JPS60147440A - 芳香族ポリアミド−ポリイミドブロツク共重合体に変換しうる組成物 - Google Patents
芳香族ポリアミド−ポリイミドブロツク共重合体に変換しうる組成物Info
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- JPS60147440A JPS60147440A JP131984A JP131984A JPS60147440A JP S60147440 A JPS60147440 A JP S60147440A JP 131984 A JP131984 A JP 131984A JP 131984 A JP131984 A JP 131984A JP S60147440 A JPS60147440 A JP S60147440A
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- acid
- polyamide
- block copolymer
- aromatic polyamide
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸シバライ
ドとを反応させて得られる芳香族ポリアミドと芳香族シ
アはンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させ
て得られる芳香族ポリアミド酸とを共重合させて得られ
る芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重合体の
有機溶剤溶液および酸無水物からなる貯蔵安定性が良好
で、比較的低温において速やかに芳香族ボリアミド−ポ
リイミドブロック共重合体に変換しうる組成物に関する
。
ドとを反応させて得られる芳香族ポリアミドと芳香族シ
アはンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させ
て得られる芳香族ポリアミド酸とを共重合させて得られ
る芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重合体の
有機溶剤溶液および酸無水物からなる貯蔵安定性が良好
で、比較的低温において速やかに芳香族ボリアミド−ポ
リイミドブロック共重合体に変換しうる組成物に関する
。
従来ボリアイド−ポリイミドブロック共重合体は優れた
耐熱性、耐アルカリ性、電気絶縁性および機械的強度を
有し、電線被榎材、銅張積層板等の電気絶縁材料として
使用されている。しかし、ポリアミド−ポリイミドブロ
ック共重合体は、有機溶剤不溶でありまた不溶融性のた
め、中間体であるポリアミド−ポリアミド酸ブロック共
1合体溶液の状態でワニスとして電線被梳等の加工操作
に供した後、脱水閉環してポリアミド−ポリイミドブロ
ック共重合体に変換する方法が採用されている。しかし
、脱水閉環に際しては高温で長時間の加熱が必須であシ
、また急激な加熱は発泡現象を起こす等の作業上の大き
な欠点を有している。
耐熱性、耐アルカリ性、電気絶縁性および機械的強度を
有し、電線被榎材、銅張積層板等の電気絶縁材料として
使用されている。しかし、ポリアミド−ポリイミドブロ
ック共重合体は、有機溶剤不溶でありまた不溶融性のた
め、中間体であるポリアミド−ポリアミド酸ブロック共
1合体溶液の状態でワニスとして電線被梳等の加工操作
に供した後、脱水閉環してポリアミド−ポリイミドブロ
ック共重合体に変換する方法が採用されている。しかし
、脱水閉環に際しては高温で長時間の加熱が必須であシ
、また急激な加熱は発泡現象を起こす等の作業上の大き
な欠点を有している。
本発明者らは前記の欠点を克服すべく鋭意検削を行なっ
た結果、芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重
合体溶液に脱水剤を加えた溶液が比較的低温においても
容易に芳香族ポリアミド−ポリイミドブロック共重合体
に変換しうる安定な溶液であることを見い出し、本発明
に到達したものである。
た結果、芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重
合体溶液に脱水剤を加えた溶液が比較的低温においても
容易に芳香族ポリアミド−ポリイミドブロック共重合体
に変換しうる安定な溶液であることを見い出し、本発明
に到達したものである。
すなわち、本発明の芳香族ポリアミド−ポリイミドブロ
ック共重合体に変換しうる組成物は、芳香族ポリアミド
−ポリアミド酸ブロック共重合溶液に脱水剤として酸無
水物を加えたものであり、塗布、印刷あるいは含浸など
の操作の後イミド化、脱溶剤によシ良好な耐熱性の塗膜
