JPS6015561B2 - 1,2−ジクロルエタンの熱分解から得られる塩化水素の精製方法 - Google Patents
1,2−ジクロルエタンの熱分解から得られる塩化水素の精製方法Info
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- JPS6015561B2 JPS6015561B2 JP56136214A JP13621481A JPS6015561B2 JP S6015561 B2 JPS6015561 B2 JP S6015561B2 JP 56136214 A JP56136214 A JP 56136214A JP 13621481 A JP13621481 A JP 13621481A JP S6015561 B2 JPS6015561 B2 JP S6015561B2
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- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 39
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 title claims description 39
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 title claims description 6
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical group ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 43
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 39
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 36
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 36
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 32
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 16
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 4
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007038 hydrochlorination reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- -1 as is well known Chemical compound 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282330 Procyon lotor Species 0.000 description 1
- 241000270295 Serpentes Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAMAAOTLJSEAR-UHFFFAOYSA-N [N].O=C=O Chemical compound [N].O=C=O KPAMAAOTLJSEAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012084 conversion product Substances 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- AIRCTMFFNKZQPN-UHFFFAOYSA-N oxidoaluminium Chemical compound [Al]=O AIRCTMFFNKZQPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
- C01B7/07—Purification ; Separation
- C01B7/0706—Purification ; Separation of hydrogen chloride
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1,2ージクロルェタンの熱分解の際に生成す
る塩化水素の精製方法に関し、詳しくは、ガス混合物に
水素を添加し、加熱装置に送り、次いで金属白金、パラ
ジウムならびにこれらの酸化物から成る群から選択した
成分を含有する挺体触媒を装入した反応塔に供給するこ
とによって、塩化水素中に不純物として含まれるアセチ
レンの8〜2ルゞール絶対圧において水素によって水素
添加する方法に関する。
る塩化水素の精製方法に関し、詳しくは、ガス混合物に
水素を添加し、加熱装置に送り、次いで金属白金、パラ
ジウムならびにこれらの酸化物から成る群から選択した
成分を含有する挺体触媒を装入した反応塔に供給するこ
とによって、塩化水素中に不純物として含まれるアセチ
レンの8〜2ルゞール絶対圧において水素によって水素
添加する方法に関する。
塩化ビニルの工業的規模の製造方法においては、周知の
ように、1,2ージクロルェタンを昇縞昇圧下において
分解して塩化ビニルと塩化水素を得ている。
ように、1,2ージクロルェタンを昇縞昇圧下において
