JPS60151212A - シリコホスホアルミネートの合成 - Google Patents
シリコホスホアルミネートの合成Info
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- JPS60151212A JPS60151212A JP59266517A JP26651784A JPS60151212A JP S60151212 A JPS60151212 A JP S60151212A JP 59266517 A JP59266517 A JP 59266517A JP 26651784 A JP26651784 A JP 26651784A JP S60151212 A JPS60151212 A JP S60151212A
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- silicophosphoaluminate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
合成の結晶性シリコホスポアルミネー) (5ilic
ophosph。
ophosph。
aluminate )が二液体相よシ成シ且っ有機あ
るいは無機指向剤及び特定の反応物を含む反応媒体から
新規な方法で合成出来る。この方法によって、イオン交
換特性を有し且つ容易に触媒として活性な物質に変換し
得るシリコホスポアルミネートの結晶性の骨組み構造体
が得られる。
るいは無機指向剤及び特定の反応物を含む反応媒体から
新規な方法で合成出来る。この方法によって、イオン交
換特性を有し且つ容易に触媒として活性な物質に変換し
得るシリコホスポアルミネートの結晶性の骨組み構造体
が得られる。
〈従来の技術〉
燐酸アルミニウムは、例えば、米国特許第4,310,
440号及び第4,385,994号中で教示されてい
る。燐酸アルミニウム物質は電気的中性の格子を持ち、
そして従ってイオン交換体として、あるいは触媒成分と
しては有効では無い。
440号及び第4,385,994号中で教示されてい
る。燐酸アルミニウム物質は電気的中性の格子を持ち、
そして従ってイオン交換体として、あるいは触媒成分と
しては有効では無い。
微孔性燐酸アルミニウムは式:
%式%)
〔但し、Rは燐酸アルミニウムの中に捕捉され、そして
結晶化テンブレー) (template)の役を果し
ている有機アミンあるいは第四級アンモニウム塩でsb
、X及びyは微孔性空隙を満たすのに必要々R及び&O
の量を示す〕として典型化される組成を有する。これら
の物質のアルミニウム/燐の原子比が約1であるために
、これらは実質的にはイオン交換性を示さず、骨組み構
造の燐の上の正の電荷はアルミニウムの上の対応する負
の電荷に依りバランスされてお)、 AtPO4= (AjOz−) (PO2”)となって
いる。
結晶化テンブレー) (template)の役を果し
ている有機アミンあるいは第四級アンモニウム塩でsb
、X及びyは微孔性空隙を満たすのに必要々R及び&O
の量を示す〕として典型化される組成を有する。これら
の物質のアルミニウム/燐の原子比が約1であるために
、これらは実質的にはイオン交換性を示さず、骨組み構
造の燐の上の正の電荷はアルミニウムの上の対応する負
の電荷に依りバランスされてお)、 AtPO4= (AjOz−) (PO2”)となって
いる。
カナダ特許第911,461号;第911,417号、
及び第911,418号の燐置換したゼオライトは1ア
ルミノシリコホスニアr−−) (aluminosi
licophosphate ) ”ゼオライトと呼ば
れている。その中の燐の若干は、吸蔵されたものであシ
、構造的なものでは無いことが明かとなった。
及び第911,418号の燐置換したゼオライトは1ア
ルミノシリコホスニアr−−) (aluminosi
licophosphate ) ”ゼオライトと呼ば
れている。その中の燐の若干は、吸蔵されたものであシ
、構造的なものでは無いことが明かとなった。
これらの後者の物質は珪素、アルミニウム及び燐を含有
し且つ一般式: %式%: 〔但し、Mは一価カチオンであシ、又は大略1〜4であ
シ、yは0.05〜1.0であシ、そして2は水和水分
子の数である〕を有することを特徴とする◇ 燐を用いた珪素の構造的な置換がシリカ・クラスレイト
(5ilica clathrate )と呼ばれる物
質(西ドイツ特許第3,128,988号〕中で実現さ
れている。
し且つ一般式: %式%: 〔但し、Mは一価カチオンであシ、又は大略1〜4であ
シ、yは0.05〜1.0であシ、そして2は水和水分
子の数である〕を有することを特徴とする◇ 燐を用いた珪素の構造的な置換がシリカ・クラスレイト
(5ilica clathrate )と呼ばれる物
質(西ドイツ特許第3,128,988号〕中で実現さ
れている。
米国特許第4,363,748号は、シリカと燐酸アル
ミニウムーカルシウムーセリウA (aluminiu
m −calcium −cerium phosph
ate )の組合わせを酸化脱水素用の低酸活性触媒と
して記載している0英国特許第2,068,253号は
シリカと燐酸アルミニウムーカルシウム−タングステy
(aluminium −calcium −tun
gsten phosphate )の組合わせを酸化
脱水素用の低酸活性触媒として開示している。米国特許
第3,801,704号は酸性を賦与するためにある方
法で処理した燐酸アルミニウムを教示する。米国特許第
4,228,036号はアルミナ−燐酸アルミニウムー
シリカ・マトリックスを、分解触媒として使用するため
にゼオライトと混合すべき無定形物体として教示してい
る。米国特許第3,213,035号は燐酸処理に依る
アルミノシリケート触媒の硬度改良を教示している。こ
の触媒は無定形である0 米国特許第2,876.266号は、予備成型されたシ
リケートあるいはアルミノシリケートに依る燐酸の吸収
によシ調製した無定形物質の活性な珪燐酸(5ilic
ophosphoricacid )あるには塩相を記
載している。燐酸アルミニウム及びその調製法に関する
その他の教示には、米国特許第4゜365.095号;
第4,361,705号;第4,222,896号;第
4.210,560号;第4,179,358号;第4
,158,621号;第4,071,471号:第4,
014,945号;第3,904,550号及び第3,
697,550号がある。その中性の骨組み構造にイオ
ン交換特性が欠けているので、それらは触媒担体あるい
はマトリックスとして使用される。本発明の方法によシ
合成された結晶性シリコホスホアルミネートはイオン交
換特性を示し且つ容易にそして都合良く固有の触媒活性
を有する物質に変換されるモレキュラー嗜シーブあるい
はその他の骨組み構造物である。当業界で教示されてい
るゼオライトあるいは燐酸アルミニウムの合成のための
技法はこれらのシリコホスホアルミネートの合成にとっ
て格別役に立つものでは無い。
ミニウムーカルシウムーセリウA (aluminiu
m −calcium −cerium phosph
ate )の組合わせを酸化脱水素用の低酸活性触媒と
して記載している0英国特許第2,068,253号は
シリカと燐酸アルミニウムーカルシウム−タングステy
(aluminium −calcium −tun
gsten phosphate )の組合わせを酸化
脱水素用の低酸活性触媒として開示している。米国特許
第3,801,704号は酸性を賦与するためにある方
法で処理した燐酸アルミニウムを教示する。米国特許第
4,228,036号はアルミナ−燐酸アルミニウムー
シリカ・マトリックスを、分解触媒として使用するため
にゼオライトと混合すべき無定形物体として教示してい
る。米国特許第3,213,035号は燐酸処理に依る
アルミノシリケート触媒の硬度改良を教示している。こ
の触媒は無定形である0 米国特許第2,876.266号は、予備成型されたシ
リケートあるいはアルミノシリケートに依る燐酸の吸収
によシ調製した無定形物質の活性な珪燐酸(5ilic
ophosphoricacid )あるには塩相を記
載している。燐酸アルミニウム及びその調製法に関する
その他の教示には、米国特許第4゜365.095号;
第4,361,705号;第4,222,896号;第
4.210,560号;第4,179,358号;第4
,158,621号;第4,071,471号:第4,
014,945号;第3,904,550号及び第3,
697,550号がある。その中性の骨組み構造にイオ
ン交換特性が欠けているので、それらは触媒担体あるい
はマトリックスとして使用される。本発明の方法によシ
合成された結晶性シリコホスホアルミネートはイオン交
換特性を示し且つ容易にそして都合良く固有の触媒活性
を有する物質に変換されるモレキュラー嗜シーブあるい
はその他の骨組み構造物である。当業界で教示されてい
るゼオライトあるいは燐酸アルミニウムの合成のための
技法はこれらのシリコホスホアルミネートの合成にとっ
て格別役に立つものでは無い。
〈本発明の特徴〉
かなシのものは微小細孔(度)及び触媒活性を有し、そ
のすべてがイオン交換特性を示し且つ容易に触媒活性を
有する物質に変換される結晶性シリコホスホアルミネー
トの合成方法が提供される。か\るシリコホスホアルミ
ネート物質製造のための合成方法は、 1)%定の成分を含有し且つ液体の有機相及び液体の水
相の両者から成る二相反応混合物を調製し;2)反応混
合物を毎時5℃から200℃の速度で、80℃乃至30
0℃の温度に加熱し; 3)反応混合物を、該液体の有機相及び水相とを相互に
緊密に混合する様に攪拌し; 4〕攪拌した反応混合物を、シリコホスホアルミネート
び2乃至9のpHに保持し;且つ 5)反応混合物よりシリコホスホアルミネート物質を分
離回収する諸工程より成る。
のすべてがイオン交換特性を示し且つ容易に触媒活性を
有する物質に変換される結晶性シリコホスホアルミネー
トの合成方法が提供される。か\るシリコホスホアルミ
ネート物質製造のための合成方法は、 1)%定の成分を含有し且つ液体の有機相及び液体の水
相の両者から成る二相反応混合物を調製し;2)反応混
合物を毎時5℃から200℃の速度で、80℃乃至30
0℃の温度に加熱し; 3)反応混合物を、該液体の有機相及び水相とを相互に
緊密に混合する様に攪拌し; 4〕攪拌した反応混合物を、シリコホスホアルミネート
び2乃至9のpHに保持し;且つ 5)反応混合物よりシリコホスホアルミネート物質を分
離回収する諸工程より成る。
二相反応混合物の必須成分には、水及び、酸化アルミニ
ウム、酸化珪素、酸化燐、有機指向剤A、無機のカチオ
ンM及びアニオンNの語源;及び実質上水と混り合わ々
い有機溶媒が包含される。か\る諸成分は次の関係式:
%式% (アニオン源)g:(I(zO)h 〔但し、a、b、c、d、e、f、g及びhは次の関係
二a/(c+d+6 )は4よシ小であシ、b/(c+
d−1−e )は2より小である、d/(c+e)は2
よシ小であシ、 ’/(c+d+e )は0,1乃至15であり、g/(
c+d+e)は2より小でちゃ、且つh / (c−1
−d−1−e、)は3乃至150である、を満足する数
である〕で示される。
ウム、酸化珪素、酸化燐、有機指向剤A、無機のカチオ
ンM及びアニオンNの語源;及び実質上水と混り合わ々
い有機溶媒が包含される。か\る諸成分は次の関係式:
%式% (アニオン源)g:(I(zO)h 〔但し、a、b、c、d、e、f、g及びhは次の関係
二a/(c+d+6 )は4よシ小であシ、b/(c+
d−1−e )は2より小である、d/(c+e)は2
よシ小であシ、 ’/(c+d+e )は0,1乃至15であり、g/(
c+d+e)は2より小でちゃ、且つh / (c−1
−d−1−e、)は3乃至150である、を満足する数
である〕で示される。
反応混合物の当初の調製に際して、酸化アルミニウム、
酸化珪素あるいは酸化燐の一つの源を有機相中に分散あ
るいは溶解させる。
酸化珪素あるいは酸化燐の一つの源を有機相中に分散あ
るいは溶解させる。
この方法に依って製造されたシリコホスホアルミネート
は、アルミニウムと燐の原子数が珪素の原子数よシ多い
、即ちAt十P)Si という組成を有することを特徴
とする。
は、アルミニウムと燐の原子数が珪素の原子数よシ多い
、即ちAt十P)Si という組成を有することを特徴
とする。
それは、その結晶組成及びその骨組み構造の四面体上の
1゛(総計〕−サイト上の電荷分布ゆえに6シリコホス
ホアルミネート′と命名した0合成したま\〔゛合成し
たまま”とは合成反応後、反応混合物よりr別分離して
、水洗、乾燥した状態を指し、加熱か焼処理及び/又は
イオン交換処理を施してない状態であシ、1加熱前の状
態”とも言われる〕の状態では、か\るシリコホスホア
ルミネートは、無水の状態で、次式: %式% 〔但しVは、シリコホスホアルミネートの合成に使用さ
れた有機指向剤A及び/又は有機溶媒から生成し且つシ
リコホスホアルミネートの微孔性空隙を満している吸蔵
された有機物質A′のモルであり、この物質はか焼によ
って除去し得る;Mは原子価mの無機カチオンであシ;
Nは原子価nのアニオンであり;そしてX及びyは−1
より大で+1よυ小で且つ、 (1)xが00場合には、yは0では無く、(2)yは
Oの場合には、Xは0では無く、(3)AL/Pの原子
比が1よp大なる場合には、(x+y )は0よシ大、
例えばo、ooi、であシ、且つy+0.6xは0.4
よシ小であシ、且つ (4)At/Pの原子比が1よシ小なる場合には、(x
+y )は0よシ大、例えば0.001.であシ、且つ
0.5は0.5y+xよυ大である、 の諸関係を満足する数である〕の様々組成を有すること
を特徴とする。
1゛(総計〕−サイト上の電荷分布ゆえに6シリコホス
ホアルミネート′と命名した0合成したま\〔゛合成し
たまま”とは合成反応後、反応混合物よりr別分離して