、1LL気絶縁物等が提供される。
ック共重合体に変換しうる組成物は、芳香族ポリアミド
−ポリアミド酸ブロック共重合溶液に脱水剤として酸無
水物を加えたものであり、塗布、印刷あるいは含浸など
の操作の後イミド化、脱溶剤によシ良好な耐熱性の塗膜
、1LL気絶縁物等が提供される。
本発明に言う芳香族ポリアミド−ボリアばド酸ブロック
共重合体とは、(A)芳香族ジアミンと芳香族ジカルボ
ン酸シバライド化合物とを反応させて得られる末端アミ
ン基を有する芳香族ポリアミドおよび(B)芳香族テト
ラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを反応させて
得られる末端カルボン酸無水物基を有する芳香族ポリア
ミド酸を共重合させるか、または、(C)芳香族ジアミ
ンと芳香族ジカルボン酸シバライド化合物とを共重合さ
せて得られる末端カルボン酸ハライド基を有する芳香族
ポリアミドおよび(D)芳香族テトラカルボン酸二無水
物と芳香族ジアミンとを反応させて得られる末端アミン
基を有する芳香族ポーリアミド酸を共重合させて得られ
るものである。
共重合体とは、(A)芳香族ジアミンと芳香族ジカルボ
ン酸シバライド化合物とを反応させて得られる末端アミ
ン基を有する芳香族ポリアミドおよび(B)芳香族テト
ラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを反応させて
得られる末端カルボン酸無水物基を有する芳香族ポリア
ミド酸を共重合させるか、または、(C)芳香族ジアミ
ンと芳香族ジカルボン酸シバライド化合物とを共重合さ
せて得られる末端カルボン酸ハライド基を有する芳香族
ポリアミドおよび(D)芳香族テトラカルボン酸二無水
物と芳香族ジアミンとを反応させて得られる末端アミン
基を有する芳香族ポーリアミド酸を共重合させて得られ
るものである。
重合に供する芳香族ジアミン化合物は、一般式%式%)
(式中Aは無麓換もしくは置換基を有するフェニレン基
、ナフチレン基、アントリレン基または架 r橋員によ
多連結された多環式芳香族基を示す。)で表わされるも
ので、例えば0−、In−またはp−フェニレンジアミ
ン、3.5’−または4.4′−ジアミノジフェニルベ
ンゾフェノン、5.6’−またハ4゜4′−ジアミノジ
フェニルエーテル等があげられる。
、ナフチレン基、アントリレン基または架 r橋員によ
多連結された多環式芳香族基を示す。)で表わされるも
ので、例えば0−、In−またはp−フェニレンジアミ
ン、3.5’−または4.4′−ジアミノジフェニルベ
ンゾフェノン、5.6’−またハ4゜4′−ジアミノジ
フェニルエーテル等があげられる。
芳香族ジカルボン酸ジノ・ライド化合物は1.一般式
または架橋員によ多連結された二環式芳香族基を示す)
で表わされるものであり−、例えばイソフタル酸ジクロ
ライド、テレフタル酸ジクロライド、1.4−ナフタリ
ンジカルボン酸ジクロライド、4゜l−ジフェニルエー
テルジカルボン酸ジクロライド等があげられる。
で表わされるものであり−、例えばイソフタル酸ジクロ
ライド、テレフタル酸ジクロライド、1.4−ナフタリ
ンジカルボン酸ジクロライド、4゜l−ジフェニルエー
テルジカルボン酸ジクロライド等があげられる。
芳香族テトラカルボン酸無水物とは、一般式(式中、A
rは四価のフェニレン基、または架橋員によ多連結され
た四価の二環式フェニレン基を示す)で表わされるもの
であシ、例えば、無水ピロメリット酸、’+ (’+
”−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等がある。
rは四価のフェニレン基、または架橋員によ多連結され
た四価の二環式フェニレン基を示す)で表わされるもの
であシ、例えば、無水ピロメリット酸、’+ (’+
”−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等がある。
本発明における芳香族ポリアミドは、前記芳香族ジアミ
ンと芳香族ジカルボン酸ジノ・ライドとを公知の方法で
重合させて得られるものである。重合に際して芳香族ジ
アミンと芳香族ジカルボン酸シバライドとのモル比を調
節することによシ、任意の理論平均分子量を有する末端
酸)・ライドまたは末端アミンの芳香族ポリアミドを得
ることができる。
ンと芳香族ジカルボン酸ジノ・ライドとを公知の方法で
重合させて得られるものである。重合に際して芳香族ジ
アミンと芳香族ジカルボン酸シバライドとのモル比を調
節することによシ、任意の理論平均分子量を有する末端
酸)・ライドまたは末端アミンの芳香族ポリアミドを得
ることができる。
芳香族ポリアミド酸は、同じく前記の芳香族ジアミンと