分解して塩化ビニルと塩化水素を得ている。
生成した塩化水素はエチレンをオキシクロル化して更に
1,2ージクロルェタンにするのに、合理的に用いられ
ている。しかしながら、1,2−ジクロルェタンの熱分
解の際には通常、0.05〜0.5モル%の割合でアセ
チレンが劉生し、これは熱分解で生成する塩化水素中に
混入している。
1,2ージクロルェタンにするのに、合理的に用いられ
ている。しかしながら、1,2−ジクロルェタンの熱分
解の際には通常、0.05〜0.5モル%の割合でアセ
チレンが劉生し、これは熱分解で生成する塩化水素中に
混入している。
アセチレンはオキシクロル化条件下で反応して、除去し
1こくく、塩化ビニルの重合にも障害となる生成物を形
成するので、除去しなければならない。しかしながら、
生成するアセチレンの量は非常に少量であるので、経済
的に有利に回収することができず、また転換させて分離
することもできない。
1こくく、塩化ビニルの重合にも障害となる生成物を形
成するので、除去しなければならない。しかしながら、
生成するアセチレンの量は非常に少量であるので、経済
的に有利に回収することができず、また転換させて分離
することもできない。
それ故、塩化水素中のアセチレン不純物に水素添加する
ことができずに提案されている。このようにして生成し
た転換生成物−エチレンとェタン−は当然オキシクロル
化過程を妨げるものではない。西ドイツ特許公開第23
球437号公報には、1時間当り触媒1容量部につきガ
ス7000〜15000容量部の体積流量(15.6℃
、1気圧で計算)で少なくとも2つの連続した触媒領域
において水素添加を行なう水素添加方法が述べられてい
る。
ことができずに提案されている。このようにして生成し
た転換生成物−エチレンとェタン−は当然オキシクロル
化過程を妨げるものではない。西ドイツ特許公開第23
球437号公報には、1時間当り触媒1容量部につきガ
ス7000〜15000容量部の体積流量(15.6℃
、1気圧で計算)で少なくとも2つの連続した触媒領域
において水素添加を行なう水素添加方法が述べられてい
る。
この場合に、触媒系は生成物流の方向に上昇する活性プ
ロフィルを有している。しかしながら、この方法におい
ては8バール絶対圧以上の圧力において少なくとも部分
的に活性化した触媒を用いると、アセチレン分解間に形
成されるススが触媒上に堆積する結果、触媒がわずか数
ケ月の使用期間後にすでに再生不能に不活性化するので
、この方法はかなり低い圧力においてのみ実施可能であ
る。
ロフィルを有している。しかしながら、この方法におい
ては8バール絶対圧以上の圧力において少なくとも部分
的に活性化した触媒を用いると、アセチレン分解間に形
成されるススが触媒上に堆積する結果、触媒がわずか数
ケ月の使用期間後にすでに再生不能に不活性化するので
、この方法はかなり低い圧力においてのみ実施可能であ
る。
西ドイツ特許公告第15斑67y言明細書においても、
オキシクロル化の際に障害となるアセチレンを白金また
はパラジウム燐蝶による水素添加によって塩化水素から
除去する方法が提案されている。
オキシクロル化の際に障害となるアセチレンを白金また
はパラジウム燐蝶による水素添加によって塩化水素から
除去する方法が提案されている。
この反応の反応バラメー外ま広い範囲で変動することが
できる:反応温度は50〜200℃、流量は触媒1容量
部につきガス300〜500坪容量部、水素添加量はア
セチレン量に関して2〜5倍モルの過剰量、圧力は21
1気圧(絶対)まで、特に望ましくは1.4〜7気圧の
圧力が挙げられている。更に、上記の明細費によると、
任意の公知の担体物質をベースとする担体触媒が用いら
れている。経験によると、上記条件下での実施が可能で
あるとしても、せいぜい7バール(絶対圧)までの圧力
においてのみ、次のような利点を有して、経済的にかな
り長期間実施できる:一貫金属ベースの高価な鮫媒の頻
繁な取換えを必要とする、スズの汝積による触媒蓑を生
ずることがなく、または一価値のないェタン(目的のエ
チレンの代りに)の形成を増加させるような、選択性の
低下を生ずることがなく、かつ一アセチレンおよびエチ
レンの望ましくない塩化水素化生成物をやむ無く認める
と言う必要がない。
できる:反応温度は50〜200℃、流量は触媒1容量
部につきガス300〜500坪容量部、水素添加量はア
セチレン量に関して2〜5倍モルの過剰量、圧力は21
1気圧(絶対)まで、特に望ましくは1.4〜7気圧の
圧力が挙げられている。更に、上記の明細費によると、
任意の公知の担体物質をベースとする担体触媒が用いら
れている。経験によると、上記条件下での実施が可能で
あるとしても、せいぜい7バール(絶対圧)までの圧力
においてのみ、次のような利点を有して、経済的にかな
り長期間実施できる:一貫金属ベースの高価な鮫媒の頻
繁な取換えを必要とする、スズの汝積による触媒蓑を生
ずることがなく、または一価値のないェタン(目的のエ
チレンの代りに)の形成を増加させるような、選択性の
低下を生ずることがなく、かつ一アセチレンおよびエチ
レンの望ましくない塩化水素化生成物をやむ無く認める
と言う必要がない。
しかしながら、塩化ビニルの工業8隣製造方法において
はオキシクロルイ0段階へ送入する塩化水素の初期圧力
が8バール(絶対圧)以上であることがいまいま要求さ
れる(これについては西ドイツ特許公開第149321
3号参照)。
はオキシクロルイ0段階へ送入する塩化水素の初期圧力
が8バール(絶対圧)以上であることがいまいま要求さ
れる(これについては西ドイツ特許公開第149321
3号参照)。
