JPS60147435A - スルホポリエステル含有感光性重合体 - Google Patents
スルホポリエステル含有感光性重合体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
スルホポリエステル含有感光性重合体
技術分野
本発明はエネルギーにさらされたとき水および有機溶媒
不溶性重合体に変わるスルホポリオールまたはスルホポ
リアミンのエチレン性不飽和誘導体である水および有機
溶媒可溶性化合物に関する。
不溶性重合体に変わるスルホポリオールまたはスルホポ
リアミンのエチレン性不飽和誘導体である水および有機
溶媒可溶性化合物に関する。
もう一つの面において、本発明は水および醍媒可溶性ス
ルホ化合物の層を有する基材に関するものである。更に
もう一つの面において、本発明はスルホ化合物の重合体
の層を有する基材に関する。
ルホ化合物の層を有する基材に関するものである。更に
もう一つの面において、本発明はスルホ化合物の重合体
の層を有する基材に関する。
背景となる技術
熱または放射線にさらされたとき不溶性樹脂に硬化し５
る水容性ポリエステルは公知である。米国特許第２，８
４５，４０２号明細書は、触媒存在下で加熱すると不溶
性樹脂に硬化し、ポリアルキレ □ンオキシドボリオー
ルとジカルボン酸との反応生成物であるポリエステルを
発表している。米国特許第４，０７５，７７７号明細書
は、放射線にさらされたとき水不溶性樹脂に僑かげ結合
する、（１）少なくとも１種のジカルぜン酸、（２）少
なくとも１種のグリコール、（３）反応生成物に水分散
性を与えるのに十分なスルホ芳香族ジカルボン酸、ジヒ
ドロキシまたはジアミノ化合物、−および（４）不飽和
モノまたはゾカルざン酸の反応生成物であるポリエステ
ルおよびポリエステルアミドを発表している。このよう
な反応生成物においては、重合可能な不飽和基が重合体
主鎖に存在し末端基には存在しない。
る水容性ポリエステルは公知である。米国特許第２，８
４５，４０２号明細書は、触媒存在下で加熱すると不溶
性樹脂に硬化し、ポリアルキレ □ンオキシドボリオー
ルとジカルボン酸との反応生成物であるポリエステルを
発表している。米国特許第４，０７５，７７７号明細書
は、放射線にさらされたとき水不溶性樹脂に僑かげ結合
する、（１）少なくとも１種のジカルぜン酸、（２）少
なくとも１種のグリコール、（３）反応生成物に水分散
性を与えるのに十分なスルホ芳香族ジカルボン酸、ジヒ
ドロキシまたはジアミノ化合物、−および（４）不飽和
モノまたはゾカルざン酸の反応生成物であるポリエステ
ルおよびポリエステルアミドを発表している。このよう
な反応生成物においては、重合可能な不飽和基が重合体
主鎖に存在し末端基には存在しない。
引例の特許明細書に記載された水溶性ポリエステルは、
活性線にさらされると水不溶性の樹脂に変換しうるが、
不飽和反応体を約２７０°Ｃの温度に長時間加熱するこ
とを必要とする高温反応によりつくられる高分子量化合
物である。このような高分子量化合物は高い融解粘性を
有し、これが化合物の取扱いに遭遇する難点につけ加わ
る。また、これらの製造に要求される厳しい長時間の加
熱の故に、そのエチレン性不飽和は常に存続するとは限
らない。
活性線にさらされると水不溶性の樹脂に変換しうるが、
不飽和反応体を約２７０°Ｃの温度に長時間加熱するこ
とを必要とする高温反応によりつくられる高分子量化合
物である。このような高分子量化合物は高い融解粘性を
有し、これが化合物の取扱いに遭遇する難点につけ加わ
る。また、これらの製造に要求される厳しい長時間の加
熱の故に、そのエチレン性不飽和は常に存続するとは限
らない。
発明の要約
本発明は親水性、溶媒可鋳性（即ち、水および有機溶媒
の両方に可溶）が、活性線にさらされると溶媒不溶性（