芳香族テトラカルボン酸無水物とを公知の方法で重合さ
せて得られる。重合に際して芳香族ジアミンと芳香族テ
トラカルボン酸無水物とのモル比を調節することにより
、任意の理論平均分子量を有する末端酸無水物または末
端アミンの芳香族ポリアミド酸を得ることができる。
芳香族テトラカルボン酸無水物とを公知の方法で重合さ
せて得られる。重合に際して芳香族ジアミンと芳香族テ
トラカルボン酸無水物とのモル比を調節することにより
、任意の理論平均分子量を有する末端酸無水物または末
端アミンの芳香族ポリアミド酸を得ることができる。
得られた芳香族ポリアミド含有の反応溶液を脱塩酸剤と
処理したのち、別途得られた芳香族ポリアミド酸含有の
反応溶液に加えて、芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブ
ロック共重合体を合成する。
処理したのち、別途得られた芳香族ポリアミド酸含有の
反応溶液に加えて、芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブ
ロック共重合体を合成する。
この合成は通常芳香族ポリアミド−ポリアミド酸溶解性
の有機溶剤中で行なわれる。
の有機溶剤中で行なわれる。
適当な有機溶剤としては、N、N’−ジメチルアセトア
ミド、N、l/−ジエチルアセトアミド、N、N’−ジ
メチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルスルホキシド等があげられ、得られた芳香・族ポ
リアミドーポリアミド酸の前記溶剤溶液はそのまま、あ
るいは貧溶剤で重合体を析出させ、乾燥したものを再び
前記溶剤に溶解して使用する。
ミド、N、l/−ジエチルアセトアミド、N、N’−ジ
メチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルスルホキシド等があげられ、得られた芳香・族ポ
リアミドーポリアミド酸の前記溶剤溶液はそのまま、あ
るいは貧溶剤で重合体を析出させ、乾燥したものを再び
前記溶剤に溶解して使用する。
脱水剤として使用する酸無水物としては、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水安息香酸またはジシクロへキシル
カルボジイミド等があげられる。
水プロピオン酸、無水安息香酸またはジシクロへキシル
カルボジイミド等があげられる。
これらの酸無水物は芳香族ポリアミド−ポリアミド酸中
に存在するカルボキシル基に対して20〜120%当量
、特に好ましくは60〜90%当量の範囲で使用される
。これらの酸無水物は20チ当量以下でも使用しうるが
、その場合は、比較的低温で速やかにイミド化し非流動
性の塗膜を生ずるという本発明の効果が発揮しにくい。
に存在するカルボキシル基に対して20〜120%当量
、特に好ましくは60〜90%当量の範囲で使用される
。これらの酸無水物は20チ当量以下でも使用しうるが
、その場合は、比較的低温で速やかにイミド化し非流動
性の塗膜を生ずるという本発明の効果が発揮しにくい。
また、120−当量以上添加するとポリマー溶液が不安
定となシ、保存安定性が不良となり、また、部分的にゲ
ル化物が発生するので好ましくない。
定となシ、保存安定性が不良となり、また、部分的にゲ
ル化物が発生するので好ましくない。
脱水反応を進めるため触媒を使用することもでき、その
場合に用いる触媒としては、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリーn−ブチルアミンのような脂肪族第
6級アミン、ピリジン、α−ヒコリン、β−ピコリン、
γ−ピコリン、ルチジンのような複素環式芳香族第6級
アミン等があけられる。触媒を用いる場合は芳香族ポリ
アミド−ポリアミド酸中に存在するカルボキシル基に対
して10〜120チ当量好ましくは20〜100チ当量
の範囲で用いることが好ましい。
場合に用いる触媒としては、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリーn−ブチルアミンのような脂肪族第
6級アミン、ピリジン、α−ヒコリン、β−ピコリン、
γ−ピコリン、ルチジンのような複素環式芳香族第6級
アミン等があけられる。触媒を用いる場合は芳香族ポリ
アミド−ポリアミド酸中に存在するカルボキシル基に対
して10〜120チ当量好ましくは20〜100チ当量
の範囲で用いることが好ましい。
前記酸無水物は芳香族ポリアミド−ポリアミド酸溶液に
添加混合するか、あるいは芳香族ボリア<)”−、I−
’IJ7°)” #”J g’eJIOm ml f*
¥RL 1fB ;/I+] 。