本発明の課題は、1,2−ジクロルェタン熱分解の際に
発生する塩化水素に混入するアセチレンに8〜2ルゞ−
ル(絶対圧)の圧力範囲において水素添加することによ
る塩化水素の精製方法を提供することである。
発生する塩化水素に混入するアセチレンに8〜2ルゞ−
ル(絶対圧)の圧力範囲において水素添加することによ
る塩化水素の精製方法を提供することである。
精製した塩化水素はオキシクロル化の出発物質として使
用するための必要条件を満たしていなければならない。
特に、前記欠点一触嫌上にススが沈積すること、触媒効
率の低下ならびに選択性の低下すなわち副生成物の形成
−を、製造方法に応じてかなり高い圧力を用いて数年間
触媒を使用する場合には、避けなければならない。本発
明の対象は、1,2−ジクロルェタンの熱分解時に生成
する塩化水素に混入するアセチレンに8〜2ルゞール(
絶対氏)の圧力において過剰な水素を用いて水素添加す
ることによる塩化水素の精製方法において、a 使用す
る水素のモル過剰量日の数値は塩化水素中のアセチレン
含量A(モル%)の関数であり、次式に従がつて算出さ
れる(日の値に関して±5%の許容誤差範囲を伴う):
H=IQA十1; b 水素の供給は加熱装置の近くで行なう;c 約70
℃の温度に達してから触媒床に入るまでのガス流の滞留
時間は最高0.嶺砂間である;d 反応器を出るガス混
合物の温度を加熱装置の調整量として利用し、120〜
18ぴ○の温度範囲に維持する:e 次のパラメータ、
すなわち1時間当りの触媒量IZの対するガスのと値(
常温常圧下で測定)で表現した、空間流速R、反応器を
出るガス混合物の温度T(K)および圧力(バール絶対
圧)は、次式を満たすものである:388‐0.蛇 T=・一(2.7球十11.3)xlo‐5xR/P(
Tに対して±2%の許容誤差を含む);およびf 最大
5の/9の比表面積を有するような種類のアルミニウム
とケイ素の酸化物を触媒の担体物質として用いる、こと
を特徴とする方法である。
用するための必要条件を満たしていなければならない。
特に、前記欠点一触嫌上にススが沈積すること、触媒効
率の低下ならびに選択性の低下すなわち副生成物の形成
−を、製造方法に応じてかなり高い圧力を用いて数年間
触媒を使用する場合には、避けなければならない。本発
明の対象は、1,2−ジクロルェタンの熱分解時に生成
する塩化水素に混入するアセチレンに8〜2ルゞール(
絶対氏)の圧力において過剰な水素を用いて水素添加す
ることによる塩化水素の精製方法において、a 使用す
る水素のモル過剰量日の数値は塩化水素中のアセチレン
含量A(モル%)の関数であり、次式に従がつて算出さ
れる(日の値に関して±5%の許容誤差範囲を伴う):
H=IQA十1; b 水素の供給は加熱装置の近くで行なう;c 約70
℃の温度に達してから触媒床に入るまでのガス流の滞留
時間は最高0.嶺砂間である;d 反応器を出るガス混
合物の温度を加熱装置の調整量として利用し、120〜
18ぴ○の温度範囲に維持する:e 次のパラメータ、
すなわち1時間当りの触媒量IZの対するガスのと値(
常温常圧下で測定)で表現した、空間流速R、反応器を
出るガス混合物の温度T(K)および圧力(バール絶対
圧)は、次式を満たすものである:388‐0.蛇 T=・一(2.7球十11.3)xlo‐5xR/P(
Tに対して±2%の許容誤差を含む);およびf 最大
5の/9の比表面積を有するような種類のアルミニウム
とケイ素の酸化物を触媒の担体物質として用いる、こと
を特徴とする方法である。
少なくとも約70午0の温度に達してから、塩化水素に
予め水素を添加することが望ましい。
予め水素を添加することが望ましい。
塩化ビニルおよび未反応1,2ージクロルェタンをすで
に除去し、一般に3000の温度も有する1,2ージク
ロルェタソの熱分解間に生成した塩化水素を、8〜20
バール(絶対圧)の圧力において反応系に供給して、不
純物として混入しているアセチレンを除去する。
に除去し、一般に3000の温度も有する1,2ージク
ロルェタソの熱分解間に生成した塩化水素を、8〜20
バール(絶対圧)の圧力において反応系に供給して、不
純物として混入しているアセチレンを除去する。
塩化水素中のアセチレン舎量は一般に0.05〜0.5
モル%である。反応系は加熱装置、加熱装置の近くに配
置した水素供給管および実際の水素添加反応塔から構成
する。アセチレンを除去する必要のある塩化水素に水素
を添加し、加熱装置内に短時間滞留させて望ましい温度
にまで加熱してから、固有の水素添加反応器に供給し、
最後に、エチレンをオキシクロル化して1,2ージクロ
ルェタンを製造するための出発物質として再使用する。
この方法においては、本発明に従がつて次のような反応
条件を維持する:1 反応器出口における温度が120
〜18ぴ0になるように、塩化水素を加熱する。
モル%である。反応系は加熱装置、加熱装置の近くに配
置した水素供給管および実際の水素添加反応塔から構成
する。アセチレンを除去する必要のある塩化水素に水素
を添加し、加熱装置内に短時間滞留させて望ましい温度
にまで加熱してから、固有の水素添加反応器に供給し、
最後に、エチレンをオキシクロル化して1,2ージクロ
ルェタンを製造するための出発物質として再使用する。
この方法においては、本発明に従がつて次のような反応
条件を維持する:1 反応器出口における温度が120
〜18ぴ0になるように、塩化水素を加熱する。
反応器を出る混合物の温度は加熱装置を制御するための
調整変数として役立つ。2 塩化水素には、そのアセチ
レン含量に応じて過剰量に水素を添加する。水素過剰量
