃の温度で１
０分間均一に混合する。この均一な組成物を実験室用プ
レス機中でプレスして２ないし５１ｍ１ｍの厚さのプレ
ートにする。このプレートの一部を再びプレス機中で１
７０℃の温度及びｌ ２ｍＨｇの圧力でプレスすると厚
さα１■のフィルムが得られ、これを冷水で冷却する。
このフィルムから６０Ｘ４０簡の試験片を切り取る。
ｂ）試験方法
ＥＭ用フィルムをキセノテスト１２８０（ＸＥＮＯＴＥ
ＳＴ １２００）装置中で照射する。
ＳＴ １２００）装置中で照射する。
試験片の試験中のカルボニル含有率の示標として測定さ
れる５、８５ｐｍｌＫおける吸収をＩＲ−スペクトル分
光光度計中で一定間隔を置いて分析する。カルボニル吸
収の増加はポリマーの光酸化分解の示準となり〔）＜ラ
ノ（ン（Ｂａ−１ａｂａｎ）等によるＪ、Ｐｏ１．Ｓｃ
ｉ、、Ｐａｒ十Ｃ，２２（１９６９）、１０５９ないし
１０７１含参照〕、材料の機械的強度の損失と関連づけ
られる。照射はカルボニル吸収がａｌｏｏに達するまで
続けられる。この様な損傷に達するまでの照射時間Ｔ（
Ｌｌを下記の２つの表に示す。
れる５、８５ｐｍｌＫおける吸収をＩＲ−スペクトル分
光光度計中で一定間隔を置いて分析する。カルボニル吸
収の増加はポリマーの光酸化分解の示準となり〔）＜ラ
ノ（ン（Ｂａ−１ａｂａｎ）等によるＪ、Ｐｏ１．Ｓｃ
ｉ、、Ｐａｒ十Ｃ，２２（１９６９）、１０５９ないし
１０７１含参照〕、材料の機械的強度の損失と関連づけ
られる。照射はカルボニル吸収がａｌｏｏに達するまで
続けられる。この様な損傷に達するまでの照射時間Ｔ（
Ｌｌを下記の２つの表に示す。
まず、単独もしくけ相剰性混合物中の安定剤の記述を簡
潔にする為に、個々の化合物に番号を付けることにより
下記の様に省、略する。
潔にする為に、個々の化合物に番号を付けることにより
下記の様に省、略する。
ｔ−ｃ、Ｈｌ、ｔ−ｃ、ｉ−ｉ、。
第１表：“低密度”ポリエチレン中のニッケル錯体のカ
ルボニル吸収が［１１Ｋ達 するまでのキセノテヌト１２００ 、これら′の結果から第２表に挙けた安定剤混合物が相
剰効果を有することが理解され得る。
ルボニル吸収が［１１Ｋ達 するまでのキセノテヌト１２００ 、これら′の結果から第２表に挙けた安定剤混合物が相
剰効果を有することが理解され得る。
Claims (8)
- （１）下記の副群： １）次式Ｉ： （式中、几は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
わす）で表わされる化合物。 ２）次式■または■ （式中、 几は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、そし
て 大皿′中のニッケルは所望によシ付加配位子Ａ１例えば
炭素原子数１ないし１８の第一もしくは第二アルキルア
ミン、トリエタノールアミン、シクロヘキフルジエタノ
ールアミンもしくはアニリン、アニシジン、トルイジン
、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、ｐ−ブチ
ルアニリン、キシリジン、ｐ−オクチルオΦジアニリン
もしくはモルホリ／、ヘキサメチレンイミン、ピペラジ
ンまたはピペリジンを含有していても良い）で表わされ
る化合物。 ５）次式■： （式中１几１及びＷは同一または異なりて炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる化合物。 リ 次式ｙ： （式中、Ｒｓ及びＲ４は同一または異なりて炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表わし、そして♂は炭素原子
数１ないし１８のアルキル基を表わす）で表わされる化
合物、及び５）次式Ｖ： （式中、Ｒ６は炭素原子数４ないし１２のアルキル基を
表わす）で表わされる化合物 からなる群から選ばれる少なくとも２種のニッケル含有
光安定剤を含有する組成物。 - （２）１種が副群２から選ばれ、もう１種が副群１、
Ｓ、 ４及び５のいずれか１群から選ばれ得る２種のニ
ッケル含有光安定剤を含有する特許請求の範囲第１項記
載の組成物。 - （３）１種が副群３のニッケル含有化合物であシも５１
種が副群１及び副群５のいずれかから選ばれ得る２種の
ニッケル含有光安定剤を含有する特許請求の範囲第１項
記載の組成物。 - （４）１種が副群１のニッケル含有化合物でありもう１
種が副群５のニッケル含有化合物である２種のニッケル
含有光安定剤を含有する特許請求の範囲第１項記載の組
成物。 - （５） （ａ）２．２−チオビス−（４−第三オクチルー７エル
−ト）−ブチルアミノ−ニッケル（ＩＩ）／２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンのニッケル（
ＩＩ）キレート（ｂ）２．２−チオビス−（４−第三オ
クチルフェルレート）−ブチルアミノ−ニッケル（■）
／ニッケルービスー（１−フェニル−５−メチル−４−
デカノイル−５−ビラゾレート）（ｃ）２．２−チオビ
ス−〔４−第三オクチルフェノレート〕−ブチルアミノ
−ニッケル（ｎ）／ニッケルービスー〔（エチル−（３
，５−シー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ホ
スホネート）〕 （ｄ）２．２−チオビス−〔４−第三オクチルフェル−