添加混合するか、あるいは芳香族ボリア<)”−、I−
’IJ7°)” #”J g’eJIOm ml f*
¥RL 1fB ;/I+] 。
混合する。
添加混合は室温または室温以下で行なうことがポリマー
の安定性の面から好ましい。′−1,た得られたフェノ
の保存も室温以下で行なうことが好ましい。
の安定性の面から好ましい。′−1,た得られたフェノ
の保存も室温以下で行なうことが好ましい。
また、ワニス中のポリマー分としては、5〜30wt%
、特に7〜254%の範囲にあるように調節しておくこ
とが望ましい。
、特に7〜254%の範囲にあるように調節しておくこ
とが望ましい。
得られたポリアミド−ポリアミド酸共重合体および酸無
水物を含んだ溶液は通常用いられる方法によシ、電線被
覆材、積層品、塗料、層間絶縁膜、絶縁テープ、液晶配
向剤、接着剤等に使用することができ、良好な電気的特
性、機械的強度、耐熱性、液晶配向性等が得られる。
水物を含んだ溶液は通常用いられる方法によシ、電線被
覆材、積層品、塗料、層間絶縁膜、絶縁テープ、液晶配
向剤、接着剤等に使用することができ、良好な電気的特
性、機械的強度、耐熱性、液晶配向性等が得られる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
〔芳香族ポリアミド−ポリアミド酸溶液の製造〕A、末
端アミン基を有する芳香族ポリアミドの製造 4.4’−シ’7 /ジフェニルエーテル6135 r
(On642モル)を、攪拌器、内部温度網1滴下漏
斗および窒素流入管を取シ付けた反応器中で、無水のN
、 N’−ジメチルアセトアミド40rに完全に溶解し
た。冷媒ジャケットにて反応器内温を一5〜o℃に冷却
しつつ窒素雰囲気下、固体状のイソフタル酸ジクロリド
2.46 t ’(0,0121モル)とテレフタル酸
ジクロリド246 g″(0,0121モル)の混合物
を上記溶液に少しづつ添加した。添加終了後、粘調な反
応液を10℃に加温し、更に1時間攪拌した。
端アミン基を有する芳香族ポリアミドの製造 4.4’−シ’7 /ジフェニルエーテル6135 r
(On642モル)を、攪拌器、内部温度網1滴下漏
斗および窒素流入管を取シ付けた反応器中で、無水のN
、 N’−ジメチルアセトアミド40rに完全に溶解し
た。冷媒ジャケットにて反応器内温を一5〜o℃に冷却
しつつ窒素雰囲気下、固体状のイソフタル酸ジクロリド
2.46 t ’(0,0121モル)とテレフタル酸
ジクロリド246 g″(0,0121モル)の混合物
を上記溶液に少しづつ添加した。添加終了後、粘調な反
応液を10℃に加温し、更に1時間攪拌した。
次にこの反応液に、プロピレンオキシド5.09 r(
0,0562モル)を無水のN、 N’−ジメチルアセ
トアミド62で希釈したものを、反応液の温度を5〜1
0℃に保ちながら、徐々に滴下した。滴下終了後、反応
液を5〜10℃にて1時間撹拌し、末端アミン基を有す
る理論計算値による平均分子量が1、000のポリアミ
ドを得た。
0,0562モル)を無水のN、 N’−ジメチルアセ
トアミド62で希釈したものを、反応液の温度を5〜1
0℃に保ちながら、徐々に滴下した。滴下終了後、反応
液を5〜10℃にて1時間撹拌し、末端アミン基を有す
る理論計算値による平均分子量が1、000のポリアミ
ドを得た。
B、末端カルボン酸無水物基を有する芳香族ポリアミド
酸の製造 上記Aと同様の反応装置中で、無水ピロメリット酸27
.1 t (0,124モル)を無水のN、 N’−ジ
メチルアセトアミド41グに懸濁させた。4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル22B P (0,114モ
ル)ヲ無水のN、イージメチルアセトアミド92yに溶
j!l’liした溶液を窒素雰囲気下5〜20℃で滴下
した。
酸の製造 上記Aと同様の反応装置中で、無水ピロメリット酸27
.1 t (0,124モル)を無水のN、 N’−ジ
メチルアセトアミド41グに懸濁させた。4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル22B P (0,114モ
ル)ヲ無水のN、イージメチルアセトアミド92yに溶
j!l’liした溶液を窒素雰囲気下5〜20℃で滴下
した。
ジアミン溶液の75俤を滴下した時点でN、N’−ジメ
チルアセトアミド677を添加した。滴下終了後さらに
20℃で1時間撹拌し、末端カルボン酸無水物基を有す
る理論計算値による平均分子量が5.000の芳香族ポ
リアミド酸を得た。
チルアセトアミド677を添加した。滴下終了後さらに
20℃で1時間撹拌し、末端カルボン酸無水物基を有す
る理論計算値による平均分子量が5.000の芳香族ポ
