JPS60150250A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60150250A JPS60150250A JP474984A JP474984A JPS60150250A JP S60150250 A JPS60150250 A JP S60150250A JP 474984 A JP474984 A JP 474984A JP 474984 A JP474984 A JP 474984A JP S60150250 A JPS60150250 A JP S60150250A
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- Japan
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- film
- layer
- refractive index
- recording medium
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気カー効果、ファラデー効果等の磁気光学
効果を用いて読み出すことのできる光磁気記録媒体に関
するものであり、特に書き込み効率および読み出し効率
を向上させるだめの反射防止膜を有する光磁気記録媒体
に関するものである。
効果を用いて読み出すことのできる光磁気記録媒体に関
するものであり、特に書き込み効率および読み出し効率
を向上させるだめの反射防止膜を有する光磁気記録媒体
に関するものである。
従来、光磁気記録媒体として、希土類−遥移金属の非晶
質合金薄膜が、書き込み効率、読み出し効率等から有望
とされている。特にGdTbFe3元非晶質薄膜は、キ
ューリ一点が1000前後と低く、カー回転角も大きい
優れた記録媒体である。
質合金薄膜が、書き込み効率、読み出し効率等から有望
とされている。特にGdTbFe3元非晶質薄膜は、キ
ューリ一点が1000前後と低く、カー回転角も大きい
優れた記録媒体である。
しかし、磁気記録層単独での書き込み感度、および読み
出し時のS/N比の向上は困難であり、基板材料、断熱
層、反射防止膜、反射増加膜(ファラデー効果利用の場
合)等との組み合わせによる効率の向上が望まれている
。
出し時のS/N比の向上は困難であり、基板材料、断熱
層、反射防止膜、反射増加膜(ファラデー効果利用の場
合)等との組み合わせによる効率の向上が望まれている
。
従来、特開昭56−156948号等で磁性膜上の単層
反射防止膜が提案されているが、書き込み側外部媒体が
ガラス、又はプラスチックの場合には、成膜時に加熱で
きないだめ屈折率が低く、効果が小さい欠点があった。
反射防止膜が提案されているが、書き込み側外部媒体が
ガラス、又はプラスチックの場合には、成膜時に加熱で
きないだめ屈折率が低く、効果が小さい欠点があった。
本発明者らは、先に、大きなカー回転角及び良好な角形
比を有する光磁気記録媒体として、GdTbFeCo4
元非晶質合金薄膜を見い出した。しかし、この4元系媒
体は、キューリ一点が約8000と高く、書き込み効率
が悪いという欠点があった。
比を有する光磁気記録媒体として、GdTbFeCo4
元非晶質合金薄膜を見い出した。しかし、この4元系媒
体は、キューリ一点が約8000と高く、書き込み効率
が悪いという欠点があった。
本発明の目的は、従来の光磁気記録媒体、特にGa T
b Fe Co 4元系非晶質合金薄膜を用いた光磁気
記録媒体における上記欠点の除去にある。
b Fe Co 4元系非晶質合金薄膜を用いた光磁気
記録媒体における上記欠点の除去にある。
本発明の別の目的は、従来の光磁気記録媒体、特にGa
Tb Fe Co 4元系非晶質合金薄膜を用いた光
磁気記録媒体における反射防止効果、を向上させ、情報
の書き込み効率を向上させ、かつカー回転角の増大(約
1度以上)によりS/N比を改善することにある。
Tb Fe Co 4元系非晶質合金薄膜を用いた光
磁気記録媒体における反射防止効果、を向上させ、情報
の書き込み効率を向上させ、かつカー回転角の増大(約
1度以上)によりS/N比を改善することにある。
本発明の上記目的は、書き込み側ガラス基板若しくはプ
ラスチック基板と記録磁性層との間に反射防止層を設け
てなる光磁気記録媒体において、上記反射防止層が、上
記基板側から第1層として設けられた一酸化ケイ素膜又
は二酸化ケイ素膜、及び第2層として設けられた屈折率
が1.7以上の高屈折率単層膜又は低屈折率膜として二
酸化ケイ素膜を用いる、高屈折率膜−低屈折率膜−高屈
折率膜の8層膜からなることを特徴とする光磁気記録媒