の数値日の数値は次式から算出される:H=10A+1 (式中、Aは塩化水素中のアセチレン含量をモル%で表
わしたもの)。
調整変数として役立つ。2 塩化水素には、そのアセチ
レン含量に応じて過剰量に水素を添加する。水素過剰量
の数値日の数値は次式から算出される:H=10A+1 (式中、Aは塩化水素中のアセチレン含量をモル%で表
わしたもの)。
許容誤差範囲は日の算出値の土5%である。水素は加熱
菱鷹の近くで、孔のある十字形混合器を用いて添加する
のが合理的である。一般に周囲温度である純粋な水素を
用いるが、代替的に例えばメタン、窒素二酸化炭素等の
ような不活性ガスで希釈した水素を用いることもできる
。3 ガス混合物が約7ぴ0の温度に達してから触媒床
に入るまでの滞留時間はせし、ぜい0.現砂間である。
菱鷹の近くで、孔のある十字形混合器を用いて添加する
のが合理的である。一般に周囲温度である純粋な水素を
用いるが、代替的に例えばメタン、窒素二酸化炭素等の
ような不活性ガスで希釈した水素を用いることもできる
。3 ガス混合物が約7ぴ0の温度に達してから触媒床
に入るまでの滞留時間はせし、ぜい0.現砂間である。
上記温度に達する前にまたは少なくとも上記温度に達し
た直後に、塩化水素に水素を加えるのが望ましい。′
極度に短かい滞留時間を可能にするために、加熱装置は
適切な設計のものでなければならない。
た直後に、塩化水素に水素を加えるのが望ましい。′
極度に短かい滞留時間を可能にするために、加熱装置は
適切な設計のものでなければならない。
方法と装置の種類に依存して、圧力の十分に大きい降下
が可能であるかぎり、単独の熱交換器を用いることがで
きる。しかしながら、少なくとも2つの別々の熱交換器
を用いて、最初に塩化水素を予備加熱領域に通して、せ
いぜい70qoまでに予備加熱し、次いで過熱器に通し
て、反応器を出る時に120〜180qoの温度を有す
夕 るような程度にまで、ガス混合物を加熱することが
いよいよ有利である。この製造装置では、塩化水素が過
熱器に入った直後に、水素を添加するのが望ましい。更
に、加熱装置と水素添加反応器との間には0 短かい間
隔を保たなければならない。
が可能であるかぎり、単独の熱交換器を用いることがで
きる。しかしながら、少なくとも2つの別々の熱交換器
を用いて、最初に塩化水素を予備加熱領域に通して、せ
いぜい70qoまでに予備加熱し、次いで過熱器に通し
て、反応器を出る時に120〜180qoの温度を有す
夕 るような程度にまで、ガス混合物を加熱することが
いよいよ有利である。この製造装置では、塩化水素が過
熱器に入った直後に、水素を添加するのが望ましい。更
に、加熱装置と水素添加反応器との間には0 短かい間
隔を保たなければならない。
また、触媒床の形状に依存して、加熱装置を水素添加反
応器に縦形配置または銭形配置で直接接続するのが望ま
しい。4 温度および圧力条件と触媒使用量にスループ
ットを適合させることも必要である。
応器に縦形配置または銭形配置で直接接続するのが望ま
しい。4 温度および圧力条件と触媒使用量にスループ
ットを適合させることも必要である。
本発明によると、3つの工程パラメータ、すなわち空間
流速R、圧力Pおよび温度Tは次式を満足するように調
整される:3総−0.球 T=・−(2.7坪十11.3xlo‐5×R/P(式
中、Tはアセチレンを除去した塩化水素が反応器を出る
時の温度(K)、Pは反応器に入る時の圧力(バール絶
対圧)、および空間流速Rは塩化水素装入量(1時間当
りの触媒1リットル量に対するガスのリットル量(機温
諸氏下で測定)を表わす)。
流速R、圧力Pおよび温度Tは次式を満足するように調
整される:3総−0.球 T=・−(2.7坪十11.3xlo‐5×R/P(式
中、Tはアセチレンを除去した塩化水素が反応器を出る
時の温度(K)、Pは反応器に入る時の圧力(バール絶
対圧)、および空間流速Rは塩化水素装入量(1時間当
りの触媒1リットル量に対するガスのリットル量(機温
諸氏下で測定)を表わす)。
上述の式は特許請求の範囲に記載した圧力と温度の範囲
に対して適用できるものである。圧力と空間流速の一定
の値に対して、温度の値の土2%の偏差が許容される。
5 水素添加反応器は最大5め/夕の比表面積を有する
アルミニウムとケイ素の酸化物をベースとする蓬体触媒
を含有する。
に対して適用できるものである。圧力と空間流速の一定
の値に対して、温度の値の土2%の偏差が許容される。
5 水素添加反応器は最大5め/夕の比表面積を有する
アルミニウムとケイ素の酸化物をベースとする蓬体触媒
を含有する。
このような損体物質の例は、石英粉、Q一酸化アルミニ
ウム、珪土、カオリン等である。狸体触媒の活性成分は
金属白金、パラジウムならびにこれらの酸化物から成る
群から選択する。
ウム、珪土、カオリン等である。狸体触媒の活性成分は
金属白金、パラジウムならびにこれらの酸化物から成る
群から選択する。
活性成分の量は触媒全体量に関して0.1〜0.2重量
%量である。固定床としての反応器は原則的に施回床と
しても形成することができる。
%量である。固定床としての反応器は原則的に施回床と
しても形成することができる。
施回床方法を適用した場合は、反応器の下方から上方へ
ガスを流過させるが、固定床配置の場合は流れの方向は
上方から下方へが合目的である。従って、加熱装置は反
応器に接続していなければならない。本発明による方法
では、1,2ージクロルェタンの熱分解によって生ずる
塩化水素をオキシクロル化に用いる出発物質として精製
することが可能であり、この方法ではアセチレン不純物