、水洗、乾燥した状態を指し、加熱か焼処理及び/又は
イオン交換処理を施してない状態であシ、1加熱前の状
態”とも言われる〕の状態では、か\るシリコホスホア
ルミネートは、無水の状態で、次式: %式% 〔但しVは、シリコホスホアルミネートの合成に使用さ
れた有機指向剤A及び/又は有機溶媒から生成し且つシ
リコホスホアルミネートの微孔性空隙を満している吸蔵
された有機物質A′のモルであり、この物質はか焼によ
って除去し得る;Mは原子価mの無機カチオンであシ;
Nは原子価nのアニオンであり;そしてX及びyは−1
より大で+1よυ小で且つ、 (1)xが00場合には、yは0では無く、(2)yは
Oの場合には、Xは0では無く、(3)AL/Pの原子
比が1よp大なる場合には、(x+y )は0よシ大、
例えばo、ooi、であシ、且つy+0.6xは0.4
よシ小であシ、且つ (4)At/Pの原子比が1よシ小なる場合には、(x
+y )は0よシ大、例えば0.001.であシ、且つ
0.5は0.5y+xよυ大である、 の諸関係を満足する数である〕の様々組成を有すること
を特徴とする。
上の組成で、Xがyよシ大な時は、シリコポスポアルミ
ネートは酸性触媒として可能性おる用途を有するカチオ
ン交換体である。Xがyよシ小な時は、シリコポスポア
ルミネートは塩基性触媒として可能性ある用途を有する
アニオン交換体である。いずれにしても、シリコポスホ
アルミネ−1−は少くとも約0. OO2meq/ t
のイオン交換能を示す。
ネートは酸性触媒として可能性おる用途を有するカチオ
ン交換体である。Xがyよシ小な時は、シリコポスポア
ルミネートは塩基性触媒として可能性ある用途を有する
アニオン交換体である。いずれにしても、シリコポスホ
アルミネ−1−は少くとも約0. OO2meq/ t
のイオン交換能を示す。
有機物質を除去した、上で定義した様なM、m、Ns
nsx、yを用いて示す無水の状態でのシリコポスポア
ルミネートの組成は次の通りである: へ兎: (At02)丁−y:、(POz)寓; (s
iCh)z+y ””!/”本発明の方法に依って製造
された合成の結晶性シリコホスホアルミネートはAt1
P比が1より大きな時は有効なカチオン性イオン交換体
及び酸触媒である。か\る触媒はゼオライトとは異なる
酸強度分布を有し、かなりの接触プロセスで役に立つで
あろう。1よシ小のAt/P比については、アニオン性
イオン交換特性が卓越し、そしてが\る物質を塩基触媒
反応に対して活性にする。これらは新規な種類の触媒担
体を提供するものでもあり、そしてかカシ高い金属担持
量の保持を可能とするその高いイオン交換特性のために
、特に興味を引く。この点については、他の担持金属触
媒と同様な触媒的なフレキシビリティ−を示す。収着特
性は微孔性シリコホスホアルミネートが分子形状選択的
であることを示唆しており、そしてこの事はゼオライト
の触媒作用の分野で知られている様に、数多くの接触プ
ロセスで有利なものとなシ得る。
nsx、yを用いて示す無水の状態でのシリコポスポア
ルミネートの組成は次の通りである: へ兎: (At02)丁−y:、(POz)寓; (s
iCh)z+y ””!/”本発明の方法に依って製造
された合成の結晶性シリコホスホアルミネートはAt1
P比が1より大きな時は有効なカチオン性イオン交換体
及び酸触媒である。か\る触媒はゼオライトとは異なる
酸強度分布を有し、かなりの接触プロセスで役に立つで
あろう。1よシ小のAt/P比については、アニオン性
イオン交換特性が卓越し、そしてが\る物質を塩基触媒
反応に対して活性にする。これらは新規な種類の触媒担
体を提供するものでもあり、そしてかカシ高い金属担持
量の保持を可能とするその高いイオン交換特性のために
、特に興味を引く。この点については、他の担持金属触
媒と同様な触媒的なフレキシビリティ−を示す。収着特
性は微孔性シリコホスホアルミネートが分子形状選択的
であることを示唆しており、そしてこの事はゼオライト
の触媒作用の分野で知られている様に、数多くの接触プ
ロセスで有利なものとなシ得る。
lより太なるアルミニウム/燐原子比を持って合成され
た時は、結晶性シリコホスホアルミネートは1,5よυ
犬な、そして通常は1.6乃至600の範囲のアルミニ
ウム/珪素原子比を示す。アルミニウム/燐原子比が1
よシ小な時は、1より大々、通常は1.2乃至600の
範囲の燐/珪素原子比を示す。燐酸アルミニウムは1の
燐/アルミニウム原子比を示し、そして珪素が無いこと
が良く知られている0又、時には“アルミノシリコホス
フェート”ゼオライトと呼ばれる、燐置換したゼオライ
ト組成物は、通常1よυ大の、一般には0.66乃至8
.0の珪素/アルミニウム原子比及び1よシ小の、一般
には0よp犬で1迄の燐/アルミニウム原子比を有する
。
た時は、結晶性シリコホスホアルミネートは1,5よυ
犬な、そして通常は1.6乃至600の範囲のアルミニ
ウム/珪素原子比を示す。アルミニウム/燐原子比が1
よシ小な時は、1より大々、通常は1.2乃至600の
範囲の燐/珪素原子比を示す。燐酸アルミニウムは1の
燐/アルミニウム原子比を示し、そして珪素が無いこと
が良く知られている0又、時には“アルミノシリコホス
フェート”ゼオライトと呼ばれる、燐置換したゼオライ
ト組成物は、通常1よυ大の、一般には0.66乃至8
.0の珪素/アルミニウム原子比及び1よシ小の、一般
には0よp犬で1迄の燐/アルミニウム原子比を有する
。
固体を除く、二相合成反応混合物系の使用は、本発明の
合成条件下で通常は水相に不溶あるいは水相中で不安定
な−m又は二種以上の反応物を有機相中に溶液で保持す
ることを可能にしている。か\る方法がシリコホスホア
ルミネートの製造を可能にしたので1、その合成は他の
技術を用いては不成功に終るであろう。本発明の二相合
成方法は結晶化反応の制御の可能性も増大させている。
合成条件下で通常は水相に不溶あるいは水相中で不安定
な−m又は二種以上の反応物を有機相中に溶液で保持す
ることを可能にしている。か\る方法がシリコホスホア
ルミネートの製造を可能にしたので1、その合成は他の
技術を用いては不成功に終るであろう。本発明の二相合
成方法は結晶化反応の制御の可能性も増大させている。
更に、有機あるいは無機指向剤の存在下で無機合成を実
施することに依って結晶性シリコホスホアルミネートに
対して微孔性を達成出来る。
施することに依って結晶性シリコホスホアルミネートに
対して微孔性を達成出来る。
そのテンプレート化の役割に加えて、有機指向剤は界面
活性剤としても作用することが出来る0それは反応物を
含有する有機及び水相の共分散を助長することが出来る
。
活性剤としても作用することが出来る0それは反応物を
含有する有機及び水相の共分散を助長することが出来る
。
本発明の合成方法では、反応混合物は、先に述べfc様
に、上文中に記載した関係で酸化珪素、酸化燐及び酸化
アルミニウムの語源、少くとも一種の指向剤及び有機溶
媒を含有する。
に、上文中に記載した関係で酸化珪素、酸化燐及び酸化
アルミニウムの語源、少くとも一種の指向剤及び有機溶
媒を含有する。
有機指向剤は有機モノ、ジ、あるいはポリアミン及び次
式: R4M” X−あるいは (Rs M” R’ M”
R3)為−〔但し、RあるいはR1′は1乃至20個の
炭素原子のアルキル、1乃至20個の炭素原子のヘテロ
アルキル、アリール、ヘテロアリール、3乃至6個の炭
素原子のシクロアルキル、3乃至6個の炭素原子のシク
ロヘテロアルキル、あるいりそれを組合わせたものであ
シ;Mは四配位元素(例えば窒素、燐、ヒ素、アンチモ
ンあるいdビスマスクあるいは脂儂式、複素脂環式ある
いは複素芳香族構造中のへテロ原子(例えばN、0.8
% Se、P、As等)であり;そしてXはアニオン(
例えばフッ化物、塩化物、臭化物、沃化物、水酸化物、
酢酸塩、硫酸塩、カルボン酸塩等)である〕を有する。
式: R4M” X−あるいは (Rs M” R’ M”
R3)為−〔但し、RあるいはR1′は1乃至20個の
炭素原子のアルキル、1乃至20個の炭素原子のヘテロ
アルキル、アリール、ヘテロアリール、3乃至6個の炭
素原子のシクロアルキル、3乃至6個の炭素原子のシク
ロヘテロアルキル、あるいりそれを組合わせたものであ
シ;Mは四配位元素(例えば窒素、燐、ヒ素、アンチモ
ンあるいdビスマスクあるいは脂儂式、複素脂環式ある
いは複素芳香族構造中のへテロ原子(例えばN、0.8
% Se、P、As等)であり;そしてXはアニオン(
例えばフッ化物、塩化物、臭化物、沃化物、水酸化物、
酢酸塩、硫酸塩、カルボン酸塩等)である〕を有する。
(有機〕オニウム化合物よシ成る群から選ぶことが可能
である。Mが脂環式、複素脂環式あるいは複素芳香族構
造中のへテロ原子の時は、か\る構造は非限定的々例と
して、 〔但し、R′は1乃至20個の炭素原子のアルキル、1
乃至20個の炭素原子のヘテロアルキル、アリール、ヘ
テロアリール、3乃至6個の炭素原子のシクロアルキル
あるいは3乃至6個の炭素原子のシクロヘテロアルキル
である〕であっても良い。
である。Mが脂環式、複素脂環式あるいは複素芳香族構
造中のへテロ原子の時は、か\る構造は非限定的々例と
して、 〔但し、R′は1乃至20個の炭素原子のアルキル、1
乃至20個の炭素原子のヘテロアルキル、アリール、ヘ
テロアリール、3乃至6個の炭素原子のシクロアルキル
あるいは3乃至6個の炭素原子のシクロヘテロアルキル
である〕であっても良い。
本発明の方法にとって特に好ましい有機指向剤には、ア
ルキルが1から3個の炭素原子のアルキルアミン及びR
が1乃至4個の炭素原子のアルキルであ拡R′が1乃至
6個の炭素原子のアルキレンでID、Mが窒素であり、
そしてXがハロゲン化物おるいは水酸化物である上で定
義されたオニウム化合物が包含される。これらの非限定
的な例にはジ−n−プロピルアミン、テトラプロピルア
ンモニウムハイドロオキザイド、テトラエチルアンモニ
ウムノシドロオキサイド、テトラプρピルアンモニウム
ブロマイド、及びヘキサメチル−ヘキサンジアンモニウ
ム会71イドロオキサイドあるいはブロマイドが包含さ
れる。pH調節剤として有用な無機水酸化物あるいは塩
も補足の指向剤として働くことが出来る。非限定的なか
\る化合物の例はKOHlNaOH,CsOH,CsB
r、NaCt、Ca(OH)z、 及び類似物である。
ルキルが1から3個の炭素原子のアルキルアミン及びR
が1乃至4個の炭素原子のアルキルであ拡R′が1乃至
6個の炭素原子のアルキレンでID、Mが窒素であり、
そしてXがハロゲン化物おるいは水酸化物である上で定
義されたオニウム化合物が包含される。これらの非限定
的な例にはジ−n−プロピルアミン、テトラプロピルア
ンモニウムハイドロオキザイド、テトラエチルアンモニ
ウムノシドロオキサイド、テトラプρピルアンモニウム
ブロマイド、及びヘキサメチル−ヘキサンジアンモニウ
ム会71イドロオキサイドあるいはブロマイドが包含さ
れる。pH調節剤として有用な無機水酸化物あるいは塩
も補足の指向剤として働くことが出来る。非限定的なか
\る化合物の例はKOHlNaOH,CsOH,CsB
r、NaCt、Ca(OH)z、 及び類似物である。
有用な酸化アルミニウムの源には、非限定的な例として
、既知の形態のアルミニウムの酸化物あるいは水酸化物
、有機あるいは無機塩又は化合物が包含される。
、既知の形態のアルミニウムの酸化物あるいは水酸化物
、有機あるいは無機塩又は化合物が包含される。
有用な酸化燐の源には、非限定的な例として、既知の形
態の亜燐酸あるいは酸化燐、燐酸塩おるいは亜燐酸塩及
び燐の有機誘導体が包含される。酸化珪素の有用な源に
は、非限定的な例として、既知の形態の珪酸あるいは二
酸化珪素、珪素のアルコキシ−あるいは他の誘導体が包
含される。
態の亜燐酸あるいは酸化燐、燐酸塩おるいは亜燐酸塩及
び燐の有機誘導体が包含される。酸化珪素の有用な源に
は、非限定的な例として、既知の形態の珪酸あるいは二
酸化珪素、珪素のアルコキシ−あるいは他の誘導体が包
含される。
二相反応混合物を形成するために使用される有機溶媒は
、本発明の方法の結晶化条件下で実質上水と混り合わな
い有機液体となシ得る。か\る溶媒の非限定的な例には
Cs C1゜アルコール、フェノール、及びナフトール
;及び水と混り合わない他の有機溶媒が包含される。極
性有機化合物が有機相溶媒用に好ましい。
、本発明の方法の結晶化条件下で実質上水と混り合わな
い有機液体となシ得る。か\る溶媒の非限定的な例には
Cs C1゜アルコール、フェノール、及びナフトール
;及び水と混り合わない他の有機溶媒が包含される。極
性有機化合物が有機相溶媒用に好ましい。
反応混合物中に必ず存在する無機カチオン及びアニオン
は一般には別個に添加する成分によって提供されるもの
では無い。むしろ、これらのカチオン及びアニオンはし
ばしば他の必須成分例えば珪素、アルミニウム及び/又
は燐源あるいは例えば指向剤あるいは使用される可能性
のあるpH調節剤を提供するために反応混合物に添加さ
れる化合物から生ずる。
は一般には別個に添加する成分によって提供されるもの
では無い。むしろ、これらのカチオン及びアニオンはし
ばしば他の必須成分例えば珪素、アルミニウム及び/又
は燐源あるいは例えば指向剤あるいは使用される可能性
のあるpH調節剤を提供するために反応混合物に添加さ
れる化合物から生ずる。
酸化珪素、酸化アルミニウムあるいは酸化燐の源の一つ
を当初から反応混合物の有機相中に存在させなければ力
らぬ。従って水相は、指向剤、カチオン及びアニオン、
pH調節剤及び有機相に添加されなかった残余の必須成
分を含むであろう。
を当初から反応混合物の有機相中に存在させなければ力
らぬ。従って水相は、指向剤、カチオン及びアニオン、
pH調節剤及び有機相に添加されなかった残余の必須成
分を含むであろう。
土窯に記載した組成を有する反応混合物を毎時約5℃乃
至約200℃の速度で注意深く約80℃乃至約3oo℃
の温度迄加熱し、そして所望のシリコホスホアルミネー