体によって達成される。 ・ 本発明に用いられる記録磁性層としてはGa TbFe
3元非晶質合金薄膜、Ga、 Tb Fe Co 4
元系非 ゛晶質合金薄膜等を例示することができるが、
カー回転角が大きく、角形比が良好であることから、上
記4元系磁性層が好ましい。
ラスチック基板と記録磁性層との間に反射防止層を設け
てなる光磁気記録媒体において、上記反射防止層が、上
記基板側から第1層として設けられた一酸化ケイ素膜又
は二酸化ケイ素膜、及び第2層として設けられた屈折率
が1.7以上の高屈折率単層膜又は低屈折率膜として二
酸化ケイ素膜を用いる、高屈折率膜−低屈折率膜−高屈
折率膜の8層膜からなることを特徴とする光磁気記録媒
体によって達成される。 ・ 本発明に用いられる記録磁性層としてはGa TbFe
3元非晶質合金薄膜、Ga、 Tb Fe Co 4
元系非 ゛晶質合金薄膜等を例示することができるが、
カー回転角が大きく、角形比が良好であることから、上
記4元系磁性層が好ましい。
本発明においては、第1層の上に、さらに第23一
層として屈折率が1,7以上の高屈折率の単層膜または
高屈折率膜から始まる高屈折率膜−二酸化ケイ素膜(低
屈折率膜)−高屈折率膜の3層膜が設けられる。
高屈折率膜から始まる高屈折率膜−二酸化ケイ素膜(低
屈折率膜)−高屈折率膜の3層膜が設けられる。
本発明において、第2層に用いられる高屈折率膜として
は、屈折率1.7〜1.8の一酸化ケイ素膜屈折率が約
1.9の二酸化ジルコニウム膜、屈折率が約〜2.0の
五酸化タンタル膜および屈折率が約〜2.1の五酸化ニ
オブ膜が好ましい。五酸化タンタル膜および五酸化ニオ
ブ膜は、室温における真空蒸着法によシ蒸着して上記の
屈折率を有するから、量産時、すなわち、記録磁性層を
加熱形成できず、しだがって反射防止膜も室温近くで形
成されねばならない場合に、特に有効である。
は、屈折率1.7〜1.8の一酸化ケイ素膜屈折率が約
1.9の二酸化ジルコニウム膜、屈折率が約〜2.0の
五酸化タンタル膜および屈折率が約〜2.1の五酸化ニ
オブ膜が好ましい。五酸化タンタル膜および五酸化ニオ
ブ膜は、室温における真空蒸着法によシ蒸着して上記の
屈折率を有するから、量産時、すなわち、記録磁性層を
加熱形成できず、しだがって反射防止膜も室温近くで形
成されねばならない場合に、特に有効である。
上記の3層膜においては、低屈折率膜として二酸化ケイ
素膜が用いられるが、一般に低屈折率膜として用いられ
るフッ化マグネシウム膜に比較して表面強度、密着性に
優れ、膜ワレ、膜ウキなどを生じない利点がある。
素膜が用いられるが、一般に低屈折率膜として用いられ
るフッ化マグネシウム膜に比較して表面強度、密着性に
優れ、膜ワレ、膜ウキなどを生じない利点がある。
反射防止層を構成する各層の膜厚は、第1層の 4−
一酸化ケイ素膜の膜厚を書き込み光及び読み出し光の波
長に対して光学的に1/2波長に設定し、第2層の各膜
厚を光学的に1/4波長に設定するのが好ましい。ただ
し、記録磁性層に接する膜は、境界面での反射時の位相
ズレを考慮して光学的にl/4波長よりも少さい膜厚に
設定するのが好ましい。
長に対して光学的に1/2波長に設定し、第2層の各膜
厚を光学的に1/4波長に設定するのが好ましい。ただ
し、記録磁性層に接する膜は、境界面での反射時の位相
ズレを考慮して光学的にl/4波長よりも少さい膜厚に
設定するのが好ましい。
反射防止層の第2層は光学的膜厚が1/4波長の8層膜
を基本構成とする方が製作上有利であり、反射率可変の
パラメーターとしては屈折率を変えた方が好都合である
。
を基本構成とする方が製作上有利であり、反射率可変の
パラメーターとしては屈折率を変えた方が好都合である
。
本発明の光磁気記録媒体の構成を示す模式図である第1
図を参照して本発明の一実施態様を説明する。第1図で
、書き込み側からガラス、又は、プラスチック基板l氏
上に、第1層として一酸化ケイ素膜2”i第2層として
高屈折率単層膜である二酸化ジルコニウム膜2bを設け
、この上にGaTbFeCo4元系非晶質記録磁性層8
を形成し、さらに−酸化ケイ素膜からなる保護膜4を形
成し、接着層5により、ガラス基板又はプラスチック基
板1bと貼り合わせて本発明の光磁気記録媒体が得られ
る。第1図において、反射防止層2a、 2bの膜厚は
、第1層が使用波長に対して光学的にl/2波長に設定
され、記録磁性層3に接する層2bは磁性層8との境界
面での反射時の位相ズレを考慮して1/4波長より薄い
光学的膜厚に設定される。すなわち反射防止層9a、
2bの屈折率は使用波長800nmに対して、それぞれ
1.7及び19であり、光学的膜厚は、それぞれ400
nm及び約160nmである。