ト〕−ブチルアミノ−ニッケル（Ｕ）／ビス（２，２’
−チオビス（４−第三オクテルフェル−ト）〕−ニッケ
ル（ＩＩ） （ｅ） ２−ヒドロヤシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンのニッケル（ＩＩ）キレート／ビス（２，２’−
チオビス−（４−第三オクチルフェルレート）〕−ニッ
ケル（ＩＩ） （ｆ） ２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンのニッケル（ＩＩ）キレート／ニッケルービス（
１７フエニルー３−メチル−４−デカノイル−５−ビラ
ゾレート） （ｇ） ニッケルービス−〔エチル−（５，５−シー第
三ブチル−′４−ヒドロキシベンジル）−ホスホネート
〕／ビス〔２，ｉ−チオビス−（４−第三オクチル−フ
ェノレート）〕−ニッケル（ＩＩ）及び （ｈ） ビス（２，２’−チオビス−（４−第三オクチ
ルフェノレート）〕−ニッケル（ｎ） ／ニッケルービ
スー（１−フェニル−５−メチル−４−デカノイル−５
−ビラゾレート） からなる群から選ばれる２種のニッケル含有光安定剤を
含有する特許請求の範囲第１項記載の組成物。 - （６） （５）２，２′−チオビス−（４−第三オクチ
ル−フェルレート）−ブチルアミノ−ニッケル（■）／
ニッケルービスー〔エチル−（Ｓ、５−シーＩｌｌ 三
フチルー４−ヒドロキシベンジル）−ホスホネート〕 Φ）２．２’−チオビス−（４−第三オクチル−フェル
レート）−ブチルアミノ−ニッケル（■）／ニッケルー
ビスー（１−フェニル−５−メチル−４−デカノイル−
５−ビラゾレート）（Ｃ）２．２’−チオビス−（４−
第三オクチル−フェルレート）−ブチルアミノ−ニッケ
ル（ＩＩ）／２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベン
ゾフェノンのニッケル（１）キレート（財） ビス［２
，２’−チオビス−（４−第三オクチルフェルレート）
］−ニッケル（Ｉｆ） ／ニッケルービスー（１−フェ
ニル−５−メｆルー４−デカノイルー５−ビラゾレート
）及び（ト） ビス（２，２’−チオビス−（４−第三
オクチルフェノレート）〕−ニッケル（ｌＩ）／２−ヒ
ドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンのニッケ
ル（ＩＩ）キレート からなる群から選ばれる２櫨のニッケル含有光安定剤を
含有する特許請求の範囲第５項記載の組成物。 - （７） 下記の副群： １）次式■： （式中、几は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
わす）で表わされる化合物。 ２）次式■または■ （式中、 几′は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、そ
して 式■中のニッケルは所望によシ追加される配位子Ａ１例
えば炭素原子数１ないし１８の第一もしくは第二アルキ
ルアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルジェ
タノールアミンもしくはアニリン、アニシジン、トルイ
ジン、１−ナフチルアミン、２−す７チルアミン％ ｐ
−ブチルアニリン、キシリジン、ｐ−オクチルオキシア
ニリンもしくはモルホリン、ヘキサメチレンイミン、ピ
ペラジンまたはピペリジンを含有していても良い）で表
わされる化合物。 ５）次式層： （式中 Ｂｌ及びＶは同一または異なって炭素原子数１
ないし４のアルキル基を゛表わす）で表わされる化合物
。 リ 次弐■： （式中、ｉｔ”及びＲ４は同一または異なって炭素原子
数１ないし４のアルキル基を表わし、セして謬は炭素原
子数１ないし１Ｂのアルキル基を表わす）で表わされる
化合物、及び５）次式Ｖ： （式中、几６は炭素原子数４ないし１２のアルキル基を
表わす）で表わされる化合物 からなる群から選ばれる少なくとも２種のニッケル含有
光安定剤を含有する安定剤系を含有するポリオレフィン
。 - （８）安定剤系を、安定化されるべきポリオレフィンの
重量に対してａ００５ないし５重量％の濃度で含有する
特許請求の範囲第７項記載のポリオレフィン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH3284 | 1984-01-05 | ||
| CH32/84-2 | 1984-01-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60158196A true JPS60158196A (ja) | 1985-08-19 |
Family
ID=4177804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60000318A Pending JPS60158196A (ja) | 1984-01-05 | 1985-01-05 | ニツケル含有光安定剤を含有する組成物 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4623480A (ja) |
| JP (1) | JPS60158196A (ja) |
| AU (1) | AU579604B2 (ja) |
| BR (1) | BR8500014A (ja) |