即ち、水、有機溶媒、または水と有機溶媒との混合物に
溶解しない）で、幾つかの例においては疎水性である重
合体に容易に変換される、低分子量（即ち、６５００未
満）、フィルム形成性、重合可能なエチレン性不飽和ス
ルホ化合物を提供するものである。手短かに言えば、ス
ルホ化合物は１モルのスルホジカルボン酸と２モルの脂
肪族ポリエーテル−またはポリエステル−ポリオールま
たはポリアミン（１０００未満の分子量および２から４
個の水酸基またはアミン基を有する）との反応生成物か
らなるポリ（エチレン性不飽和エステルまたはアミド）
であり、２・このスルホ化合物は２から１８個のエチレ
ン性不飽和官能基とエチレン性不飽和官能基１個当り２
５００未満の当量を有する。
の両方に可溶）が、活性線にさらされると溶媒不溶性（
即ち、水、有機溶媒、または水と有機溶媒との混合物に
溶解しない）で、幾つかの例においては疎水性である重
合体に容易に変換される、低分子量（即ち、６５００未
満）、フィルム形成性、重合可能なエチレン性不飽和ス
ルホ化合物を提供するものである。手短かに言えば、ス
ルホ化合物は１モルのスルホジカルボン酸と２モルの脂
肪族ポリエーテル−またはポリエステル−ポリオールま
たはポリアミン（１０００未満の分子量および２から４
個の水酸基またはアミン基を有する）との反応生成物か
らなるポリ（エチレン性不飽和エステルまたはアミド）
であり、２・このスルホ化合物は２から１８個のエチレ
ン性不飽和官能基とエチレン性不飽和官能基１個当り２
５００未満の当量を有する。
１゜
イ）スルホジカルボン酸１モルおよび
口）脂肪族ポリオールまたはポリアミン（即ち、２個ま
たはそれ以上の水酸基またはアミン基が付く構造が、０
から２２個の一〇一原子と１ ０から８個の −０Ｃ−基により隔てられた２から１２
個の −ＣＨ２−基を単位として約５５個までの炭素原
子の飽和直鎖である）約２モル（例えば、１．９５から
２．０５モル）〔このポリオールおよびポリアミンは１
０００未満の ７分子量と（０＋１）個の水酸基または
アミン基を有する（Ｃは１．２、または３の整数である
）〕 、、の反応生成物であるスルホポリオールまたはスルホ
ポリアミン；および ２、イ）、口）、またはハ）のいずれか２０モル〔ただ
し、 イ）は （１） アクリル酸およびメタクリル酸（これらのエス
テルおよび酸ハロゲン化物ヲ含めて）：（ＩＩ）式 （式中、 Ｒは水素またはメチルであり、 Ｒ１ハ共共有台、−”２− １ タ＆！ −０Ｈ２０Ｈ
２−であり、 Ｒ２およびＲ３は独立して水素またはメチルである） を有する２−アルケニルアズラクトン；および （ＩＩ＋）式 ％式％ （式中、 Ｒ４は共有結合、−０Ｈ２−１−００−Ｒ５−１（式中
、 Ｒ５は任意に１個の非拳酸化物、鎖状 酸素原子または −〇ＮＨ基を含む１から−１２炭素原
子の直鎖または分枝鎖であり、あるいはｌは１から４炭
素原子 を有する低級アルキル基によって任意 に置換された５−員または６−員炭素 □ 環式基でこの誕素環式基は計１２炭素原子までを有
し、そして Ｒ６は２から１２炭素原子ン有する直 鎖または分校アルキレン基、シクロペ ンタメチレン基、シクロヘキサメチレ ン基、５−員または６−員アゾ環式人 フェニレン基、ナフタレン基、フェニ レンメチレン−フェニレン基、任意ニ ４個までの１から４炭素原子そして合 計１５炭素原子までを有する低級アル キル基により置換された有機基から選 ばれる有機基である）である） を有するエチレン性不飽和イソシアネート から選ばれる化合物であり；あるいは 口）は式 ％式％ を有するジイソシアネートであり、前記スルホポリエス
テルポリオールと前記ジインシアネートの反応生成物を
次に１モルの式 （式中、 ＲおよびＲ６は上で定義した通りであり；Ｒ８は（ａ＋
１）１７）原子価、２から１２個の炭素原子、０または