リアミド酸を得た。
C1芳香族ボリアεドーボリアミド酸ブロツク共重合体
の製造 Aによシ得られた末端アミン基を有するポリアミド溶液
を、Bによシ得られた末端酸無水物基を有するポリアミ
ド酸溶液に添加した。さらにN、 N’−ジメチルアセ
トアミド891を添加し、20℃で2時間攪拌し、固有
粘度(35℃、0.5f7100m/、溶媒N、 N’
−ジメチルアセトアミドで測定)ηinhが1.62
d I/ffであるポリアミド−ポリアミド酸ブロック
共重合体を15重鼠チ含む粘調溶液を得た。
の製造 Aによシ得られた末端アミン基を有するポリアミド溶液
を、Bによシ得られた末端酸無水物基を有するポリアミ
ド酸溶液に添加した。さらにN、 N’−ジメチルアセ
トアミド891を添加し、20℃で2時間攪拌し、固有
粘度(35℃、0.5f7100m/、溶媒N、 N’
−ジメチルアセトアミドで測定)ηinhが1.62
d I/ffであるポリアミド−ポリアミド酸ブロック
共重合体を15重鼠チ含む粘調溶液を得た。
D、酸無水物の添加
得られたポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重合体溶
液100fに無水酢酸3.9 r (0,0382モル
)をN、 N’−ジメチルアセトアミド10fに溶かし
た均一な溶液を窒素雰囲気下、5〜10℃で撹拌しなか
ら滴下した。滴下終了後、さらに30分間攪拌を続け、
均一な溶液を得た。
液100fに無水酢酸3.9 r (0,0382モル
)をN、 N’−ジメチルアセトアミド10fに溶かし
た均一な溶液を窒素雰囲気下、5〜10℃で撹拌しなか
ら滴下した。滴下終了後、さらに30分間攪拌を続け、
均一な溶液を得た。
得られた溶液は室温において一週間以上も安定であった
。
。
E、得られたワニスの評価
得られたワニスをガラス布(厚さo18tnm )に含
浸させ110℃で10分間さらに140℃で10分間乾
燥してプリプレグを得た。このプリプレグシート9枚を
重ね、その上に銅箔を1枚置きプレス圧40に97cm
として、80℃から200℃まで昇温、加熱し、さらに
200℃にて1時間加熱して銅張シ積層板を得た。さら
にこの積層板を220℃のオーブン中で5時間アフター
キュアーを行なった。
浸させ110℃で10分間さらに140℃で10分間乾
燥してプリプレグを得た。このプリプレグシート9枚を
重ね、その上に銅箔を1枚置きプレス圧40に97cm
として、80℃から200℃まで昇温、加熱し、さらに
200℃にて1時間加熱して銅張シ積層板を得た。さら
にこの積層板を220℃のオーブン中で5時間アフター
キュアーを行なった。
得られた銅張シ積層板の曲げ強度は、室温で5DKg/
mm、銅箔剥離強度はtao Ky/cmであった。
r比較例1 実施例1のポリアミド−ポリアミド酸溶液に酸無水物を
加えることなくそのままワニスとして用いた。
mm、銅箔剥離強度はtao Ky/cmであった。
r比較例1 実施例1のポリアミド−ポリアミド酸溶液に酸無水物を
加えることなくそのままワニスとして用いた。
実施例1と同様の条件で処理して銅張シ積層板を得た。
得ら−れた銅張シ積層板の曲げ強度は室温で41にグ/
朋、銅箔剥離強度は1.22 Kg / cntであり
、充分な強度を得ることができなかった。
朋、銅箔剥離強度は1.22 Kg / cntであり
、充分な強度を得ることができなかった。
参考例
実施例1Bの芳香族ポリアミド酸を合成する方法と同様
の方法で、ピロメリット酸無水物2181f、(o、i
oモル)と4,4′−ジアミノジフェニルエーテル20
0グ(0,10モル)より芳香族ポリアミド酸を合成し
た( ηi nh = 175 dll/f/ ) 。
の方法で、ピロメリット酸無水物2181f、(o、i
oモル)と4,4′−ジアミノジフェニルエーテル20
0グ(0,10モル)より芳香族ポリアミド酸を合成し
た( ηi nh = 175 dll/f/ ) 。
得られた芳香族ポリアミド酸1002(ポリマー分15
%)に無水酢酸4.401i’ (011431モル)
をN、 N’−ジメチルアセトアミド10.6S’に溶
かして添加混合した。
%)に無水酢酸4.401i’ (011431モル)
をN、 N’−ジメチルアセトアミド10.6S’に溶
かして添加混合した。
このポリマー溶液は室温5時間放置後には流動性の全く
ないゲル状となシワニスとして使用できなかった。
ないゲル状となシワニスとして使用できなかった。
実施例2
実施例1と同様の方法で、4.4’−ジアミノジフェニ
ルエーテルとインフタル酸ジクロリドから理論計算平均
分子量3,000の末端アミン基を有する芳香族ポリア
ミドと4,4′−ジアミノジフェニルエーテルへ 3.