トの結晶が形成される迄、通常約5時間乃至約500時
間、その温度範囲内に保持する。結晶化の間、反応混合
物のpHを約2乃至約9に注意深く維持する。これは添
加塩基の濃度の調節に依って達成可能である。
至約200℃の速度で注意深く約80℃乃至約3oo℃
の温度迄加熱し、そして所望のシリコホスホアルミネー
トの結晶が形成される迄、通常約5時間乃至約500時
間、その温度範囲内に保持する。結晶化の間、反応混合
物のpHを約2乃至約9に注意深く維持する。これは添
加塩基の濃度の調節に依って達成可能である。
昇温及び結晶化工程中、反応混合物は一般には、実質上
池り合わない有機及び水相を緊密に充分混合する様に攪
拌されるであろう。有機及び水相を相互に分散させる方
法は当業界周知である。これらの液相の間の界面を最大
にするために有機及び水相のエマルションを形成すると
とさえも望ましいであろう。
池り合わない有機及び水相を緊密に充分混合する様に攪
拌されるであろう。有機及び水相を相互に分散させる方
法は当業界周知である。これらの液相の間の界面を最大
にするために有機及び水相のエマルションを形成すると
とさえも望ましいであろう。
所望のシリコホスホアルミネートの結晶化の次に、同上
物を含有する反応混合物をe過し、分離、回収した結晶
を、例えば水で、洗浄し、そして次に、例えば常圧で約
25℃乃至約150℃に加温する事に依シ、乾燥する。
物を含有する反応混合物をe過し、分離、回収した結晶
を、例えば水で、洗浄し、そして次に、例えば常圧で約
25℃乃至約150℃に加温する事に依シ、乾燥する。
本発明の合成方法のよシ特定的な例示では、水相は燐及
びアルミニウム試薬、例えば燐酸及びアルミナを含有す
る。
びアルミニウム試薬、例えば燐酸及びアルミナを含有す
る。
溶媒としてヘキサノールを用いる有機相は珪素源、例え
ばテトラ−オルトアルキル−シリケートを含有する。有
機指向剤、例えばテトラアルキルアンモニウムハイドロ
オキサイドあるいはアミンは水相及び有機相をエマルシ
ョン化して界面を最適化する界面活性剤としても作用す
る。珪素はその有機化合物の加水分解及び界面を通して
水相中への分解生成物の移動に依って、合成中に漸次に
ゲル中に供給される。
ばテトラ−オルトアルキル−シリケートを含有する。有
機指向剤、例えばテトラアルキルアンモニウムハイドロ
オキサイドあるいはアミンは水相及び有機相をエマルシ
ョン化して界面を最適化する界面活性剤としても作用す
る。珪素はその有機化合物の加水分解及び界面を通して
水相中への分解生成物の移動に依って、合成中に漸次に
ゲル中に供給される。
シリコホスホアルミネートの核生成及び結晶化のために
珪素、アルミニウム及び燐を同時に利用出来る様にする
必要があるのでこの三元素すべての供給速度ははソ等し
くせねばならぬ。この事は中和反応(例えばH3PO3
とAz、 03の間での)、及び有機珪素化合物の加水
分解とが一致(協奏)することを意味する。従って、ア
ルミナ−燐酸混合物を予備熟成させることが大切であろ
う。それよシも更に臨界的なのは珪素供給速度であろう
、これは諸因子例えば界面の大きさ、温度、水相のpH
1有機溶媒の及び珪素試薬の濃度及び特性によって変る
。
珪素、アルミニウム及び燐を同時に利用出来る様にする
必要があるのでこの三元素すべての供給速度ははソ等し
くせねばならぬ。この事は中和反応(例えばH3PO3
とAz、 03の間での)、及び有機珪素化合物の加水
分解とが一致(協奏)することを意味する。従って、ア
ルミナ−燐酸混合物を予備熟成させることが大切であろ
う。それよシも更に臨界的なのは珪素供給速度であろう
、これは諸因子例えば界面の大きさ、温度、水相のpH
1有機溶媒の及び珪素試薬の濃度及び特性によって変る
。
珪素の加水分解及び移動速度は、先に説明した様に、界
面の大小に依って制御されるので、珪素のとり込みには
混合を増加させる方が有利と考えられる。
面の大小に依って制御されるので、珪素のとり込みには
混合を増加させる方が有利と考えられる。
土窯で述べた様に、P)Lは臨界的な合成の変数である
っシリコホスホアルミネートの形成が進行している時に
は、中性付近あるいは中性より大きい(即ち約6以上、
9の最高値迄の)pH値を維持せねば々らぬ。シリコホ
スホアルミネートの塩基安定度は燐酸アルミニウムとゼ
オライトのそれの中間であると考えられるので、約8あ
るいは8よ1備か大きいpH値が好ましい。珪素試薬の
加水分解によって果されている主要な役割及び本発明の
方法中でそれを制御する必要性のために、結晶化の間(
特に、珪素源の急速な酸加水分解を避けるために〕はと
んど一定のpHを有している必要がある。この事は他の
試薬を添加する前に燐酸中での予備熟成によって達成出
来、それは合成混合物の当初pHを5−7に増加させる
。
っシリコホスホアルミネートの形成が進行している時に
は、中性付近あるいは中性より大きい(即ち約6以上、
9の最高値迄の)pH値を維持せねば々らぬ。シリコホ
スホアルミネートの塩基安定度は燐酸アルミニウムとゼ
オライトのそれの中間であると考えられるので、約8あ
るいは8よ1備か大きいpH値が好ましい。珪素試薬の
加水分解によって果されている主要な役割及び本発明の
方法中でそれを制御する必要性のために、結晶化の間(
特に、珪素源の急速な酸加水分解を避けるために〕はと
んど一定のpHを有している必要がある。この事は他の
試薬を添加する前に燐酸中での予備熟成によって達成出
来、それは合成混合物の当初pHを5−7に増加させる
。
より高いpH値(pH=8あるいはそれ以上〕を達成、
維持するために有機I・イドロオキサイドの部分的分解
後でさえも、無機塩基を添加しても良い。これらの無機
塩基は補足的指向剤の役割もつとめることが出来る。
維持するために有機I・イドロオキサイドの部分的分解
後でさえも、無機塩基を添加しても良い。これらの無機
塩基は補足的指向剤の役割もつとめることが出来る。
本発明により製造された結晶格子の骨組み構造の成分と
して珪素、燐、及びアルミニウムを有しているシリコホ
スホアルミネートは、モレキュラ−ブあるいはその他の
骨組み構造であろう。それらがモレキュラーシーブある
いは密な構造の場合には、それらは特有のX&1回折パ
ターンを示す明確な識別出来る結晶構造を有しているで
あろう。それらがモレキュラーシーブでは無く、その代
りに例えば、層化(1ayered )l、た結晶構造
の場合には、それらはX線データだけから単純に、完全
に特徴付けることは出来ないであろう。膨張し得る層化
構造の基本のX&!面間隔は固定されずに広い範囲にわ
たり変り得る。鋭い回折極大値の数は通常は全く限られ
たもので、そしてピーク強度にしばしば変化がある。層
化構造の格子面間隔(d)は水含量によって変るので、
1文で示す実施例中で行う様に、か\る物質の脱水試料
のX線データを同定するのが適切と考えられる。
して珪素、燐、及びアルミニウムを有しているシリコホ
スホアルミネートは、モレキュラ−ブあるいはその他の
骨組み構造であろう。それらがモレキュラーシーブある
いは密な構造の場合には、それらは特有のX&1回折パ
ターンを示す明確な識別出来る結晶構造を有しているで
あろう。それらがモレキュラーシーブでは無く、その代
りに例えば、層化(1ayered )l、た結晶構造
の場合には、それらはX線データだけから単純に、完全
に特徴付けることは出来ないであろう。膨張し得る層化
構造の基本のX&!面間隔は固定されずに広い範囲にわ
たり変り得る。鋭い回折極大値の数は通常は全く限られ
たもので、そしてピーク強度にしばしば変化がある。層
化構造の格子面間隔(d)は水含量によって変るので、
1文で示す実施例中で行う様に、か\る物質の脱水試料
のX線データを同定するのが適切と考えられる。
本発明のシリコホスホアルミネートについてX線値を測
定する場合には、モレキュラーシーブあるいは他の構造
であろうと、照射線は銅のに一αダブレットであシ、そ
してシンチレーション計数管及び付属コンピュータを備
えた回折n[を使用した。ピークの高さ、■及び2θ(
θはブラック角)の関数としての位置を分光光度計付属
のコンピュータのアルゴリズムを用いてめた。それらよ
り相対強度100I/Io(IOは最強の線あるいはピ
ークの強度ン、及びd(実画)、オングストローム(A
、)で示した記録された線に対応する格子面間隔、をめ
た。相対強度は最強の線を100として示しである。特
定のシリコホスホアルミネートの柚々のカブオン型は格
子面間隔に君子の僅かなシフト及び相対強度に変化はあ
るが実質上同一のパターンを示す。その他の変化はそれ
ぞれの試料のアルミニウムに対する珪素の及びアルミニ
ウムに対する燐の比(Si7.、及び’/M比)、並び
に熱処理の度合いによって変り得る。
定する場合には、モレキュラーシーブあるいは他の構造
であろうと、照射線は銅のに一αダブレットであシ、そ
してシンチレーション計数管及び付属コンピュータを備
えた回折n[を使用した。ピークの高さ、■及び2θ(
θはブラック角)の関数としての位置を分光光度計付属
のコンピュータのアルゴリズムを用いてめた。それらよ
り相対強度100I/Io(IOは最強の線あるいはピ
ークの強度ン、及びd(実画)、オングストローム(A
、)で示した記録された線に対応する格子面間隔、をめ
た。相対強度は最強の線を100として示しである。特
定のシリコホスホアルミネートの柚々のカブオン型は格
子面間隔に君子の僅かなシフト及び相対強度に変化はあ
るが実質上同一のパターンを示す。その他の変化はそれ
ぞれの試料のアルミニウムに対する珪素の及びアルミニ
ウムに対する燐の比(Si7.、及び’/M比)、並び
に熱処理の度合いによって変り得る。
かなシのシリコホスホアルミネートは四面体的に(酸素
によって)配位されたst、p及びA/[子を含有する
骨組み構造を持つ微孔性物質である。それらはゼオライ
トのそれに類似したイオン交換、酸性、及び触媒特性を
示す。
によって)配位されたst、p及びA/[子を含有する
骨組み構造を持つ微孔性物質である。それらはゼオライ
トのそれに類似したイオン交換、酸性、及び触媒特性を
示す。
(ゼオライト等とは)異なるその酸強度分布(acid
strength spectrum )のため、然し
、それらは高過ぎるあるいは低過ぎる酸性度が望ましか
らさる二次反応を生ずる可能性のある酸触媒転化反応用
触媒として潜在的な興味のあるものである。骨組み構造
のAtに結合する酸性度は珪素による燐の置換によって
持込まれた。それ以外に、骨組み構造のPに結合する塩
基性度が骨組み構造のアルミニウムを珪素で置換した時
に生ずる。本発明の二相合成方法に依シ製造されたシリ
コホスホアルミネートは結晶構造中の珪素原子の分布に
関しては比較的均質である。
strength spectrum )のため、然し
、それらは高過ぎるあるいは低過ぎる酸性度が望ましか
らさる二次反応を生ずる可能性のある酸触媒転化反応用
触媒として潜在的な興味のあるものである。骨組み構造
のAtに結合する酸性度は珪素による燐の置換によって
持込まれた。それ以外に、骨組み構造のPに結合する塩
基性度が骨組み構造のアルミニウムを珪素で置換した時
に生ずる。本発明の二相合成方法に依シ製造されたシリ
コホスホアルミネートは結晶構造中の珪素原子の分布に
関しては比較的均質である。
ここに合成されたシリコホスホアルミネートは金属成分
例えば銀、タングステン、バナジウム、モリブデン、レ
ニウム、クロム、マンガン、あるいは例えば水素化−脱
水素あるいは酸化機能が必要とされる場合には第■族金
属例えば白金あるいはパラジウム、と緊密に組合わせて
、触媒としても使用出来る。か\る成分は組成物中にイ
オン交換して入れ、その中に含浸あるいはそれと緊密に
物理的に混合することが出来る。か\る成分はその中又
はその上に例えば、白金の場合を例にとると結晶を白金
金属含有イオンを含有する溶液を用いて処理することに
依って、含浸させることが出来る。従って、適当な白金
化合物には塩化白金酸、塩化白金及び白金アミン錯体を
含有する穐々の化合物がある。
例えば銀、タングステン、バナジウム、モリブデン、レ
ニウム、クロム、マンガン、あるいは例えば水素化−脱
水素あるいは酸化機能が必要とされる場合には第■族金
属例えば白金あるいはパラジウム、と緊密に組合わせて
、触媒としても使用出来る。か\る成分は組成物中にイ
オン交換して入れ、その中に含浸あるいはそれと緊密に
物理的に混合することが出来る。か\る成分はその中又
はその上に例えば、白金の場合を例にとると結晶を白金
金属含有イオンを含有する溶液を用いて処理することに
依って、含浸させることが出来る。従って、適当な白金
化合物には塩化白金酸、塩化白金及び白金アミン錯体を
含有する穐々の化合物がある。
合成したま\のシリコホスホアルミネートの当初のイオ
ン、即ちカチオンあるいはアニオンは少くとも一部分当
業界周知の方法に従って、・他のカチオンあるいはアニ
オンとのイオン交換に依って、置換出来る。好ましい置
換カチオンには金属イオン、水素イオン、水素前駆体、
例えばアンモニウム、イオン及びその混合物が包含され
る。特に好ましいカチオンには水素、稀土類金属及び元
素の周期律表の第11A族、第111A族、第1VA族
、第1B族、第11B族、第111B族、第1VB族、
第VIB族及び第■族の金属が包含されるO 典形的なイオン交換の方法は合成の結晶性シリコホスホ
アルミネートを所望の一種又は二種以上の置換イオンの
塩と接触させることであろう。カチオンのか\る塩の例
にはハロゲン化物例えば環化物、硝酸塩及び硫酸塩が包
含される。
ン、即ちカチオンあるいはアニオンは少くとも一部分当
業界周知の方法に従って、・他のカチオンあるいはアニ
オンとのイオン交換に依って、置換出来る。好ましい置
換カチオンには金属イオン、水素イオン、水素前駆体、
例えばアンモニウム、イオン及びその混合物が包含され
る。特に好ましいカチオンには水素、稀土類金属及び元
素の周期律表の第11A族、第111A族、第1VA族