１個の非過酸化物鎖状酸素原子、および０または１個の １ −ＯＮＨ−基を有する直鎖ｆたーは分枝アルキル基およ
び１から４炭素原子そして合計１２炭素原子までを有す
る４個までの低級アルキル基により任ａ＊Ｗ換された５
−または６−原子炭素環式構造を有する脂環式基から選
ばれる多価脂肪族基であるが、なるべくはこの多価 ｒ
基は Ｈ２ ■ （式中、ｅは１から６の整数である）から選ばれるのが
よく、そして ａは１．２、または６の整数である） を有するエチレン性不飽和アルコーケと反応させ；ある
いは ハ）は弐■の有機ジイソシアネート１モルと式■のエチ
レン性不飽和□アルコール１モルとの反応生成物である
〕 の反応生成物からなるのｂｌよく、１．と２イ）、２０
）、または２ハ）との反応後に残存する水酸基、アミノ
基、またはイソシアネート基は本・膳的に存在しない（
即ち、０．５重量パーセント未満）。
たはそれ以上の水酸基またはアミン基が付く構造が、０
から２２個の一〇一原子と１ ０から８個の −０Ｃ−基により隔てられた２から１２
個の −ＣＨ２−基を単位として約５５個までの炭素原
子の飽和直鎖である）約２モル（例えば、１．９５から
２．０５モル）〔このポリオールおよびポリアミンは１
０００未満の ７分子量と（０＋１）個の水酸基または
アミン基を有する（Ｃは１．２、または３の整数である
）〕 、、の反応生成物であるスルホポリオールまたはスルホ
ポリアミン；および ２、イ）、口）、またはハ）のいずれか２０モル〔ただ
し、 イ）は （１） アクリル酸およびメタクリル酸（これらのエス
テルおよび酸ハロゲン化物ヲ含めて）：（ＩＩ）式 （式中、 Ｒは水素またはメチルであり、 Ｒ１ハ共共有台、−”２− １ タ＆！ −０Ｈ２０Ｈ
２−であり、 Ｒ２およびＲ３は独立して水素またはメチルである） を有する２−アルケニルアズラクトン；および （ＩＩ＋）式 ％式％ （式中、 Ｒ４は共有結合、−０Ｈ２−１−００−Ｒ５−１（式中
、 Ｒ５は任意に１個の非拳酸化物、鎖状 酸素原子または −〇ＮＨ基を含む１から−１２炭素原
子の直鎖または分枝鎖であり、あるいはｌは１から４炭
素原子 を有する低級アルキル基によって任意 に置換された５−員または６−員炭素 □ 環式基でこの誕素環式基は計１２炭素原子までを有
し、そして Ｒ６は２から１２炭素原子ン有する直 鎖または分校アルキレン基、シクロペ ンタメチレン基、シクロヘキサメチレ ン基、５−員または６−員アゾ環式人 フェニレン基、ナフタレン基、フェニ レンメチレン−フェニレン基、任意ニ ４個までの１から４炭素原子そして合 計１５炭素原子までを有する低級アル キル基により置換された有機基から選 ばれる有機基である）である） を有するエチレン性不飽和イソシアネート から選ばれる化合物であり；あるいは 口）は式 ％式％ を有するジイソシアネートであり、前記スルホポリエス
テルポリオールと前記ジインシアネートの反応生成物を
次に１モルの式 （式中、 ＲおよびＲ６は上で定義した通りであり；Ｒ８は（ａ＋
１）１７）原子価、２から１２個の炭素原子、０または
１個の非過酸化物鎖状酸素原子、および０または１個の １ −ＯＮＨ−基を有する直鎖ｆたーは分枝アルキル基およ
び１から４炭素原子そして合計１２炭素原子までを有す
る４個までの低級アルキル基により任ａ＊Ｗ換された５
−または６−原子炭素環式構造を有する脂環式基から選
ばれる多価脂肪族基であるが、なるべくはこの多価 ｒ
基は Ｈ２ ■ （式中、ｅは１から６の整数である）から選ばれるのが
よく、そして ａは１．２、または６の整数である） を有するエチレン性不飽和アルコーケと反応させ；ある
いは ハ）は弐■の有機ジイソシアネート１モルと式■のエチ
レン性不飽和□アルコール１モルとの反応生成物である
〕 の反応生成物からなるのｂｌよく、１．と２イ）、２０