< 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物から得られた理論計算平均分子量3.000の末端カ
ルボン酸無水物基を有する芳香族ポリアミド酸を合成し
た。引き続きポリアミドをポリアミド酸に添加してポリ
マー濃度15チの芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブロ
ック共重合体溶液を得た。
ルエーテルとインフタル酸ジクロリドから理論計算平均
分子量3,000の末端アミン基を有する芳香族ポリア
ミドと4,4′−ジアミノジフェニルエーテルへ 3.
< 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物から得られた理論計算平均分子量3.000の末端カ
ルボン酸無水物基を有する芳香族ポリアミド酸を合成し
た。引き続きポリアミドをポリアミド酸に添加してポリ
マー濃度15チの芳香族ポリアミド−ポリアミド酸ブロ
ック共重合体溶液を得た。
更に実施例1と同様に、芳香族ポリアミド−ポリアミド
酸ブロック共重合体溶液1002に、無水酢酸1.94
F (0,019モル)とβ−ピコリフ1.77 F
(0,019モル)をN、 N’−ジメチルアセトアミ
ドロ、2fに溶かしたものを添加して淡黄色粘調な溶液
を得た。
酸ブロック共重合体溶液1002に、無水酢酸1.94
F (0,019モル)とβ−ピコリフ1.77 F
(0,019モル)をN、 N’−ジメチルアセトアミ
ドロ、2fに溶かしたものを添加して淡黄色粘調な溶液
を得た。
このワニスを用いて実施例1と同様の方法で製作した銅
張シ積層板の曲げ強度は49Ky/dz銅箔剥離強度は
1.44 Kり/ cmであった。
張シ積層板の曲げ強度は49Ky/dz銅箔剥離強度は
1.44 Kり/ cmであった。
実施例6
実施例2で得られたフェノを用いてエポキシ積層回路基
板上にソルダーレジストとじてスクリーン印刷した。
板上にソルダーレジストとじてスクリーン印刷した。
得られた基板を70℃/ 50 zl++、、11g−
CI 11.5間、120℃/ 50m1gで2時間、
150℃/ 20 mm(gで2時間、更に220℃/
10−” rnmHgで4時間乾燥した。
CI 11.5間、120℃/ 50m1gで2時間、
150℃/ 20 mm(gで2時間、更に220℃/
10−” rnmHgで4時間乾燥した。
得られた回路基板は優れた絶縁性、而・[熱性を示した
。
。
特許出願人
三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 1、 (A)芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸シバ
ライド化合物とを反応させて得られる末端アミン基を有
する芳香族ポリアミドおよび(B)芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物と芳香族ジアミンとを反応させて得られる
末端カルボン酸無水物基を有する芳香族ポリアミド酸を
共重合させるか、または(C)芳香族ジアミンと芳香族
ジカルボン酸シバライド化合物とを反応させて得られる
末端カルボン酸ハライド基を有する芳香族ポリアミドお
よび(D)芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジ
アミンとを反応させて得られる末端アミン基を有する芳
香族ポリアミド酸を共重合させて得られる芳香族ポリア
ミド−ポリアミド酸ブロック共重合体の有機溶剤溶液お
よび酸無水物からなる芳香族ポリアミド−ポリイミドブ
ロック共重合体に変換しうる組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP131984A JPS60147440A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 芳香族ポリアミド−ポリイミドブロツク共重合体に変換しうる組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP131984A JPS60147440A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 芳香族ポリアミド−ポリイミドブロツク共重合体に変換しうる組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60147440A true JPS60147440A (ja) | 1985-08-03 |
Family
ID=11498168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP131984A Pending JPS60147440A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 芳香族ポリアミド−ポリイミドブロツク共重合体に変換しうる組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60147440A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01193322A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-08-03 | General Electric Co <Ge> | アミド−イミド共重合体及びその製造法 |
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-
1984
- 1984-01-10 JP JP131984A patent/JPS60147440A/ja active Pending
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