、第1B族、第11B族、第111B族、第1VB族、
第VIB族及び第■族の金属が包含されるO 典形的なイオン交換の方法は合成の結晶性シリコホスホ
アルミネートを所望の一種又は二種以上の置換イオンの
塩と接触させることであろう。カチオンのか\る塩の例
にはハロゲン化物例えば環化物、硝酸塩及び硫酸塩が包
含される。
本発明によって製造されたシリコホスホアルミネートは
熱処理に依シ、他の形態に都合良く変換させることが出
来る。この熱処理は一般には、これらの形態の一つを少
くとも300℃の温度で、少くとも1分間及び普通には
20時間を越えない間、加熱することに依シ実施される
。熱処理には減圧も使用出来るが、便利さの点で常圧が
望ましい。
熱処理に依シ、他の形態に都合良く変換させることが出
来る。この熱処理は一般には、これらの形態の一つを少
くとも300℃の温度で、少くとも1分間及び普通には
20時間を越えない間、加熱することに依シ実施される
。熱処理には減圧も使用出来るが、便利さの点で常圧が
望ましい。
熱処理は約1000℃迄の温度で実施出来る。熱処理し
た生成物けある釉の炭化水素転化反応の触媒作用で特に
有用である。本発明の二相合成法によって製造されたシ
リコホスホアルミネートは、かなシの場合、他の方法に
依9製造された類似の物質と比較してよシ大きな熱安定
度を有し得る0 更に、シリコホスホアルミネートは、吸着剤、イオン交
換体として、あるいは有機化合物転化プロセスの触媒と
して使用する場合であれ、少くとも部分的に脱水しなけ
ればならぬ。この事は、空りあるいは不活性雰囲気例え
ば窒素等、中で200℃乃至600℃の範囲の温度に、
そして常圧、減圧あるいは加圧で、30分間乃至48時
間加熱することによって実施出来る。脱水はシリコホス
ホアルミネートを単に真空中に置くことによって室温で
も実施出来るが、充分な脱水率を得るにはより長い時間
が必要である。従ってシリコホスホアルミネートに望ま
れている脱水あるいは熱処理の度合いに応じて、約20
0℃乃至約1000℃の温度に、約1分間乃至約48時
間加熱しても良い0本発明に依って製造されたシリコホ
スホアルミネートの結晶は極めて様々の粒子サイズに成
型出来る。一般的に言うと、粒子は粉末、顆粒あるいは
成型品、例えば2メツシユ(タイラー〕の篩は充分に通
過しそして400メツシユ(タイラー〕の篩に留る粒子
サイズを有する押出成型品、の形態に出来る。組成物を
、例えば押出成型に依って成型する場合には、結晶を乾
燥前に押出成型するかあるいは部分乾燥して押出成型す
ることが出来る。
た生成物けある釉の炭化水素転化反応の触媒作用で特に
有用である。本発明の二相合成法によって製造されたシ
リコホスホアルミネートは、かなシの場合、他の方法に
依9製造された類似の物質と比較してよシ大きな熱安定
度を有し得る0 更に、シリコホスホアルミネートは、吸着剤、イオン交
換体として、あるいは有機化合物転化プロセスの触媒と
して使用する場合であれ、少くとも部分的に脱水しなけ
ればならぬ。この事は、空りあるいは不活性雰囲気例え
ば窒素等、中で200℃乃至600℃の範囲の温度に、
そして常圧、減圧あるいは加圧で、30分間乃至48時
間加熱することによって実施出来る。脱水はシリコホス
ホアルミネートを単に真空中に置くことによって室温で
も実施出来るが、充分な脱水率を得るにはより長い時間
が必要である。従ってシリコホスホアルミネートに望ま
れている脱水あるいは熱処理の度合いに応じて、約20
0℃乃至約1000℃の温度に、約1分間乃至約48時
間加熱しても良い0本発明に依って製造されたシリコホ
スホアルミネートの結晶は極めて様々の粒子サイズに成
型出来る。一般的に言うと、粒子は粉末、顆粒あるいは
成型品、例えば2メツシユ(タイラー〕の篩は充分に通
過しそして400メツシユ(タイラー〕の篩に留る粒子
サイズを有する押出成型品、の形態に出来る。組成物を
、例えば押出成型に依って成型する場合には、結晶を乾
燥前に押出成型するかあるいは部分乾燥して押出成型す
ることが出来る。
多くの触媒の場合には、シリコホスホアルミネートを有
機転化プロセスで使用される温度及び他の諸条件に抵抗
性を有する他物質と複合させることが望ましい。か\る
物質には、活性及び不活性物質及び合成あるいは天然産
ゼオライト並びに無機物質例えば粘土、シリカ及び/又
は金属酸化物がある。後者は天然産のものでも、あるい
はゲル状沈殿の形でも、あるいはシリカ及び金属酸化物
の混合物を含んだゲルであっても良い。新規なシリコホ
スホアルミネートと組合わせての活性な物質の使用は、
ある種の有機転化プロセスでは触媒の転化率及び/又は
選択率を改善する傾向がある。不活性な物質は画定の反
応で転化量を制御する稀釈剤として適切に働くので、反
応の速度を制御する他の手段を利用すること無く、生成
物を経済的且つ規則的に得ることか出来る。これらの物
質は生産的な操業条件下での触媒の破砕強度を改善する
ために天然産粘土、例えばベントナイト及びカオリン中
に包含させても良い。該物質、肌ち粘土、酸化物等は触
媒のバインダーとして働く。商業生産上の使用では触媒
が粉末状物質に崩壊するのを防止するのが望ましいので
、良好な破砕強度を有する触媒を提供するのが望ましい
。これらの粘土バインダーは通常、触媒の破砕強度を改
善する目的にだけ使用されている。
機転化プロセスで使用される温度及び他の諸条件に抵抗
性を有する他物質と複合させることが望ましい。か\る
物質には、活性及び不活性物質及び合成あるいは天然産
ゼオライト並びに無機物質例えば粘土、シリカ及び/又
は金属酸化物がある。後者は天然産のものでも、あるい
はゲル状沈殿の形でも、あるいはシリカ及び金属酸化物
の混合物を含んだゲルであっても良い。新規なシリコホ
スホアルミネートと組合わせての活性な物質の使用は、
ある種の有機転化プロセスでは触媒の転化率及び/又は
選択率を改善する傾向がある。不活性な物質は画定の反
応で転化量を制御する稀釈剤として適切に働くので、反
応の速度を制御する他の手段を利用すること無く、生成
物を経済的且つ規則的に得ることか出来る。これらの物
質は生産的な操業条件下での触媒の破砕強度を改善する
ために天然産粘土、例えばベントナイト及びカオリン中
に包含させても良い。該物質、肌ち粘土、酸化物等は触
媒のバインダーとして働く。商業生産上の使用では触媒
が粉末状物質に崩壊するのを防止するのが望ましいので
、良好な破砕強度を有する触媒を提供するのが望ましい
。これらの粘土バインダーは通常、触媒の破砕強度を改
善する目的にだけ使用されている。
新規な結晶と複合出来る天然産粘土には、モンモリオナ
イト及びカオリン族が包含され、この族にはサブベント
ナイト、及びデキシー、マクナミー、ジョージャ及びフ
ロリダ白土として一般的に知られているカオリンあるい
は主要鉱物成分がハイロサイト、カオリナイト、ジッヵ
イト、ナクライト、あるいはアナウキサイトであるその
他の鉱物が包含される。か\る粘土は採掘したま\の粗
製の状態でも、か焼して酸処理あるいは化学変性したも
のでも使用出来る。
イト及びカオリン族が包含され、この族にはサブベント
ナイト、及びデキシー、マクナミー、ジョージャ及びフ
ロリダ白土として一般的に知られているカオリンあるい
は主要鉱物成分がハイロサイト、カオリナイト、ジッヵ
イト、ナクライト、あるいはアナウキサイトであるその
他の鉱物が包含される。か\る粘土は採掘したま\の粗
製の状態でも、か焼して酸処理あるいは化学変性したも
のでも使用出来る。
本発明の結晶と複合のために有用なバインダーには無機
酸化物、特にアルミナあるいはシリカも包含される。
酸化物、特にアルミナあるいはシリカも包含される。
前述の物質以外に、シリコホスホアルミネート結晶は多
孔性マトリックス物質例えば燐酸アルミニウム、シリカ
−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア
、シリカ−トリア、シリカ−ベリリア、シリカ−チタニ
ア、並びに三元組成物、例えばシリカ−アルミナ−トリ
ア、シリカ−アルミナ−ジルコニア、シリカ−アルミナ
−マグネシア及びシリカ−マグネシア−ジルコニアと複
合出来る。微粉砕した結晶性シリコホスホアルミネート
物質と無機酸化物ゲル・マトリックスの相対比率は、複
合物の約1乃至約90重量−の範囲の、及びよシ普通に
は、特に複合物がビードの形態で製造される時には、複
合物の約2から約80重量−の範囲の、結晶含量で大巾
に変シ得る。
孔性マトリックス物質例えば燐酸アルミニウム、シリカ
−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア
、シリカ−トリア、シリカ−ベリリア、シリカ−チタニ
ア、並びに三元組成物、例えばシリカ−アルミナ−トリ
ア、シリカ−アルミナ−ジルコニア、シリカ−アルミナ
−マグネシア及びシリカ−マグネシア−ジルコニアと複
合出来る。微粉砕した結晶性シリコホスホアルミネート
物質と無機酸化物ゲル・マトリックスの相対比率は、複
合物の約1乃至約90重量−の範囲の、及びよシ普通に
は、特に複合物がビードの形態で製造される時には、複
合物の約2から約80重量−の範囲の、結晶含量で大巾
に変シ得る。
本発明の結晶性物質は種々の有機、例えば炭化水素、化
合物転化プロセスに対して触媒として活性な物質に容易
に変換し得る。か\る転化プロセスには、非限定的な例
として、約300℃乃至約700℃の温度、約0.1気
圧(バール)乃至約30気圧(バール〕の圧力及び約Q
、1hr−’乃至約20 hr−”の重量空間速度を含
む反応条件での炭化水素の分解;約300℃乃至約70
0℃の温度、約0.1気圧乃至約10気圧の圧力及び約
0.1乃至約20の重量空間速度を含む反応条件での炭
化水素化合物の脱水素;約100℃乃至約700℃の温
度、約0.1気圧乃至約60気圧の圧力、約0.5乃至
約400の重量空間速度及び約0乃至約20の水素/炭
化水素モル比を含む反応条件でのパラフィンの芳香族へ
の転化;約100℃乃至約700℃、約0.1気圧乃至
約60気圧、約0.5乃至約400の重量空間速度及び
約0乃至約20の水素/炭化水素モル比を含む反応条件
でのオレフィンの芳香族、例えばベンゼン、トルエン及
びキシレン、への転化;約275℃乃至約600℃の温
度、約0.5気圧乃至約50気圧の圧力及び約0.5乃
至約100の液空間速度を含む反応条件でのアルコール
、例えばメタノール、あるいはエーテル、例えばジメチ
ルエーテル、あるいはその混合物の芳香族を含む炭化水
素への転化;約230℃乃至約510℃の温度、約3気
圧乃至約35気圧の圧力、約0.1乃至約200の重量
空間速度及び約0乃至約100の水素/炭化水素モル比
を含む反応条件でのキシレン原料成分の異性化;約20
0℃乃至約760℃の温度、約常圧乃至約60気圧の圧
力及び約0.08乃至約20の重量空間速度を含む反応
条件でのトルエンの不均化;約340℃乃至約500℃
の温度、約常圧乃至約200気圧の圧力、約2乃至約2
00の重量空間速度及び約171乃至約20/1の芳香
族炭化水素/アルキル化剤モル比を含む反応条件での芳
香族炭化水素、例えばベンゼン及びアルキルベンゼンの
アルキル化剤、例えばオレフィン、ホルムアルデヒド、
ハロゲン化アルキル及びアルコール、共存下でのアルキ
ル化;約340℃乃至約500℃の温度、約常圧乃至約
200気圧の圧力、約10乃至約1000の重量空間速
度及び約1/1乃至約16/1の芳香族炭化水素/ポリ
アルキル芳香族炭化水素モル比を含む反応条件での芳香
族炭化水素のポリアルキル芳香族炭化水素共存下でのト
ランスアルキル化が包含される。
合物転化プロセスに対して触媒として活性な物質に容易
に変換し得る。か\る転化プロセスには、非限定的な例
として、約300℃乃至約700℃の温度、約0.1気
圧(バール)乃至約30気圧(バール〕の圧力及び約Q
、1hr−’乃至約20 hr−”の重量空間速度を含
む反応条件での炭化水素の分解;約300℃乃至約70
0℃の温度、約0.1気圧乃至約10気圧の圧力及び約
0.1乃至約20の重量空間速度を含む反応条件での炭
化水素化合物の脱水素;約100℃乃至約700℃の温
度、約0.1気圧乃至約60気圧の圧力、約0.5乃至
約400の重量空間速度及び約0乃至約20の水素/炭
化水素モル比を含む反応条件でのパラフィンの芳香族へ
の転化;約100℃乃至約700℃、約0.1気圧乃至
約60気圧、約0.5乃至約400の重量空間速度及び
約0乃至約20の水素/炭化水素モル比を含む反応条件
でのオレフィンの芳香族、例えばベンゼン、トルエン及
びキシレン、への転化;約275℃乃至約600℃の温
度、約0.5気圧乃至約50気圧の圧力及び約0.5乃
至約100の液空間速度を含む反応条件でのアルコール
、例えばメタノール、あるいはエーテル、例えばジメチ
ルエーテル、あるいはその混合物の芳香族を含む炭化水
素への転化;約230℃乃至約510℃の温度、約3気
圧乃至約35気圧の圧力、約0.1乃至約200の重量
空間速度及び約0乃至約100の水素/炭化水素モル比
を含む反応条件でのキシレン原料成分の異性化;約20
0℃乃至約760℃の温度、約常圧乃至約60気圧の圧
力及び約0.08乃至約20の重量空間速度を含む反応
条件でのトルエンの不均化;約340℃乃至約500℃
の温度、約常圧乃至約200気圧の圧力、約2乃至約2
00の重量空間速度及び約171乃至約20/1の芳香
族炭化水素/アルキル化剤モル比を含む反応条件での芳
香族炭化水素、例えばベンゼン及びアルキルベンゼンの
アルキル化剤、例えばオレフィン、ホルムアルデヒド、
ハロゲン化アルキル及びアルコール、共存下でのアルキ
ル化;約340℃乃至約500℃の温度、約常圧乃至約
200気圧の圧力、約10乃至約1000の重量空間速
度及び約1/1乃至約16/1の芳香族炭化水素/ポリ
アルキル芳香族炭化水素モル比を含む反応条件での芳香
族炭化水素のポリアルキル芳香族炭化水素共存下でのト
ランスアルキル化が包含される。
従って一般には活性な型のシリコホスホアルミネートよ