図を参照して本発明の一実施態様を説明する。第1図で
、書き込み側からガラス、又は、プラスチック基板l氏
上に、第1層として一酸化ケイ素膜2”i第2層として
高屈折率単層膜である二酸化ジルコニウム膜2bを設け
、この上にGaTbFeCo4元系非晶質記録磁性層8
を形成し、さらに−酸化ケイ素膜からなる保護膜4を形
成し、接着層5により、ガラス基板又はプラスチック基
板1bと貼り合わせて本発明の光磁気記録媒体が得られ
る。第1図において、反射防止層2a、 2bの膜厚は
、第1層が使用波長に対して光学的にl/2波長に設定
され、記録磁性層3に接する層2bは磁性層8との境界
面での反射時の位相ズレを考慮して1/4波長より薄い
光学的膜厚に設定される。すなわち反射防止層9a、
2bの屈折率は使用波長800nmに対して、それぞれ
1.7及び19であり、光学的膜厚は、それぞれ400
nm及び約160nmである。
本発明の光磁気記録媒体の構成を示す模式図である第2
図を参照して、本発明の他の実施態様を説明する。反射
防止効果をさらに向上させるために反射防止層が、第1
層が一酸化ケイ素膜9a。
図を参照して、本発明の他の実施態様を説明する。反射
防止効果をさらに向上させるために反射防止層が、第1
層が一酸化ケイ素膜9a。
第2層が二酸化ジルコニウム膜2b、二酸化ケイ素膜2
C,及び二酸化ジルコニウム膜2dからなる3層膜より
構成されている以外は第1図におけると同様にして光磁
気記録媒体かえられる。使用波長約800nmに対して
膜2a、9b、j9c及び2dの屈折率は、それぞれ1
.7,1.9,1.45及び1.9であり、光学的膜厚
はそれぞれ4.00 nnm200n、200nm及び
160nmである。
C,及び二酸化ジルコニウム膜2dからなる3層膜より
構成されている以外は第1図におけると同様にして光磁
気記録媒体かえられる。使用波長約800nmに対して
膜2a、9b、j9c及び2dの屈折率は、それぞれ1
.7,1.9,1.45及び1.9であり、光学的膜厚
はそれぞれ4.00 nnm200n、200nm及び
160nmである。
本発明によれば、第1層の1/2波長の膜厚の一酸化ケ
イ素膜又は二酸化ケイ素膜、第2層が1/4波長の膜厚
の高屈折率単層膜又は各膜が1/4波長の膜厚の8層交
互層からなる反射防止層を、好ましくはGa Tb F
e Co 4元系記録磁性層とガラス又はプラスチック
基板の間に設けることにより、第2層が単層構成の場合
は約25%、8層膜構成の場合は約10q6以下の反射
率を実現し、書き込み効率及び読み出し効率を向上させ
ることができる。
イ素膜又は二酸化ケイ素膜、第2層が1/4波長の膜厚
の高屈折率単層膜又は各膜が1/4波長の膜厚の8層交
互層からなる反射防止層を、好ましくはGa Tb F
e Co 4元系記録磁性層とガラス又はプラスチック
基板の間に設けることにより、第2層が単層構成の場合
は約25%、8層膜構成の場合は約10q6以下の反射
率を実現し、書き込み効率及び読み出し効率を向上させ
ることができる。
また、第1層を一酸化ケイ素膜又は二酸化ケイ素膜とし
たことによシ、特にプラスチック基板に対して優れた密
着性を有し、耐湿性に優れ、かつ膜ワレの生じない反射
防止膜を形成することができる。さらに、第2層の高屈
折率膜として一酸化ケイ素膜、二酸化ジルコニウム、五
酸化タンタル又は五酸化ニオブ膜を用い、また低屈折率
膜として二酸化ケイ素膜を用いることにより、記録磁性
膜の反射防止層上への形成を容易にすることがで 7− きる。
たことによシ、特にプラスチック基板に対して優れた密
着性を有し、耐湿性に優れ、かつ膜ワレの生じない反射
防止膜を形成することができる。さらに、第2層の高屈
折率膜として一酸化ケイ素膜、二酸化ジルコニウム、五
酸化タンタル又は五酸化ニオブ膜を用い、また低屈折率
膜として二酸化ケイ素膜を用いることにより、記録磁性
膜の反射防止層上への形成を容易にすることがで 7− きる。
実施例1
第1図に示されたと同様に、プラスチック基板l氏上に
第1層として一酸化冴イ素膜2as第2層として二酸化
ジルコニウム膜2bを設け、この上にGa Tb Fe
Co ’4元系非晶質合金記録磁性層3を形成し、さ
らに−酸化ケ會素膜からなる保護膜4を形成し、接着層
5によシブラスチック基板1bと貼り合わせて光磁気記
録層を得た。第1層及び第2層の屈折率は使用波長80
0nmに対して、それぞれ1.7及び1.9、光学的膜
厚は、それぞれ400nmおよび160nmであった。
第1層として一酸化冴イ素膜2as第2層として二酸化
ジルコニウム膜2bを設け、この上にGa Tb Fe
Co ’4元系非晶質合金記録磁性層3を形成し、さ