| CA (1) | CA1278673C (ja) |
| DE (1) | DE3500016A1 (ja) |
| FR (1) | FR2557881B1 (ja) |
| GB (1) | GB2152513B (ja) |
| IT (1) | IT1184305B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63125545A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 着色オレフイン系樹脂組成物 |
| JP5234210B1 (ja) * | 2012-07-20 | 2013-07-10 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 太陽電池封止材用樹脂組成物 |
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| DE4131951A1 (de) * | 1991-09-25 | 1993-04-08 | Boehme Chem Fab Kg | Wasserloesliche bzw. dispergierbare mittel zur stabilisierung thermooxidativ labiler verbindungen |
| JPH11500425A (ja) * | 1995-01-23 | 1999-01-12 | ロンザ アーゲー | １，４，５，６−テトラヒドロピラジン−２−カルボキサミドの製造方法 |
| IT1299050B1 (it) * | 1998-04-09 | 2000-02-07 | Great Lakes Chemical Italia | Forma granulare di una miscela di un nichel-quencher e di un benzo- fenone e procedimento per la sua preparazione |
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| TWI755431B (zh) | 2016-10-14 | 2022-02-21 | 美商Ｃ３奈米有限公司 | 經穩定化之稀疏金屬導電膜 |
| CN108623640B (zh) * | 2018-07-03 | 2021-03-02 | 乐凯化学材料有限公司 | 2,2′-硫代双(4-叔辛基苯酚)正丁胺镍的制备方法 |
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| US3006895A (en) * | 1959-04-27 | 1961-10-31 | Dow Chemical Co | Vinylbenzyl ketones and esters and polymers thereof |
| NL277231A (ja) * | 1961-04-14 | |||
| DE1251330B (de) * | 1961-12-11 | 1967-10-05 | American Cyanamid Company Stamford Conn (V St A) | Verfahren zur Herstellung von Nickel Amm Komplexen von 2 2 -Thiobis (p alkylphenolen) |
| NL135764C (ja) * | 1962-05-29 | |||
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-
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-
1985
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- 1985-01-03 FR FR8500030A patent/FR2557881B1/fr not_active Expired
- 1985-01-03 GB GB08500051A patent/GB2152513B/en not_active Expired
- 1985-01-03 CA CA000471394A patent/CA1278673C/en not_active Expired - Lifetime
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- 1985-01-04 BR BR8500014A patent/BR8500014A/pt not_active IP Right Cessation
- 1985-01-04 IT IT19027/85A patent/IT1184305B/it active
- 1985-01-05 JP JP60000318A patent/JPS60158196A/ja active Pending
-
1986
- 1986-08-07 US US06/895,602 patent/US4734449A/en not_active Expired - Fee Related
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