シ成る触媒上での接触転化条件には、約100℃乃至約
760℃の温度、約0.1気圧(バール)乃至約200
気圧(/”−1b)f)圧力、約0.08 hr−”乃
至約2000 hr−”の重量空間速度及びO乃至約1
00の水素/有機、例えば炭化水素、化合物モル比が包
含される。
シ成る触媒上での接触転化条件には、約100℃乃至約
760℃の温度、約0.1気圧(バール)乃至約200
気圧(/”−1b)f)圧力、約0.08 hr−”乃
至約2000 hr−”の重量空間速度及びO乃至約1
00の水素/有機、例えば炭化水素、化合物モル比が包
含される。
本発明の特質及びその実施方法をよシ完全に説明するた
めに以下の実施例を示す。実施例中で、種々の吸着剤の
収着能力(収着性)を比較するために吸着データが示さ
れている時は、常に以下の様にして測定した:か焼した
吸着剤の秤量した試料を、乾燥窒素と混合した25℃の
吸着質の平衡蒸気の流通流と接触させた。吸着質td
水魚% 、n−ヘキサン、2−メチルペンタン、キシレ
ンあるいはシクロヘキサン蒸気であった。試料温度は1
20℃としたオルト−キシレン及び60℃として水以外
は90℃に保った。重量法で測定した重量増加をか焼(
空気中20℃/min で550℃りした吸着剤10(
l当シの数での試相の吸着能に変換した。
めに以下の実施例を示す。実施例中で、種々の吸着剤の
収着能力(収着性)を比較するために吸着データが示さ
れている時は、常に以下の様にして測定した:か焼した
吸着剤の秤量した試料を、乾燥窒素と混合した25℃の
吸着質の平衡蒸気の流通流と接触させた。吸着質td
水魚% 、n−ヘキサン、2−メチルペンタン、キシレ
ンあるいはシクロヘキサン蒸気であった。試料温度は1
20℃としたオルト−キシレン及び60℃として水以外
は90℃に保った。重量法で測定した重量増加をか焼(
空気中20℃/min で550℃りした吸着剤10(
l当シの数での試相の吸着能に変換した。
アルファー値を測定する場合には、アルファー値が標準
触媒と比較したその触媒の接触分解活性の大略の指標で
あシ、それは(単位時間当ダ触媒容積当シのn−ヘキサ
ン転化反応速度の)相対速度定数を示すことに注目され
たい。
触媒と比較したその触媒の接触分解活性の大略の指標で
あシ、それは(単位時間当ダ触媒容積当シのn−ヘキサ
ン転化反応速度の)相対速度定数を示すことに注目され
たい。
アルファー値は高活性シリカ−アルミナ分解触媒の活性
を1(速度定数=0.016 sec” )のアルファ
ーにとって基準としている。ゼオライ)H2SM−5の
場合には、1のアルファー値を与えるのに僅か1741
)Pmの四面体的に配位されたAzz 03が必要なだ
けである。アルファー試験は米国特許第3,354,0
78号及びザ・ジャーナル・オブ・キャタリシ7.(T
he Journal of Catalysis )
、第4巻、第522−529頁(1965年8月)に記
載されている。
を1(速度定数=0.016 sec” )のアルファ
ーにとって基準としている。ゼオライ)H2SM−5の
場合には、1のアルファー値を与えるのに僅か1741
)Pmの四面体的に配位されたAzz 03が必要なだ
けである。アルファー試験は米国特許第3,354,0
78号及びザ・ジャーナル・オブ・キャタリシ7.(T
he Journal of Catalysis )
、第4巻、第522−529頁(1965年8月)に記
載されている。
イオン交換能を試験した時には、シリコホスホアルミネ
ートのアンモニウム型の温度をプログラム制御した(昇
温)分解中に発生する気態のアンモニアをスルファミノ
酸の溶液を用いて滴定することに依シ測定している。こ
の方法はジー・テーカ−(G、 T、 Cerr )及
びニー・ダブリュー・ケエスター(A、 W、 Che
ster ) によってサーモシミ力・アクタ(The
rmochimica Acta )、第3巻、第11
3−124頁(1971年)に記載されている。
ートのアンモニウム型の温度をプログラム制御した(昇
温)分解中に発生する気態のアンモニアをスルファミノ
酸の溶液を用いて滴定することに依シ測定している。こ
の方法はジー・テーカ−(G、 T、 Cerr )及
びニー・ダブリュー・ケエスター(A、 W、 Che
ster ) によってサーモシミ力・アクタ(The
rmochimica Acta )、第3巻、第11
3−124頁(1971年)に記載されている。
実施例 1
1−ヘキサノール602と81 (OC2H5)4 1
0 fよシ成る有機相およびAtzOs 13.7 ;
’、Hs POa (8f )23.11.25qbテ
トラプロピルアンモニウムハイドロオキサイド(TPA
OH,1849および馬0302よシ成る水相を含む二
相合成反応混合物をつくった。全体として反応混合物は
原子パーセントでSi 9.3%、P38.8チおよび
At 51.9%の組成であった。
0 fよシ成る有機相およびAtzOs 13.7 ;
’、Hs POa (8f )23.11.25qbテ
トラプロピルアンモニウムハイドロオキサイド(TPA
OH,1849および馬0302よシ成る水相を含む二
相合成反応混合物をつくった。全体として反応混合物は
原子パーセントでSi 9.3%、P38.8チおよび
At 51.9%の組成であった。
指向剤はテトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイ
ドであった。
ドであった。
反応混合物は毎時50℃づつ150℃まで加熱しその温
度で65時間保って本明細書でMCM−1と命名したシ
リコホスホアルミネートの結晶をえた。初めのpHは5
と7の間であった。
度で65時間保って本明細書でMCM−1と命名したシ
リコホスホアルミネートの結晶をえた。初めのpHは5
と7の間であった。
結晶性生成物を濾過して反応混合物を分離し水洗し80
℃で乾かした。生成結晶は原子パーセントで3i 15
.7チ、P 34.8%およびAt 49.5%と分析
された。合Jl&LJtまのMCM−1シリコホスホア
ルミネート試料をX−線分析にかけ表1に示す回折線を
示す結晶構造とわかった。
℃で乾かした。生成結晶は原子パーセントで3i 15
.7チ、P 34.8%およびAt 49.5%と分析
された。合Jl&LJtまのMCM−1シリコホスホア
ルミネート試料をX−線分析にかけ表1に示す回折線を
示す結晶構造とわかった。
9.6677 9.140 29.976.8569
12.900 100.006.4870 13.63
9 77.565.6000 15.812 5.00
4.8729 18.190 51.074.8414
1B、310 50.264.2482 20.89
3 85.103.9700 22.375 5.00
3.6099 24.641 9.673.4401
25.877 6.623.3900 26.267
41.663.0597 29.162 77.252
.9312 30.471 15.082.8927
30.886 16.692.7777 32.199
10.962.6781 33.432 41.21
実施例 2 実施例1の結晶性MCM−1シリコホスホアルミネート
の一部を9素中450℃で4時間か焼した後X−線分析
をした。
12.900 100.006.4870 13.63
9 77.565.6000 15.812 5.00
4.8729 18.190 51.074.8414
1B、310 50.264.2482 20.89
3 85.103.9700 22.375 5.00
3.6099 24.641 9.673.4401
25.877 6.623.3900 26.267
41.663.0597 29.162 77.252
.9312 30.471 15.082.8927
30.886 16.692.7777 32.199
10.962.6781 33.432 41.21
実施例 2 実施例1の結晶性MCM−1シリコホスホアルミネート
の一部を9素中450℃で4時間か焼した後X−線分析
をした。
結果を表2に示している。
表 2
6.8339 12.944 94・834.8477
18.286 11.214・7900 18.50
7 10.004.5300 19.579 8・00
4.2731 20.770 100.004.144
1 21.424 43・103.6246 24.5
39 9・983.5438 25.108 1−54
3.4200 26.032 10.003.2900
27.079 5.003.0823 28.944
11・863.0427 29.329 13.57
2.6961 33.202 2・87実施例 3 ヘキサノール60fと8’(OCx&)410yよシ成
る有機相およびH3PO4(s s%) 23.1 t
%A40m 102、TPAOH(25チ)842、お
よびHx030fよシ成る水相の二相合成反応混合物を
製造した。反応混合物は全体として原子パーセントでS
i 10.8’%、Pd2.0チおよびAt 44.2
チから成る組成をもっていた。
18.286 11.214・7900 18.50
7 10.004.5300 19.579 8・00
4.2731 20.770 100.004.144
1 21.424 43・103.6246 24.5
39 9・983.5438 25.108 1−54
3.4200 26.032 10.003.2900
27.079 5.003.0823 28.944
11・863.0427 29.329 13.57
2.6961 33.202 2・87実施例 3 ヘキサノール60fと8’(OCx&)410yよシ成
る有機相およびH3PO4(s s%) 23.1 t
%A40m 102、TPAOH(25チ)842、お
よびHx030fよシ成る水相の二相合成反応混合物を
製造した。反応混合物は全体として原子パーセントでS
i 10.8’%、Pd2.0チおよびAt 44.2
チから成る組成をもっていた。
指向剤はテトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイ
ドであった。
ドであった。
反応混合物を毎時50℃づつ150℃まで加熱しその温
度に168時間保ってMCM−2と本明細書で命名した
シリコホスホアルミネート結晶を生成した。初めのpH
は5と7の間であった。反応混合物から結晶性生成物を
r過分離し水洗し80℃で乾かした。生成結晶を分析し
て原子パーセントで5i17.5%%P37.2チおよ
びAt 45.4チを含んでいた。結晶は大きかった。
度に168時間保ってMCM−2と本明細書で命名した
シリコホスホアルミネート結晶を生成した。初めのpH
は5と7の間であった。反応混合物から結晶性生成物を
r過分離し水洗し80℃で乾かした。生成結晶を分析し
て原子パーセントで5i17.5%%P37.2チおよ
びAt 45.4チを含んでいた。結晶は大きかった。
合成MCM−2としてのシリコホスホアルミネート試料
をX線分析し表3に示す様な回折線を示すシャバサイト
型の結晶性モレキュラーシ−ブであるとわかった。
をX線分析し表3に示す様な回折線を示すシャバサイト
型の結晶性モレキュラーシ−ブであるとわかった。
9.2412 9.563 99.216.8600
12.894 24.936.4868 13.640
7.486.2515 14.155 14.655
.5144 16.059 72.904.8868
18.13B 21.384.8257 18.370
11.674.3030 20.624 100.0
04.2584 20.843 23.574.000
0 22.205 5.003.8400 23.14
2 5.003.5075 25.373 21.42
3.4376 25.897 22.893.3947
26.230 7.273.1239 28.550
1.773.0495 29.262 14.073
.0160 29.594 5.902.9190 3
0゜601 33゜972.8492 31.370
25.06実施例 4 実施例3の合成を反復した、但し水相にAt20317
.02を使用した。えた生成結晶性シリコホスホアルミ
ネートの結晶寸法は小さくまた原子パーセントはsi
13.2%、P36.3%、およびAt50.5%でお
った。
12.894 24.936.4868 13.640
7.486.2515 14.155 14.655
.5144 16.059 72.904.8868
18.13B 21.384.8257 18.370
11.674.3030 20.624 100.0
04.2584 20.843 23.574.000
0 22.205 5.003.8400 23.14
2 5.003.5075 25.373 21.42
3.4376 25.897 22.893.3947
26.230 7.273.1239 28.550
1.773.0495 29.262 14.073
.0160 29.594 5.902.9190 3
0゜601 33゜972.8492 31.370
25.06実施例 4 実施例3の合成を反復した、但し水相にAt20317
.02を使用した。えた生成結晶性シリコホスホアルミ
ネートの結晶寸法は小さくまた原子パーセントはsi
13.2%、P36.3%、およびAt50.5%でお
った。
実施例 5
一部の実施例3の結晶性MCM−2シリコホスホアルミ
ネートを窒素中450℃で4時間か焼した後X線分析し
た。
ネートを窒素中450℃で4時間か焼した後X線分析し
た。
結果を表4に示している。
表 4
格子面d−間隔(A) 実測2θ 相対強度:I/Ig
9.2476 9.566 100.006.8414
12.929 23.346.2800 14.09
0 2.005.5050 16.087 16.61
4.9465 17.918 5.054.6200
19.194 2.004.2923 20.676
35.993.8415 23.134 4.723.