らに−酸化ケ會素膜からなる保護膜4を形成し、接着層
5によシブラスチック基板1bと貼り合わせて光磁気記
録層を得た。第1層及び第2層の屈折率は使用波長80
0nmに対して、それぞれ1.7及び1.9、光学的膜
厚は、それぞれ400nmおよび160nmであった。
第2図に示されたと同様に、プラスチック基板上に第1
層として使用波長B’o o n mに対して屈折率1
.7、光学的膜厚4’OOn’mの一酸化ケイ素膜9a
、第2層として屈折率が、それぞれ1.90.1.45
及び1.9であり、かつ光学的膜厚が、それぞれ200
nm、200nm及び160nmの二酸化ジルコニウム
膜2 b %二酸化ケイ素膜2C及び二酸化ジルコニウ
ム膜2dからなる8層交互層を 8− 形成して光磁気記録媒体を形成した。
層として使用波長B’o o n mに対して屈折率1
.7、光学的膜厚4’OOn’mの一酸化ケイ素膜9a
、第2層として屈折率が、それぞれ1.90.1.45
及び1.9であり、かつ光学的膜厚が、それぞれ200
nm、200nm及び160nmの二酸化ジルコニウム
膜2 b %二酸化ケイ素膜2C及び二酸化ジルコニウ
ム膜2dからなる8層交互層を 8− 形成して光磁気記録媒体を形成した。
上記の光磁気記録媒体の分光反射率曲線を第8図にそれ
ぞれ81および82として示した。反射防止膜がない場
合には記録磁性層からの反射率およびカー回転角は、そ
れぞれ約45係および約0/4度アあり書き込み効率お
よび読み出し効率ともに満足すべきものではないが、上
記のように、反射防止膜を設けることによシ、使用波長
約800nmでの反射率は、それぞれ約28q6および
約11%であって、書き込み効率および読み出し効率と
もに満足すべきものであった。
ぞれ81および82として示した。反射防止膜がない場
合には記録磁性層からの反射率およびカー回転角は、そ
れぞれ約45係および約0/4度アあり書き込み効率お
よび読み出し効率ともに満足すべきものではないが、上
記のように、反射防止膜を設けることによシ、使用波長
約800nmでの反射率は、それぞれ約28q6および
約11%であって、書き込み効率および読み出し効率と
もに満足すべきものであった。
実施例2
第2層の高屈折率として二酸化ジルコニウム膜の代りに
五酸化タンタル膜を用いた以外は実施例1と同様にして
光磁気記録媒体を得た。これらの記録媒体は第4図に4
1および42で示された分光反射率を示した。
五酸化タンタル膜を用いた以外は実施例1と同様にして
光磁気記録媒体を得た。これらの記録媒体は第4図に4
1および42で示された分光反射率を示した。
この曲線+i、42から明らかなように使用波長約80
0nmでの反射率は約26係および7係であシ書き込み
、読み出し効率は良好であった。
0nmでの反射率は約26係および7係であシ書き込み
、読み出し効率は良好であった。
実施例8
第2層の高屈折率膜に代えて二酸化ジルコニウムに代え
て丘陵ニオブ膜を用いた以外は実施例1と同様にして光
磁気記録媒体を得た。これらの記録媒体は第5図に51
及び52で示された分光反射率を示した。この曲線51
.52から明らかなように、使用波長約800nmでの
反射率は約28係および5係以下であり書き込み、読み
出し効率は良好であった。
て丘陵ニオブ膜を用いた以外は実施例1と同様にして光
磁気記録媒体を得た。これらの記録媒体は第5図に51
及び52で示された分光反射率を示した。この曲線51
.52から明らかなように、使用波長約800nmでの
反射率は約28係および5係以下であり書き込み、読み
出し効率は良好であった。
第1図および第2図は本発明の光磁気記録媒体の実施態
様を示すだめの模式図である。第3図〜第5図は本発明
の各実施態様における分光反射率曲線を示す。 la、lb・・・ガラス又はプラスチック基板9a、
2b、 2c、 2a・・・反射防止層を構成する各膜
8・・・記録磁性層 4・・・保護層 5・・・接着層 11− 第1図 第2図 (olo)ψ+gY (olo)*拷!
様を示すだめの模式図である。第3図〜第5図は本発明
の各実施態様における分光反射率曲線を示す。 la、lb・・・ガラス又はプラスチック基板9a、
2b、 2c、 2a・・・反射防止層を構成する各膜
8・・・記録磁性層 4・・・保護層 5・・・接着層 11− 第1図 第2図 (olo)ψ+gY (olo)*拷!
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、書き込み側ガラス基板若しくはプラスチック基板と
記録磁性層との間に反射防止層を設けてなる光磁気記録
媒体において、上記反射防止層が、上記基板側から第1
層として設けられた一酸化ケイ素膜又は二酸化ケイ素膜