の水素添加に用いる触媒がかなり高い圧力を用いた場合
にも、数年間にわたる耐用寿命を有している。本発明に
よる製造工程制御によって、反応器の前後の炭化水素量
の差として表わされる炭素の損失をなるべく避けること
と、望ましくないアセチレンを再使用可能なエチレンに
殆んど完全に転換することが可能である。次に、本発明
を実施例と対照例に基づいて更に詳細に説明する:実施
例 1 1,2−ジクロルェタンの熱分解から得られた、アセチ
レン含量0.25モル%の塩化水素を9.5バール絶対
圧(反応器流入口で測定)下において総0帆〆/時の塁
で、子熟器と過熱器と固有の水素添加反応器とから成る
反応系に供給した。
ガスを流過させるが、固定床配置の場合は流れの方向は
上方から下方へが合目的である。従って、加熱装置は反
応器に接続していなければならない。本発明による方法
では、1,2ージクロルェタンの熱分解によって生ずる
塩化水素をオキシクロル化に用いる出発物質として精製
することが可能であり、この方法ではアセチレン不純物
の水素添加に用いる触媒がかなり高い圧力を用いた場合
にも、数年間にわたる耐用寿命を有している。本発明に
よる製造工程制御によって、反応器の前後の炭化水素量
の差として表わされる炭素の損失をなるべく避けること
と、望ましくないアセチレンを再使用可能なエチレンに
殆んど完全に転換することが可能である。次に、本発明
を実施例と対照例に基づいて更に詳細に説明する:実施
例 1 1,2−ジクロルェタンの熱分解から得られた、アセチ
レン含量0.25モル%の塩化水素を9.5バール絶対
圧(反応器流入口で測定)下において総0帆〆/時の塁
で、子熟器と過熱器と固有の水素添加反応器とから成る
反応系に供給した。
塩化水素を先ず第一に、熱い蒸気凝縮液で運転する予熱
器に通すと、ここでガス混合物は約70℃の温度に達す
る。過熱器に入る直前で、ガス混合物に孔のある十字形
混合器を介して77NM/時の水素(反応させるべきア
セチレン量を基にして、3.5倍過剰量の水素に相応)
を負荷させた。この水素を負荷したガス混合物は過熱器
において高圧蒸気を用いて、水素添加反応器を出る混合
物の温度が19ギ0に達するような程度にまで加熱した
。過熱器は縦形配置において水素添加反応器の上にフラ
ンジによって接続しており、過熱器流入口と反応器流入
口との間の滞留時間は0.4万砂間であつた。水素化反
応器はパラジウム0.15重量%を含有し、粒度約3側
、かさ密度1600kg/でおよび比表面積<1〆/夕
である不活性二酸化ケイ素をべ−スとする迫体触媒3.
15〆を含有した。
器に通すと、ここでガス混合物は約70℃の温度に達す
る。過熱器に入る直前で、ガス混合物に孔のある十字形
混合器を介して77NM/時の水素(反応させるべきア
セチレン量を基にして、3.5倍過剰量の水素に相応)
を負荷させた。この水素を負荷したガス混合物は過熱器
において高圧蒸気を用いて、水素添加反応器を出る混合
物の温度が19ギ0に達するような程度にまで加熱した
。過熱器は縦形配置において水素添加反応器の上にフラ
ンジによって接続しており、過熱器流入口と反応器流入
口との間の滞留時間は0.4万砂間であつた。水素化反
応器はパラジウム0.15重量%を含有し、粒度約3側
、かさ密度1600kg/でおよび比表面積<1〆/夕
である不活性二酸化ケイ素をべ−スとする迫体触媒3.
15〆を含有した。
空間流速は運転条件下で、1時間に触媒1〆につき塩化
水素470れであった。
水素470れであった。
水素化反応器から発生するガスをガスクロマトグラフィ
によって分析した:1容量p.p.m以下のアセチレン
が存在し、ェタンに対するエチレンのモル比は8.5:
1であった。
によって分析した:1容量p.p.m以下のアセチレン
が存在し、ェタンに対するエチレンのモル比は8.5:
1であった。
アセチレン分解を意味するメタン、ブタンおよびプテン
の形成は見られなかった。水素添加反応器の前後の塩化
水素に含まれる炭化水素全体量の差として表わされた炭
化水素損失童は、く2%の値であった。1.3羊間の期
間にわたってさえも、触媒へのカーポプラック沈鏡もま
た効率低下または選択性損失を生ずる触媒毒も存在しな
かった。
の形成は見られなかった。水素添加反応器の前後の塩化
水素に含まれる炭化水素全体量の差として表わされた炭
化水素損失童は、く2%の値であった。1.3羊間の期
間にわたってさえも、触媒へのカーポプラック沈鏡もま
た効率低下または選択性損失を生ずる触媒毒も存在しな
かった。
対照例 1
実施例1に比べた相違点は特に反応系への水素の供給と
、加熱菱贋と水素添加反応器との間の滞留時間とであっ
た。
、加熱菱贋と水素添加反応器との間の滞留時間とであっ
た。
アセチレン0.25モル%を不純物として有する塩化水
素800帆〆/時を9バール絶対圧で過熱器に送入し、
ここで反応器をでるガス混合物の温度が180℃である
ように加熱した。
素800帆〆/時を9バール絶対圧で過熱器に送入し、
ここで反応器をでるガス混合物の温度が180℃である
ように加熱した。
実施例1で説明したものと同じ水素添加反応器を用いた
が、過熱器を反応器にフランジ接続させず、反応器の1
0肌前に配置した。過熱器内の滞留時間は0.32砂間
であり、1.6秒間の全滞留時間に応じて、過熱器と触
媒床流入口との間の滞留時間は1.28秒間であった。
空間流速は運転条件下に算出して、1時間当り触媒1従
につきガス約467めであった。水素添加は反応器流入
口の約2の手前で、アセチレンに関して3.5モルの水
素過剰量で行なった。反応器から出るガスは1容量中.