5423 25.119 6.973.4266 25
.982 7.733.2100 27.768 2.
003.1600 28.216 2.002.908
6 30.174 15.302.8621 31.2
26 8.93実施例 6 1−ヘキサ/−ル609とSt (QC!H5)4 1
0 tよシ成る有機相およびAltos 7 f、Hs
POa (85%) 23.1f、’rPAO)i(2
5チ)84t、およびLO30rよシ成る水相を含む二
相合成反応混合物を製造した。反応混合物は全体として
原子パーセントで5i12.4%、P52.0チおよび
At35.6チの組成をもっていた。指向剤はテトラプ
ロピルアンモニウムハイ1ドロオキサイドであった。
9.2476 9.566 100.006.8414
12.929 23.346.2800 14.09
0 2.005.5050 16.087 16.61
4.9465 17.918 5.054.6200
19.194 2.004.2923 20.676
35.993.8415 23.134 4.723.
5423 25.119 6.973.4266 25
.982 7.733.2100 27.768 2.
003.1600 28.216 2.002.908
6 30.174 15.302.8621 31.2
26 8.93実施例 6 1−ヘキサ/−ル609とSt (QC!H5)4 1
0 tよシ成る有機相およびAltos 7 f、Hs
POa (85%) 23.1f、’rPAO)i(2
5チ)84t、およびLO30rよシ成る水相を含む二
相合成反応混合物を製造した。反応混合物は全体として
原子パーセントで5i12.4%、P52.0チおよび
At35.6チの組成をもっていた。指向剤はテトラプ
ロピルアンモニウムハイ1ドロオキサイドであった。
初めのpHは5と7の間であった。
反応混合物を毎時50℃づつ150℃まで加熱しこの温
度に65時間保って本明細書においてMCM−3と命名
したシリコホスホアルミネート結晶を生成させた。反応
当初におけるpHは5と7の間であった。
度に65時間保って本明細書においてMCM−3と命名
したシリコホスホアルミネート結晶を生成させた。反応
当初におけるpHは5と7の間であった。
反応混合物から結晶性生成物を沢過分離し水洗し80℃
で乾燥した。合成したま\のMCM−3シリコホスホア
ルミネート試料をX線分し表5に示す回折線をもつ結晶
構造であることがわかった0 5.1933 17.059 43.924.8933
18.114 15.904.5500 19.49
3 1.004.2976 20.650 100.0
03.9617 22.423 23.283.914
5 22.697 63.053.8453 23.1
11 14.343.6884 24.109 28.
923.5868 24.802 49.123.38
52 26.305 4.703.0406 29.3
49 20.042.9094 30.705 12.
742.8588 31.262 14.052.75
65 32.454 12.24実施例 7 1−ヘキサ/−に60fとSl (OCzHs)410
? ヨI)成る有機相およびALx’s 15.89
、H3PO4(85%)42.3r、TPAO)1(2
5%)842および)h0302よシ成る水相を含む二
相合成反応混合物を製造した。反応混合物は全体として
原子パーセントでSi6.6%、P2O,6%およびA
t42.8%を含む組成でおった。指向剤はテトラプロ
ピルアンモニウムハイドロオキサイドであった。反応混
合物を毎時50℃づつ150℃まで加熱しその温度で1
68時間保って本明細書でMCM−4と命名したシリコ
ホスホアルミネート結晶を生成させた。初めのpHは5
と7の間であった。
で乾燥した。合成したま\のMCM−3シリコホスホア
ルミネート試料をX線分し表5に示す回折線をもつ結晶
構造であることがわかった0 5.1933 17.059 43.924.8933
18.114 15.904.5500 19.49
3 1.004.2976 20.650 100.0
03.9617 22.423 23.283.914
5 22.697 63.053.8453 23.1
11 14.343.6884 24.109 28.
923.5868 24.802 49.123.38
52 26.305 4.703.0406 29.3
49 20.042.9094 30.705 12.
742.8588 31.262 14.052.75
65 32.454 12.24実施例 7 1−ヘキサ/−に60fとSl (OCzHs)410
? ヨI)成る有機相およびALx’s 15.89
、H3PO4(85%)42.3r、TPAO)1(2
5%)842および)h0302よシ成る水相を含む二
相合成反応混合物を製造した。反応混合物は全体として
原子パーセントでSi6.6%、P2O,6%およびA
t42.8%を含む組成でおった。指向剤はテトラプロ
ピルアンモニウムハイドロオキサイドであった。反応混
合物を毎時50℃づつ150℃まで加熱しその温度で1
68時間保って本明細書でMCM−4と命名したシリコ
ホスホアルミネート結晶を生成させた。初めのpHは5
と7の間であった。
反応混合物から結晶性生成物を沢過分離し水洗し80℃
で乾かした。合成したま\のMCM−4シリコホスホア
ルミネート試料をX線分析して表6に示す回折線を示す
結晶性物質であることがわかった。
で乾かした。合成したま\のMCM−4シリコホスホア
ルミネート試料をX線分析して表6に示す回折線を示す
結晶性物質であることがわかった。
4.4626 19.879 13.774.3539
20.380 36.234.2694 20.78
8 100.004.0690 21.825 16.
323.9834 22.299 3.433.740
0 23.770 5.003.6516 24.35
5 31.123.3698 26.428 62.1
03.0467 29.289 7.842.9447
30.328 6.71実施例 8 1−ヘキサノール602と5i(OCzHs)41(l
よシ成る有機相およびAt20313.8 f、市PO
4(85%)23.11、NaOH4,Of、TPAB
r 26.(lおよび&0100rよυ成る水相を含む
二相合成及比、混合物を製造した。反応混合物は全体と
して原子パーセントでSi9.3%、P38.6%およ
びAt52.1%の組成であった。
20.380 36.234.2694 20.78
8 100.004.0690 21.825 16.
323.9834 22.299 3.433.740
0 23.770 5.003.6516 24.35
5 31.123.3698 26.428 62.1
03.0467 29.289 7.842.9447
30.328 6.71実施例 8 1−ヘキサノール602と5i(OCzHs)41(l
よシ成る有機相およびAt20313.8 f、市PO
4(85%)23.11、NaOH4,Of、TPAB
r 26.(lおよび&0100rよυ成る水相を含む
二相合成及比、混合物を製造した。反応混合物は全体と
して原子パーセントでSi9.3%、P38.6%およ
びAt52.1%の組成であった。
指向剤はナト2プロピルアンモニウムブロマイドでアラ
た。初めのpHは5と7の間であった。
た。初めのpHは5と7の間であった。
反応混合物を毎時50℃づつ150℃まで加熱しこの温
度に168時間保って本明細書でMCM−5と命名した
シリコホスホアルミネート結晶を生成させた。
度に168時間保って本明細書でMCM−5と命名した
シリコホスホアルミネート結晶を生成させた。
反応混合物から結晶性生成物を濾過分離し水洗し80℃
で乾かした。生成結晶は原子パーセントでSi9.6%
、P45.9%およびAt44.5%と分析された。合
成した1ソのM、CM−5シリコホスホアルミネート試
料をX−線分析し表7に示す回折線をもつ結晶性物質で
あることがわかった0 8.5984 10.279 100.006.781
0 13.045 3.054.7545 18.64
7 4.654.6389 19.116 6.494
.5429 19.524 1.584.4200 2
0.0?2 2.004.3500 20.398 3
.004.2206 21.031 2.604.11
34 21.586 2.373.8541 23.0
58 1.603.7092 23.971 5,8Q
3.6724 24.215 3.653.4981
25.441 1.083.3886 26.278
3.733.3331 26.723 0.483.2
150 27.724 4.513.1616 28.
202 2,873.0206 29.548 2.2
82.9090 30.709 □、1□2.8887
30.930 1.632.7450 32.594
1,072.7005 33.146 2.002.
6774 33.441 0.B42.6472 33
.833 0.732.5890 34.618 1.
342.5760 34.797 1.30実施例 9 実施例5のか焼生成物結晶性シリコホスホアルミネート
試料のモレキュラーシーブ性を確認するため収着性を検
べた。結果の重量%は次のとおシである:水(60℃)
10.3 n−ヘキサン(90℃)9.3 p−キシレン(90℃)2.7 2−メチル−ペンタン(90℃)1.1シクロヘキサン
(90℃)0.8 0−キシレン(120℃)09 実施例 10 の 実施例3の結晶性生成物シリコホスホアルミネー)コ紬
について900℃における熱処理前後の収着性を検べた
。
で乾かした。生成結晶は原子パーセントでSi9.6%
、P45.9%およびAt44.5%と分析された。合
成した1ソのM、CM−5シリコホスホアルミネート試
料をX−線分析し表7に示す回折線をもつ結晶性物質で
あることがわかった0 8.5984 10.279 100.006.781
0 13.045 3.054.7545 18.64
7 4.654.6389 19.116 6.494
.5429 19.524 1.584.4200 2
0.0?2 2.004.3500 20.398 3
.004.2206 21.031 2.604.11
34 21.586 2.373.8541 23.0
58 1.603.7092 23.971 5,8Q
3.6724 24.215 3.653.4981
25.441 1.083.3886 26.278
3.733.3331 26.723 0.483.2
150 27.724 4.513.1616 28.
202 2,873.0206 29.548 2.2
82.9090 30.709 □、1□2.8887
30.930 1.632.7450 32.594
1,072.7005 33.146 2.002.
6774 33.441 0.B42.6472 33
.833 0.732.5890 34.618 1.
342.5760 34.797 1.30実施例 9 実施例5のか焼生成物結晶性シリコホスホアルミネート
試料のモレキュラーシーブ性を確認するため収着性を検
べた。結果の重量%は次のとおシである:水(60℃)
10.3 n−ヘキサン(90℃)9.3 p−キシレン(90℃)2.7 2−メチル−ペンタン(90℃)1.1シクロヘキサン
(90℃)0.8 0−キシレン(120℃)09 実施例 10 の 実施例3の結晶性生成物シリコホスホアルミネー)コ紬
について900℃における熱処理前後の収着性を検べた
。
この様な熱処理も実施例3の結晶性モレキュラーシーブ
・シリコホスホアルミネートが特別な熱安定性を示して
収着性の変らないことがわかった。
・シリコホスホアルミネートが特別な熱安定性を示して
収着性の変らないことがわかった。
実施例 11
実施例3と4の生成物のアンモニウム型を25℃から6
00℃に加熱中放出されるアンモニアガスを滴定して上
記生成物の酸性特性を検べた。この試験結果は360℃
においてアンモニア最大発生速度を示し、また各生成物
のイオン交換能が0.7−0.8meq/7であること
を示した。
00℃に加熱中放出されるアンモニアガスを滴定して上
記生成物の酸性特性を検べた。この試験結果は360℃
においてアンモニア最大発生速度を示し、また各生成物
のイオン交換能が0.7−0.8meq/7であること
を示した。
実施例 12
実施例3の生成物のアンモニウム型を窒素中450−5
50℃に加熱して水素型に変えた後それをアルファー試
験で試験した。そのアルファー値は8,6であると純量
された。この同じ生成物は350℃におけるメタノール
転化活性、538℃におけるメタノールによるトルエン
のアルキル化活性および450乃至500℃におけるエ
チレンによるトルエンのアルキル化活性をもつことを示
した。
50℃に加熱して水素型に変えた後それをアルファー試
験で試験した。そのアルファー値は8,6であると純量
された。この同じ生成物は350℃におけるメタノール
転化活性、538℃におけるメタノールによるトルエン
のアルキル化活性および450乃至500℃におけるエ
チレンによるトルエンのアルキル化活性をもつことを示
した。
実施例 −6
それぞれMCM−6、MCM−7、MCM−2、および
MCM−8と命名されたちがった4種のシリコホスホア
ルミネート結晶性物質の合成のため4個の二相反応混合
物を製造した。反応混合物の組成と反応条件は下表8に
示している。えられた各4生成物は表8に示している組
成中口面体的に配位されたSi%PおよびAtをもって
いた。
MCM−8と命名されたちがった4種のシリコホスホア
ルミネート結晶性物質の合成のため4個の二相反応混合
物を製造した。反応混合物の組成と反応条件は下表8に
示している。えられた各4生成物は表8に示している組
成中口面体的に配位されたSi%PおよびAtをもって
いた。
実施絡13かも16までの各シリコホスホアルミネート
生成物のX−線回折、分析値はそれぞれ表9.10.1
1および12に示している。
生成物のX−線回折、分析値はそれぞれ表9.10.1
1および12に示している。
実施例13.14および15の生成物質の拘束係数(米
国特許第4,385,195号に定義〕とアルファー値
を検へた。
国特許第4,385,195号に定義〕とアルファー値
を検へた。
結果は表13にあげている。
表 8
H3PO3(85チ) 23,123,123,123
.IH,071,059,671,070,0Adz0
3 10.013.710.010.08i(OCzI
(s、)410,010.010.010.01−一一
六シリソープレ 60,0 60.0 60.0 60
.0有機ベース TMAOH(25%) −−−−−−−−−31,OT
B;AOI((40%) 37.0 −−− 37.0
−−−ジ−n−プロピルアミン −−−10,1−−
−−−−KOH−−−−−−−−−2,0 CsOHO,04−−−2,0−−− 条 件 核生成時間、時 24 24 24 24核生成温度、
℃ 130 130 130 130結晶化時間、時
144 24 144 144結晶化温度、’C180
200180180旋回速度、rpm 800 800
800 800初期 pn 6.5 5.5 6.5
5.5末期 p)l 6.5 9 6.0 7実施例
13 14 15 16 生成物組成(合計原子%) Si 19.7 12.7 19,8 15.3P 3
9,9 41,7 39.6 46.3At 40.4
45.6 40.7 38.4生成酸化物組成(合成
重′ji、チ) S i Ox 15.83 10.45 14.33
11.49Pg Os 37.85 41.06 33
.90 41.22に40327.63 32.29
25.10 24.6 ON含量 (重x%) 1.2
1.3 1.2 1.3C含童 (g ) 5.46
5.95 6.32 8.13灰分含量(tt )
85.9 87,2 85,2 87.6表9(MCM
−6) 11.81457 7.476 93.16.839i
5 12.934 12.55.92518 14.9
39 32.44.48008 1.9.801 81
.14.20412 21.115 78.73.95
564 22.458 100.03.66765 2
4.847 5.03.42339 26.006 4
2.33.06571 29.104 18.82.9
6477 30.118 22.12.65646 3
3.712 6.82.58880 34.620 2
2.3表10 (MCM−7) 10.85413 8.139 18.29.3212
9 9.480 29.99.69511 13.21
3 11.95.63770 15.706 25.9
4.36818 20.313 85.74.2078
5 21.096 100.04.00432 22.