、及び第2層として設けられた屈折率が17以上の高屈
折率単層膜又は低屈折率膜として二酸化ケイ素暎を用い
る、高屈折率膜−低屈折率膜−高屈折率膜の8層膜から
なることを特徴とする光磁気記録媒体。 2、前記高屈折率膜が一酸化ケイ素膜、二酸化ジルコニ
ウム膜、五酸化タンタル膜若しくは五酸□化ニオブ膜で
ある特許請求の範囲第1項記載の記録媒体。 3、前記第1層の一酸化ケイ素膜又は二酸化ケイ素膜が
書き込み光又は読み出し光のl/2波長の整数倍に相当
する光学的膜厚を有する特許請求の範囲第1項記載の記
録媒体。 4、前記第2層の各反射防止膜が書き込み光又は読み出
し光の1/4波長に相当する光学的膜厚を有する特許請
求の範囲第1項記載の記録媒体。 5、前記記録磁性層がGa Tb Fe Co j元系
非晶質合金薄膜である特許請求の範囲第1項記載の記録
媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP474984A JPS60150250A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP474984A JPS60150250A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60150250A true JPS60150250A (ja) | 1985-08-07 |
Family
ID=11592554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP474984A Pending JPS60150250A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60150250A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6129435A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-02-10 | Olympus Optical Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
JPS61170939A (ja) * | 1985-01-24 | 1986-08-01 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体 |
JPS63285738A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-22 | Canon Inc | 光学的磁気記録媒体 |
US5411731A (en) * | 1992-07-21 | 1995-05-02 | Kao Corporation | Bath additive composition comprising aluminum salt and carbonate or bicarbonate which yields a bath water of pH 8 to 9 |
-
1984
- 1984-01-17 JP JP474984A patent/JPS60150250A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6129435A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-02-10 | Olympus Optical Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
JPS61170939A (ja) * | 1985-01-24 | 1986-08-01 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体 |
JPS63285738A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-22 | Canon Inc | 光学的磁気記録媒体 |
US5411731A (en) * | 1992-07-21 | 1995-05-02 | Kao Corporation | Bath additive composition comprising aluminum salt and carbonate or bicarbonate which yields a bath water of pH 8 to 9 |
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