p.m 以下のアセチレンを含み、ェタンに対するエチ
レンのモル比は8.5:1であった。しかしながら、同
時に、アセチレン分解を意味するメタン約5容量中.p
.mとブタンとブテン50容量p.p.m の形成が観
察された。更に、炭化水素損失(水素添加反応器の前後
で比較して)は約15%の値であった。反応器を出た後
の残留アセチレン含量を1容量p.p.m以下の値に保
ち得るためには、3か月の期間に水素のモル過剰量を5
〜6モルに増加させなければならない。また、3か月以
上の期間には、水素のモル過剰量を10モルにまで増加
させた場合でさえも、残留アセチレン含量を5餌容量p
.p.m 以下に抑えることはもはやできなかった。水
素のモル過剰量を13から14の値にまで増加させたに
もかかわらず(安全性の理由から、これ以上の過剰量は
次のオキシクロル化過程で許容されない)、全体で1.
5年間の触媒の使用期間後に、残留アセチレン含量は1
0蟹容量p.p.m まで増加した。更に、水素モル過
剰量を増加させ続けると、これに応じて選択性の低下も
増加することが観察された。触媒系の1.3王の使用寿
命後にェタンに対するエチレンのモル比はわずかに4:
1であった。触媒の容量と選択性は徐々に枯渇して行き
、この方法は不経済になるので、触媒を変えなければな
らなかった。
が、過熱器を反応器にフランジ接続させず、反応器の1
0肌前に配置した。過熱器内の滞留時間は0.32砂間
であり、1.6秒間の全滞留時間に応じて、過熱器と触
媒床流入口との間の滞留時間は1.28秒間であった。
空間流速は運転条件下に算出して、1時間当り触媒1従
につきガス約467めであった。水素添加は反応器流入
口の約2の手前で、アセチレンに関して3.5モルの水
素過剰量で行なった。反応器から出るガスは1容量中.
p.m 以下のアセチレンを含み、ェタンに対するエチ
レンのモル比は8.5:1であった。しかしながら、同
時に、アセチレン分解を意味するメタン約5容量中.p
.mとブタンとブテン50容量p.p.m の形成が観
察された。更に、炭化水素損失(水素添加反応器の前後
で比較して)は約15%の値であった。反応器を出た後
の残留アセチレン含量を1容量p.p.m以下の値に保
ち得るためには、3か月の期間に水素のモル過剰量を5
〜6モルに増加させなければならない。また、3か月以
上の期間には、水素のモル過剰量を10モルにまで増加
させた場合でさえも、残留アセチレン含量を5餌容量p
.p.m 以下に抑えることはもはやできなかった。水
素のモル過剰量を13から14の値にまで増加させたに
もかかわらず(安全性の理由から、これ以上の過剰量は
次のオキシクロル化過程で許容されない)、全体で1.
5年間の触媒の使用期間後に、残留アセチレン含量は1
0蟹容量p.p.m まで増加した。更に、水素モル過
剰量を増加させ続けると、これに応じて選択性の低下も
増加することが観察された。触媒系の1.3王の使用寿
命後にェタンに対するエチレンのモル比はわずかに4:
1であった。触媒の容量と選択性は徐々に枯渇して行き
、この方法は不経済になるので、触媒を変えなければな
らなかった。
使用済み触媒を検査した結果、触媒活性表面がススによ
って重度に汚染されていることが明らかになつた。実施
例 2 アセチレン0.2モル%を有する塩化水素11.弧〆/
時を、実施例1の相当する水素添加触媒3.2〆を充填
した水素添加反応器に送入した。
って重度に汚染されていることが明らかになつた。実施
例 2 アセチレン0.2モル%を有する塩化水素11.弧〆/
時を、実施例1の相当する水素添加触媒3.2〆を充填
した水素添加反応器に送入した。
反応器の直前に横形配置で取付けた熱交換器中で、塩化
水素の予熱を行なった。反応器出口における温度が16
70になるように、塩化水素を加熱した。初期圧力は1
2.5くール絶対圧であった。過熱器流入口と触媒床流
入口との間の滞留時間は0.9轡であり、空間流速は1
時間当り触媒1のこつきガス総00夕(15.笛0、1
気圧で算出)であった。水素は過熱器直前で、存在する
アセチレン1モルにつきる3モルの塁で添加した。反応
器から出るガス中には、殆んどアセチレンが検出されず
、ェタンに対するエチレンのモル比は8:1であった。
水素の予熱を行なった。反応器出口における温度が16
70になるように、塩化水素を加熱した。初期圧力は1
2.5くール絶対圧であった。過熱器流入口と触媒床流
入口との間の滞留時間は0.9轡であり、空間流速は1
時間当り触媒1のこつきガス総00夕(15.笛0、1
気圧で算出)であった。水素は過熱器直前で、存在する
アセチレン1モルにつきる3モルの塁で添加した。反応
器から出るガス中には、殆んどアセチレンが検出されず