181 60.33.93218 22.594 64
.83.90051 22.780 71.13.82
889 23.211 76.63.10868 28
.693 8.93.00339 29.721 10
.42.71879 32.917 11.9表11(
MCM−2) 9.2412 9.563 99.216.8600
12.894 24.936.4868 13.640
7.486.2515 14,155 14.655
.5144 16.059 72.904.8868
18.138 21.384.8257 18.370
11.674.3030 20.624 100.0
04.2584 20.843 23.574.000
0 22.205 5.003.8400 23.14
2 5.003.5075 25.373 21.42
3.4376 25.897 22.893.3947
26.230 7.273.1239 28.550
1.773゜0495 29.262 14.073
.0160 29.594 5.902.9190 3
0.601 33.972.8492 31.370
25.06表12(MCM−8) 6.3139 14.015 68.104.4698
19.847 48.033.6517 24.35
5 100.003.1578 28.237 15.
372.8291 31.599 12.032.58
69 34.647 13.373.9910 22−
256 5.40表 13 拘束係数 0.5−0.7 1.0 100アルフアH
直 3.5− 実施例 17 Si (OCzHs) 10 fと1−ヘキサノール6
02よシ成る有機相およびH3PO4(85チ) 23
.1 f、 Atxos13、’l、ジーn−プロピル
アミン10.1tおよび&059.6Fより成る水相を
含む二相合成反応混合物を製造した。反応混合物は全体
として原子パーセントでSi 9.3%、P38.8%
およびAt51.9%の組成をもっていた。
.IH,071,059,671,070,0Adz0
3 10.013.710.010.08i(OCzI
(s、)410,010.010.010.01−一一
六シリソープレ 60,0 60.0 60.0 60
.0有機ベース TMAOH(25%) −−−−−−−−−31,OT
B;AOI((40%) 37.0 −−− 37.0
−−−ジ−n−プロピルアミン −−−10,1−−
−−−−KOH−−−−−−−−−2,0 CsOHO,04−−−2,0−−− 条 件 核生成時間、時 24 24 24 24核生成温度、
℃ 130 130 130 130結晶化時間、時
144 24 144 144結晶化温度、’C180
200180180旋回速度、rpm 800 800
800 800初期 pn 6.5 5.5 6.5
5.5末期 p)l 6.5 9 6.0 7実施例
13 14 15 16 生成物組成(合計原子%) Si 19.7 12.7 19,8 15.3P 3
9,9 41,7 39.6 46.3At 40.4
45.6 40.7 38.4生成酸化物組成(合成
重′ji、チ) S i Ox 15.83 10.45 14.33
11.49Pg Os 37.85 41.06 33
.90 41.22に40327.63 32.29
25.10 24.6 ON含量 (重x%) 1.2
1.3 1.2 1.3C含童 (g ) 5.46
5.95 6.32 8.13灰分含量(tt )
85.9 87,2 85,2 87.6表9(MCM
−6) 11.81457 7.476 93.16.839i
5 12.934 12.55.92518 14.9
39 32.44.48008 1.9.801 81
.14.20412 21.115 78.73.95
564 22.458 100.03.66765 2
4.847 5.03.42339 26.006 4
2.33.06571 29.104 18.82.9
6477 30.118 22.12.65646 3
3.712 6.82.58880 34.620 2
2.3表10 (MCM−7) 10.85413 8.139 18.29.3212
9 9.480 29.99.69511 13.21
3 11.95.63770 15.706 25.9
4.36818 20.313 85.74.2078
5 21.096 100.04.00432 22.
181 60.33.93218 22.594 64
.83.90051 22.780 71.13.82
889 23.211 76.63.10868 28
.693 8.93.00339 29.721 10
.42.71879 32.917 11.9表11(
MCM−2) 9.2412 9.563 99.216.8600
12.894 24.936.4868 13.640
7.486.2515 14,155 14.655
.5144 16.059 72.904.8868
18.138 21.384.8257 18.370
11.674.3030 20.624 100.0
04.2584 20.843 23.574.000
0 22.205 5.003.8400 23.14
2 5.003.5075 25.373 21.42
3.4376 25.897 22.893.3947
26.230 7.273.1239 28.550
1.773゜0495 29.262 14.073
.0160 29.594 5.902.9190 3
0.601 33.972.8492 31.370
25.06表12(MCM−8) 6.3139 14.015 68.104.4698
19.847 48.033.6517 24.35
5 100.003.1578 28.237 15.
372.8291 31.599 12.032.58
69 34.647 13.373.9910 22−
256 5.40表 13 拘束係数 0.5−0.7 1.0 100アルフアH
直 3.5− 実施例 17 Si (OCzHs) 10 fと1−ヘキサノール6
02よシ成る有機相およびH3PO4(85チ) 23
.1 f、 Atxos13、’l、ジーn−プロピル
アミン10.1tおよび&059.6Fより成る水相を
含む二相合成反応混合物を製造した。反応混合物は全体
として原子パーセントでSi 9.3%、P38.8%
およびAt51.9%の組成をもっていた。
指向剤はジ−n−プロピルアミンであった。初めのpH
は5から7の間であった。
は5から7の間であった。
反応混合物を毎時50℃づつ130℃まで加熱しその温
度に24時間保ち更に200℃で24時間保って本明細
書でMCM−9と命名されたシリコホスホアルミネート
結晶が生成された。
度に24時間保ち更に200℃で24時間保って本明細
書でMCM−9と命名されたシリコホスホアルミネート
結晶が生成された。
反応混合物から結晶性生成物をr過分離し水洗し80℃
で乾燥した。生成結晶は原子パーセントで5i13.1
%、P42.7%、およびAt44.2%と分析された
。合成したま\のMCM−9シリコホスホアルミネート
試料をX線分析した結果表14に示す回折線をもつモレ
キュラーシーブ構造であることがわかった。
で乾燥した。生成結晶は原子パーセントで5i13.1
%、P42.7%、およびAt44.2%と分析された
。合成したま\のMCM−9シリコホスホアルミネート
試料をX線分析した結果表14に示す回折線をもつモレ
キュラーシーブ構造であることがわかった。
16.4111 5.381 62.3910.852
6 8.140 17.669.6576 9.149
32.129.3204 9.481 27.268
.2047 10.774 20.526.8566
12.901 76.056.7054 13.193
12.086.4892 13.634 54.07
6.1653 14.354 10.735.6353
15.712 26.805.4550 16.23
5 4.234.8496 18.278 59.79
4.7388 18.710 14.594.6681
18.996 5.634.3551 20.375
49.354.2273 20.998 92.67
4.1353 21.471 37.274.0810
21759 100.004.0106 22.14
6 27.793.9298 22.607 47.4
83.8322 23.191 40.953.759
8 23.644 14.343.6060 24.6
68 14.553.3878 26.285 31.
223.3439 26.636 9.323.275
9 27.199 24.923・1640 28.1
80 13.983.0649 29.112 65.
462.9449 30.=325 18.462.8
926 30.877 20.582.8367 31
.512 7.142.77g2 32.181 9.
792.7311 32.764 15.652.6B
15 33.388 32.912.61B3 34.
218 8.19実施例 18 実施例17の合成を反復した。但し反応混合物を200
℃に48時間保った。結晶性シリコホスホアルミネート
は原子パーセントで5i14.5%、P42.4チおよ
びAt43.1%を含むと分析された。合成したま\の
MCM−9シリコホスホアルミネート試料をXi分析し
た結果表15に示す回折線をもつモレキュラーシーブ構
造をもつとわかった。
6 8.140 17.669.6576 9.149
32.129.3204 9.481 27.268
.2047 10.774 20.526.8566
12.901 76.056.7054 13.193
12.086.4892 13.634 54.07
6.1653 14.354 10.735.6353
15.712 26.805.4550 16.23
5 4.234.8496 18.278 59.79
4.7388 18.710 14.594.6681
18.996 5.634.3551 20.375
49.354.2273 20.998 92.67
4.1353 21.471 37.274.0810
21759 100.004.0106 22.14
6 27.793.9298 22.607 47.4
83.8322 23.191 40.953.759
8 23.644 14.343.6060 24.6
68 14.553.3878 26.285 31.
223.3439 26.636 9.323.275
9 27.199 24.923・1640 28.1
80 13.983.0649 29.112 65.
462.9449 30.=325 18.462.8
926 30.877 20.582.8367 31
.512 7.142.77g2 32.181 9.
792.7311 32.764 15.652.6B
15 33.388 32.912.61B3 34.
218 8.19実施例 18 実施例17の合成を反復した。但し反応混合物を200
℃に48時間保った。結晶性シリコホスホアルミネート
は原子パーセントで5i14.5%、P42.4チおよ
びAt43.1%を含むと分析された。合成したま\の
MCM−9シリコホスホアルミネート試料をXi分析し
た結果表15に示す回折線をもつモレキュラーシーブ構
造をもつとわかった。
表15(MCM−9)
16.4079 5.382 100.0010.84
49 8.146 7.499.3382 9.463
14.698.2045 10.774 30.68
6.6779 13.247 7.676.1687
14.346 14.015.6460 15.683
12.665.4639 16.209 5.084
.8358 18.331 3.084.7403 1
8.704 14.294.3370 20.461
14.884.2142 21.064 54.044
.0922 21.699 28.934.0529
21.912 33.054.0066 22.169
16.423.9361 22.571 42.98
3.8330 23.186 25.283.7675
23.595 20.323.6367 24.45
7 7.763.5884 24.791 8.643
.3881 26.282 5.673.3420 2
6.651 3.813.2787 27.176 3
2.353.1646 28.175 9.663.0
888 28.881 13.523.0304 29
.451 9.222.9527 30.244 19
.342.8974 30.835 9.662.83
83 31.494 3.592.7410 32.6
42 15.872.6273 34.097 6.9
6実施例 19 −mの実施例18の結晶性シリコホスホアルミネートを
窒素中450℃で4時間か焼した後X線分析した。結果
は表16に示している。
49 8.146 7.499.3382 9.463
14.698.2045 10.774 30.68
6.6779 13.247 7.676.1687
14.346 14.015.6460 15.683
12.665.4639 16.209 5.084
.8358 18.331 3.084.7403 1
8.704 14.294.3370 20.461
14.884.2142 21.064 54.044
.0922 21.699 28.934.0529
21.912 33.054.0066 22.169
16.423.9361 22.571 42.98
3.8330 23.186 25.283.7675
23.595 20.323.6367 24.45
7 7.763.5884 24.791 8.643
.3881 26.282 5.673.3420 2
6.651 3.813.2787 27.176 3
2.353.1646 28.175 9.663.0
888 28.881 13.523.0304 29
.451 9.222.9527 30.244 19
.342.8974 30.835 9.662.83
83 31.494 3.592.7410 32.6
42 15.872.6273 34.097 6.9
6実施例 19 −mの実施例18の結晶性シリコホスホアルミネートを
窒素中450℃で4時間か焼した後X線分析した。結果
は表16に示している。
表16
16.3622 5.397 47.4614.054
5 6.284 21.2010.9231 8.08
8 6.388.9443 9.881 41.098
.1901 10.793 9.936.9002 1
2.819 13.135.4998 16.102
29.834.4683 19.853 22.634
.3595 20.354 7゜284.0790 2
1.770 100.003.9420 22.537
59.933.7815 23.507 34.47
3.5387 25.145 18.203.4518
25.788 10.083.3277 26.76
8 7.783.2785 27.177 13.51
3.2215 27.668 7.003.0139
29.615 33.242.9487 30.286
11.292.8231 31.668 7.732
.7398 32.657 18.39実施例 20 n−ヘキサノール602とSi (OCz)is)+
109より成る有機相およびHaPO4(F35%、)
23.1f、Atz 0310Fおよび3.6N Di
quat −7(OH)2 (即ち、(OH)(CHs
)sN−(C市)7N(CH3)3 (OH))154
.47よシ成る水相を含む二相合成反応混合物を製造し
た。反応混合物は全体として原子パーセントで5i10
.8%、P45チおよびAt44.2チの組成をもって
いた。指向剤はDiquat −7(OH)zであった
。初めのp)lは6よ仄稍高かった。
5 6.284 21.2010.9231 8.08
8 6.388.9443 9.881 41.098
.1901 10.793 9.936.9002 1
2.819 13.135.4998 16.102
29.834.4683 19.853 22.634
.3595 20.354 7゜284.0790 2
1.770 100.003.9420 22.537
59.933.7815 23.507 34.47
3.5387 25.145 18.203.4518
25.788 10.083.3277 26.76
8 7.783.2785 27.177 13.51
3.2215 27.668 7.003.0139
29.615 33.242.9487 30.286
11.292.8231 31.668 7.732
.7398 32.657 18.39実施例 20 n−ヘキサノール602とSi (OCz)is)+
109より成る有機相およびHaPO4(F35%、)
23.1f、Atz 0310Fおよび3.6N Di
quat −7(OH)2 (即ち、(OH)(CHs
)sN−(C市)7N(CH3)3 (OH))154
.47よシ成る水相を含む二相合成反応混合物を製造し
た。反応混合物は全体として原子パーセントで5i10
.8%、P45チおよびAt44.2チの組成をもって
いた。指向剤はDiquat −7(OH)zであった
。初めのp)lは6よ仄稍高かった。
反応混合物を毎時50℃づつ130℃寸で加熱しその温
度に24時間保った後180℃とし144時間保った。
度に24時間保った後180℃とし144時間保った。
この間800rpmで回転して混合した。
反応混合物から結晶性生成物を1過分離し水洗し80℃
で乾かした。生成結晶性シリコホスホアルミネートは原
子パーセントとしてsi i9.c+%、P37.1チ
およびAt43.0%の組成をもっていた。本明細書で
MCM−10と命名された様な合成したま\のシリコホ
スホアルミネート試別をX−線分析した結果、表17に
示す回折線をもつ結晶性モレキュラーシーブ構造をもつ
とわかった。
で乾かした。生成結晶性シリコホスホアルミネートは原
子パーセントとしてsi i9.c+%、P37.1チ
およびAt43.0%の組成をもっていた。本明細書で
MCM−10と命名された様な合成したま\のシリコホ
スホアルミネート試別をX−線分析した結果、表17に
示す回折線をもつ結晶性モレキュラーシーブ構造をもつ
とわかった。
11.8446 7.457 17.0410.196
0 8.665 78.407.6489 11.55
9 84.856.8567 12.900 24.3
95.9273 14.934 13.315.685
6 15.573 35.975・1059 17.3
54 57.485・0091 17.692 64.
214・4885 19.763 10.914・37
42 20.285 85.604・0918 21.
701 100.003.9534 22.471 1
1.663.7982 23.402 42.703・
7262 23.861 13.623.4249 2
5.995 26.693・2165 27.711
81.463−1626 28.193 8.652.
9904 29.854 20.842・9657 3
0.108 21.062.9347 30.433
32.192・8448 31.420 36.842
−7846 32.118 7.412.6813 3
3.390 42.382・5893 34.614
19.50実施例 21 実施例20の合成法を反復し行なったが、但し水30り
のみを加えた0えプこ結晶性生成物シリコホスホアルミ
ネー)MCM−10のX線回折パターンは表17に報告
したのに類似した線を示した。生成物は50%の結晶性
であった。
0 8.665 78.407.6489 11.55
9 84.856.8567 12.900 24.3
95.9273 14.934 13.315.685
6 15.573 35.975・1059 17.3
54 57.485・0091 17.692 64.
214・4885 19.763 10.914・37
42 20.285 85.604・0918 21.
701 100.003.9534 22.471 1
1.663.7982 23.402 42.703・
7262 23.861 13.623.4249 2
5.995 26.693・2165 27.711
81.463−1626 28.193 8.652.
9904 29.854 20.842・9657 3
0.108 21.062.9347 30.433
32.192・8448 31.420 36.842
−7846 32.118 7.412.6813 3
3.390 42.382・5893 34.614
19.50実施例 21 実施例20の合成法を反復し行なったが、但し水30り
のみを加えた0えプこ結晶性生成物シリコホスホアルミ
ネー)MCM−10のX線回折パターンは表17に報告
したのに類似した線を示した。生成物は50%の結晶性
であった。
実施例 22
多量の実施例20の結晶性MCM−10シリコホスホア
ルミネートを窒素中450℃で4時間か焼した後X線分
析した。結果は衣18に示すとおυ: 表18 11.7521 7.516 20.8110.107
0 8.742 85.447.5640 11.69
0 100.006.8057 12.997 71.
805.6522 15.665 25.385.07
70 1?、453 29.024.9416 17.
935 78.184.4564 19.907 16
.584.3515 20.392 99.634.2
756 20.758 25.684.0759 21
.787 83.253.8546 23.055 1
5.883.7499 23.707 21.153.
4089 26.119 42.383.1778 2
8.056 68.192.9616 30.151
29.912.9230 30.558 51.092
.8835 30.988 10.992.8321
31.564 36.782.6565 33.711
43.092.5795 34.749 19.66
第1頁の続き 優先権主張 61983竿12月19日[相]米国(U
S)■[相]1優C羊12月19日[相]米国(US
)[株]手続補正書(方式) 昭和60年1月29日 特許庁長官 志 賀 学 殴 事件との関係 特許出願人 名称 モービル オイル コーポレーション4、代理人
ルミネートを窒素中450℃で4時間か焼した後X線分
析した。結果は衣18に示すとおυ: 表18 11.7521 7.516 20.8110.107
0 8.742 85.447.5640 11.69
0 100.006.8057 12.997 71.
805.6522 15.665 25.385.07
70 1?、453 29.024.9416 17.
935 78.184.4564 19.907 16
.584.3515 20.392 99.634.2
756 20.758 25.684.0759 21
.787 83.253.8546 23.055 1
5.883.7499 23.707 21.153.
4089 26.119 42.383.1778 2
8.056 68.192.9616 30.151
29.912.9230 30.558 51.092
.8835 30.988 10.992.8321
31.564 36.782.6565 33.711
43.092.5795 34.749 19.66
第1頁の続き 優先権主張 61983竿12月19日[相]米国(U
S)■[相]1優C羊12月19日[相]米国(US
)[株]手続補正書(方式) 昭和60年1月29日 特許庁長官 志 賀 学 殴 事件との関係 特許出願人 名称 モービル オイル コーポレーション4、代理人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、a、液体の有機相及び液体の水相エリ成る反応混合
物であって、而して該反応混合物は水及び、酸化アルミ
ニウム、酸化珪素、酸化燐、有機指向剤A、無機カチオ
ンM及びアニオンNの語源;及び実質上水と混り合わな
い有機溶媒を含み、核反応混合物の組成は次の関係式:
%式%: (アニオン源) g :(Hz O)h〔但し、a、b
、c、d、e、f、g及びhは次の緒関係:a/(c−
1−d−1−e )は4よシ小であシ、b/(c+d−
1−e)は2より小であシ、d/(c+e)は2より小
でおり、 f/(c+d+e)は0.1乃至15でおり、g/(c
+d+e)は2よシ小でおり、且つh/(c+d+e
)は3乃至150である、を満足する数である〕を有し
ておシ且つ該反応混合物の当初の調製時に酸化アルミニ
ウム、酸化珪素あるいは酸化燐の一つの源を該有機相に
分散又は溶解しである反応混合物を調製し; b、該反応混合物を毎時5℃乃至200℃の速度で80
℃乃至300℃に加熱し; C0該液体の有機及び水相を相互に緊密に充分に混合す
る様に該反応混合物を攪拌し; d、該攪拌した反応混合物を、シリコホスホアルミネー
トの結晶が形成される迄、80℃乃至300℃の温度及
び2乃至9のpHに保持し;且つ e、該反応混合物よ)、無水の状態で、次式AIvHy
f5.: (AtOz)’、−,: (POz)1−x
: (SiOx)、+、:<:n〔但し、A′は有機指
向剤A十有榛溶媒の合計を表し、Vt1A’のモル数で
あり、mI/′iカチオンMの原子価であシ、nはアニ
オンNの原子価であシ、そしてX及びyは−1よシ大で
+1より小でsb且つ (1)Xが00場合には、yは0では無く。 (2)yが0の場合には、Xは0では無く、(3) A
t/Pの原子比が1より大なる場合には、(x+y )
はOより大であり且つV+0.6xは0.4よシ小であ
シ、且つ (4) At/ Pの原子比が1よシ小なる場合には、
(x十y )はOより犬であり且つ0.5は0.57+
xよシ太である、の晶関係を満足する数である〕の組成
を有することを特徴とするシリコホスホアルミネート物
質を回収する諸工程より成り、且つ該シリコホスホアル
ミネートが少くとも約30.002meq/fのイオン
交換能を有することを特徴とする結晶性シリコホスホア
ルミネートの合成方法。 2、有機指向剤Aがアミンあるいは式:%式% 〔但し、R及びR′はそれぞれ、1乃至20個の炭素原
子のアルキルあるいはアルキレン、1乃至20個の炭素
原子クロヘテロアルキル、あるいはそれらの組合わせで
あり−Mは窒素、燐、ヒ素、アンチモンあるいはビスマ
スから選ばれた四配位元素趣子おるいは脂環式、複素脂
環式あるいは複素芳香族構造中のN、0、s、se、p
あるいはA8から選ばれたヘテロ原子であシ;そしてX
はアニオンである〕のオニウム化合物である牲許請求の
範囲第1項に記載の方法。 3、有機指向剤AがCl−03アルキルアミン及び式%
式%) 〔但し、RはC1からC4のアルキルであり、R′はC
t からC6のアルキレンであり、Mは窒素であシ、そ
してXはハロゲン化物あるいけ水酸化物である〕のオニ
ウム化合物から選ばれたものであシ;且つ肩根溶媒がC
5からCIGのアルコールである特許請求の範囲第2項
記載の方法っ4、酸化珪累の源を当初、反応混合物の有
機相中に存在させ且つ攪拌した反応混合物のpHを6と
9の間に維持する6に1粕求の範、四第1項乃至第4項
のいずれかに記載の方法。 5、分離回収したシリコホスホアルミネートを300℃
乃至1000℃の温度に加熱し、それに依シ無水の状態
で次式 %式% 〔但し、Mは原子価mのカチオンであシ、Nは麿子価n
のアニオンであり、そしてXとyは−7より大で+1よ
シ小であり且つ、 (1)Xが0の場合には、yは0では無く、(2)yが
00場合には、Xは0では無く、(3) A/、/Pの
原子比が1よυ犬なる場合には、(x+y )は0よシ
太であり且つy+0.6xは0.4より小であり、且つ (4) At/Pの原子比が1よシ小なる場合には、(
x十y )はOよシ太であシ且つ0.5は0.57+x
よp大である、の諸関係を満足する数である〕の様な組
成を有するか焼シリコホスホアルミネートであって、且
つ少くとも0.002meq/fのイオン交換能を有す
ることを特徴とする該か焼シリコホスホアルミネートを
形成する付加工程を含む特許請求の範囲第1項乃至第4
項のいずれかに記載の方法。 6、反応混合物より分離回収したシリコホスホアルミネ
ート物質がMCM−1と呼ばれ且つ、加熱前の状態では
、本明書書の表1に示すものに実質上類似のX線回折パ
ターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項のいず
れかに記載の方法。 7、反応混合物よシ分離回収したシリコホスホアルミネ
ート物質がMCM−2と呼ばれ且つ、加熱前の状態では
、本明細1の表3に示すものに実質上類似するX線回折
パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項のい
ずれかに記載の方法。 8、反応混合物より分離回収したシリコホスホアルミネ
ート物質がMCM−3と呼ばれ且つ、加熱前の状態では
1本明細書の表5に示すものに実質上類似するX線回折
パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項のい
ずれかに記載の方法。 9、反応混合物より分離回収したシリコホスホアルミネ
ート物質がMCM−4と呼ばれ且つ、加熱前の状態では
、本明細書の表6に示すものに実質上類似するXa、回
折パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項の
いずれかに記載の方法。 10、反応混合物から分離回収したシリコホスホアルミ
ネート物質がMCM−5と呼ばれ且つ、加熱前の状態で
は、本明細書表7に示すものに実質上類似するX線回折
パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項のい
ずれかに記載の方法。 11、反応混合物から分離回収したシリコホスホアルミ
ネート物質がMCM−6と呼ばれ且つ、加熱前の状態で
は、本明細書の表9に示すものに実質上類似するXAj
J回折パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5
項のいずれかに記載の方法。 12、反応混合物から分離回収したシリコホスホアルミ
ネート物質がMCM−7と呼ばれ且つ、加熱前の状態で
は、本明細書の表10に示すものに実質上類似するX線
回折パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項
のいずれかに記載の方法。 13、反応混合物から分離回収したシリコホスホアルミ
ネート物質がMCM−8と呼ばれ且つ、加熱前の状態で
は、本明細書の表12に示すものに実質上類似するX線
回折パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5項
のいずれかに記載の方法。 14、反応混合物から分離回収したシリコホスホアルミ
ネ−1・物質がMCM−9と呼ばれ且つ、加熱前の状態
では、本明細書の衣15に示すものに実質上類似するX
lhI回折パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至
第5項のいずれかに記載の方法。 15、反応混合物から分離回収したシリコホスホアルミ
ネート物質がMCM−10と呼ばれ且つ、加熱前の状態
では、本明細書の表17に示すものに実質上類似するX
線回折パターンを有する特許請求の範囲第1項乃至第5
項のいずれかに記載の方法。
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JP2014506227A (ja) * | 2010-12-29 | 2014-03-13 | 中国科学院大▲連▼化学物理研究所 | Sapo分子篩の溶剤熱合成方法及びそれにより調製された触媒 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010280516A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Tosoh Corp | 高耐水性且つ大粒子のsapo−34及びその合成方法並びにその用途 |
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US9168516B2 (en) | 2010-12-29 | 2015-10-27 | Dalian Institute Of Chemical Physics, Chinese Academy Of Sciences | Solvothermal synthesis process of SAPO molecular sieves and catalysts prepared thereby |
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