、ェタンに対するエチレンのモル比は8:1であった。
アセチレン分解を意味するメタン、ブタンおよびプテン
の形成は観察されなかつた。対照例 2 実施例2と同様に行なったが、過熱器の後方でありかつ
反応器流入口の前である所で、水素添加を初めて行なっ
た。
の形成は観察されなかつた。対照例 2 実施例2と同様に行なったが、過熱器の後方でありかつ
反応器流入口の前である所で、水素添加を初めて行なっ
た。
反応器から出るガスはアセチレンを袷んど含んでいず、
ェタンに対するエチレンのモル比は8:1であったが、
メタン2容量中.p.m およびブタンとブテン5容量
中.p.m の生成が観察された。
ェタンに対するエチレンのモル比は8:1であったが、
メタン2容量中.p.m およびブタンとブテン5容量
中.p.m の生成が観察された。
これらはアセチレン分解または2蔓体化あるいは水素化
重合が生じたことを示すものである。実施例 3アセチ
レン含量0.15モル%を有する塩化水素小〆/時を、
水素添加触媒3.2そを充填した水素添加反応器に送入
した。
重合が生じたことを示すものである。実施例 3アセチ
レン含量0.15モル%を有する塩化水素小〆/時を、
水素添加触媒3.2そを充填した水素添加反応器に送入
した。
活性成分としてパラジウム0.15重量%を有し、比表
面積1れ/夕であるQ一酸化アルミニウムをベースとす
る担体触媒を用いた。反応器出口におけるガス混合物の
温度が131℃になるように、予熱温度を調節した。
面積1れ/夕であるQ一酸化アルミニウムをベースとす
る担体触媒を用いた。反応器出口におけるガス混合物の
温度が131℃になるように、予熱温度を調節した。
水素のモル過剰量はアセチレンに関して2.5であり、
空間流速は1時間当り触媒IZ‘こつきガス1321Z
(15.6℃、1気圧で算出)に調節した。水素は、反
応器5上に直接載せた過熱器の直前で加えた。反応器の
初期圧力は9バール絶対圧であった。反応器から出るガ
ス混合物を、塩化ビニルと塩化エチルの含量に関して調
べた。
空間流速は1時間当り触媒IZ‘こつきガス1321Z
(15.6℃、1気圧で算出)に調節した。水素は、反
応器5上に直接載せた過熱器の直前で加えた。反応器の
初期圧力は9バール絶対圧であった。反応器から出るガ
ス混合物を、塩化ビニルと塩化エチルの含量に関して調
べた。
塩化ビニル9の重量p.p.m と塩化エチル3重量p
.p.m 含量であることが判明した。
.p.m 含量であることが判明した。
対照例 3
実施例3に述べた方法をくり返したが、比表面積30〆
/夕を有するQ−酸化アルミニウムベースの担体触媒を
用いた点だけを変更した。
/夕を有するQ−酸化アルミニウムベースの担体触媒を
用いた点だけを変更した。
塩化ビニル15の翼量p.p.m と塩化エチル100
重量p.p.m が検出された。
重量p.p.m が検出された。
実施例3と対照例3のデータを比較すると、副生成物形
成(ヒドロクロル化生成物形成)は昇圧下での触媒の比
表面積に依存することが判明する。
成(ヒドロクロル化生成物形成)は昇圧下での触媒の比
表面積に依存することが判明する。
対照例 4
対照例3の方法をくり返したが、初期圧力を3.5ゞ−
ル絶対圧にした点だけ変更した。
ル絶対圧にした点だけ変更した。
塩化ビニル80p.p.m と塩化エチル沙.p.m
とが検出された。対照例3と対照例4のデータを比較す
ると、ヒドロクロル化生成物形成の問題はかなり高い圧
力において初めて生ずることが判明する。
とが検出された。対照例3と対照例4のデータを比較す
ると、ヒドロクロル化生成物形成の問題はかなり高い圧
力において初めて生ずることが判明する。
実施例 4
水素添加触媒(白金0.1重量%を有し、粒度3.2肋
、比表面積1の/タ以下のQ−酸化アルミニウムをベー
スとするもの)3.2そを充填した水素添加反応器に、
アセチレン初期濃度0.05モル%を有する塩化水素8
.洲で/時を送入した。
、比表面積1の/タ以下のQ−酸化アルミニウムをベー
スとするもの)3.2そを充填した水素添加反応器に、
アセチレン初期濃度0.05モル%を有する塩化水素8
.洲で/時を送入した。
反応器出口いおけるガス混合物の温度が1斑℃になるよ
うに、過熱器を調節した。反応器の初期圧力は9バール
絶対圧であり、用いた水素のモル過剰量の値は1.5で
あった。反応器を出た後のェタンに対するエチレンのモ
ル比は8:1であると、判明した。
うに、過熱器を調節した。反応器の初期圧力は9バール
絶対圧であり、用いた水素のモル過剰量の値は1.5で
あった。反応器を出た後のェタンに対するエチレンのモ
ル比は8:1であると、判明した。
実施例 5
実施例4の方法をくり返したが、アセチレン舎童が0.
2モル%であった点と、用いた水素のモル過剰量の値を
2.9にした点だけを変更した。
2モル%であった点と、用いた水素のモル過剰量の値を
2.9にした点だけを変更した。
反応器を出た後のェタンに対するエチレンのモル比は9
:1であることが判明した。対照例 5 実施例4の方法をくり返したが、用いた水素のモル過剰
量の値を3.5にした点だけを変更した。
:1であることが判明した。対照例 5 実施例4の方法をくり返したが、用いた水素のモル過剰
量の値を3.5にした点だけを変更した。
ェタンに対するエチレンのモル比は5:1であると判明
した。対照例 6 対照例5に述べた方法をくり返したが、初期圧力を3.
&ゞール絶対圧にした点だけを変更した。
した。対照例 6 対照例5に述べた方法をくり返したが、初期圧力を3.
&ゞール絶対圧にした点だけを変更した。
ヱタンに対するエチレンの比は9:1であることが判明
した。対照例 7 実施例5の方法をくり返したが、用いた水素のモル過剰
量の値を3.5にした点だけを変更した。
した。対照例 7 実施例5の方法をくり返したが、用いた水素のモル過剰
量の値を3.5にした点だけを変更した。
ェタンに対するエチレンの比は5:1であることが判明
した。実施例4と5および対照例5,6と7による結果
を比較すると、本発明による範囲以外の水素の過剰量を
用いると選択性の低下を惹起するが、この障害はかなり
高い圧力において初めて生ずることが明らかである。
した。実施例4と5および対照例5,6と7による結果
を比較すると、本発明による範囲以外の水素の過剰量を
用いると選択性の低下を惹起するが、この障害はかなり
高い圧力において初めて生ずることが明らかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ガス混合物に水素を添加し、次に加熱装置に送り、
次いで金属白金、パラジウムならびにこれらの酸化物か
ら成る群から選択した成分を含有する担体触媒を装入し
た反応器に供給することによつて、塩化水素中に不純物
として含まれるアセチレンに8〜20バール絶対圧にお
いて過剰な水素によつて水素添加することによる、1,
2−ジクロルエタン熱分解から生ずる塩化水素の精製方
法において、a 使用する水素のモル過剰量Hの数値が
、塩化水素に含まれるアセチレンの割合A(モル%)に
依存して、次式によつてHに対する算出値の許容誤差±
5%を使つて与えられること:H=10・A+1 b 加熱装置の近くの個所で水素供給を行うこと;c
約70℃の温度に達してから触媒床に入るまでのガス流
の滞留時間t(秒)が最高0.8秒間であること;d
反応器出口におけるガス混合物の温度が加熱装置の調節
量として役立ち、120〜180℃の間であること;e
1時間当り触媒量1lについてのガスのl量(常温常
圧下で測定)で表わした空間流速R反応器出口における
ガス混合物の温度TKおよび圧力P(バール絶対圧)の
パラメータが、Tに対して±2%の許容誤差を伴つて、
次の式を満たしていること;T=(388−0.5P)
/(1−(2.78P+11.3)・10^−^5・R
/P)f 最大5m^2/gの比表面を有する、アルミ
ニウムおよびケイ素の酸化物を触媒担体物質として用い
ること;を特徴とする方法。 2 水素を塩化水素に予め加える、または少なくとも約
70℃の温度に達した直後に加えることを特徴とする方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3043442.5 | 1980-11-18 | ||
DE19803043442 DE3043442A1 (de) | 1980-11-18 | 1980-11-18 | Verfahren zur reinigung von durch thermische 1,2-dichlorethanspaltung gewonnenem chlorwasserstoff |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5788002A JPS5788002A (en) | 1982-06-01 |
JPS6015561B2 true JPS6015561B2 (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=6117033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56136214A Expired JPS6015561B2 (ja) | 1980-11-18 | 1981-09-01 | 1,2−ジクロルエタンの熱分解から得られる塩化水素の精製方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4388278A (ja) |
EP (1) | EP0052271B1 (ja) |
JP (1) | JPS6015561B2 (ja) |
CA (1) | CA1175210A (ja) |
DE (2) | DE3043442A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6361718U (ja) * | 1986-10-13 | 1988-04-23 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5175382A (en) * | 1983-09-22 | 1992-12-29 | Werner Hebgen | Preparation of 1,2-Dichloroethane |
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- 1981-10-28 DE DE8181109060T patent/DE3163417D1/de not_active Expired
- 1981-10-28 EP EP81109060A patent/EP0052271B1/de not_active Expired
- 1981-10-29 US US06/316,521 patent/US4388278A/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
EP0052271B1 (de) | 1984-05-02 |
EP0052271A1 (de) | 1982-05-26 |
US4388278A (en) | 1983-06-14 |
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JPS5788002A (en) | 1982-06-01 |
DE3043442A1 (de) | 1982-06-24 |
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