）、または２ハ）との反応後に残存する水酸基、アミノ
基、またはイソシアネート基は本・膳的に存在しない（
即ち、０．５重量パーセント未満）。
なるべくは、低分子量、フィルム形成性、重合可能、エ
チレン性不飽和スルホ化合物は、エチレン性不飽和官能
基当り約３００から１０００の当量を有するのがよい。
チレン性不飽和スルホ化合物は、エチレン性不飽和官能
基当り約３００から１０００の当量を有するのがよい。
不飽和官能基が約６００個以上に増加すると、重合体は
ますます親水性になり、官能基が約６００以下に減少す
るＫつれて重合体はますます疎水性になる。
ますます親水性になり、官能基が約６００以下に減少す
るＫつれて重合体はますます疎水性になる。
また本発明によると、溶媒（なるべくは水）中に親水性
、水および有機溶媒可溶性、重合可能なエチレン性不飽
和スルホ化合物を、任意に遊離基源と共に含むエネルギ
ー硬化性被接組成物が提供される。更にまた、スルホポ
リエステルポリオールまたはポリアミンの特に適当な親
水性、水および有機溶媒可溶性重合可能なエチレン性不
飽和スルホ化合物の層を有する基材そしてまたスルホポ
リエステルポリオールまたはポリアミンのｇｔ合したエ
チレン性不飽和スルホ化合物の層を有する基材も提供さ
れる。
、水および有機溶媒可溶性、重合可能なエチレン性不飽
和スルホ化合物を、任意に遊離基源と共に含むエネルギ
ー硬化性被接組成物が提供される。更にまた、スルホポ
リエステルポリオールまたはポリアミンの特に適当な親
水性、水および有機溶媒可溶性重合可能なエチレン性不
飽和スルホ化合物の層を有する基材そしてまたスルホポ
リエステルポリオールまたはポリアミンのｇｔ合したエ
チレン性不飽和スルホ化合物の層を有する基材も提供さ
れる。
本特許願中に使用した
「ポリ（エチレン性不飽和エステルまたはアミド）」と
は、少なくとも一つの結合、メチレン基、カルボキシレ
ート（即ち、−Ｃｏ−）、アミド（即１ ち、−ＣＮＨ−）、またはカルバメート基（これはまた
ウレタン基、即ち、−０ＯＮＥ−とも呼ばれる）により
化合物忙連結されるエチレン性不飽和基〔即ち、ＨｐＣ
＝ＣＨ−またはＨ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３） Ｊを有する有機
化合物を意味し、 「低分子量エステル」とはスルホゾカルボン酸１モルと
２から４個の水酸基またはアミン基を有する僅か２モル
のポリオールまたはポリアミンとの反応およびそれに続
く２から６モルのエチレン性不飽和化合物との反応の生
成物であるスルホエステルのエチレン性不飽和誘導体で
ある化合物を意味する。それ故に、この化合物は唯一つ
のスルホ基をもち、一般に６５００未満、好ましくは４
０００未満の分子量をもつ。
は、少なくとも一つの結合、メチレン基、カルボキシレ
ート（即ち、−Ｃｏ−）、アミド（即１ ち、−ＣＮＨ−）、またはカルバメート基（これはまた
ウレタン基、即ち、−０ＯＮＥ−とも呼ばれる）により
化合物忙連結されるエチレン性不飽和基〔即ち、ＨｐＣ
＝ＣＨ−またはＨ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３） Ｊを有する有機
化合物を意味し、 「低分子量エステル」とはスルホゾカルボン酸１モルと
２から４個の水酸基またはアミン基を有する僅か２モル
のポリオールまたはポリアミンとの反応およびそれに続
く２から６モルのエチレン性不飽和化合物との反応の生
成物であるスルホエステルのエチレン性不飽和誘導体で
ある化合物を意味する。それ故に、この化合物は唯一つ
のスルホ基をもち、一般に６５００未満、好ましくは４
０００未満の分子量をもつ。
「低級アルキル」とは１′から４炭素原子を意味し、
「鎖状の」とは主鎖または背柱にあることを意味し、ペ
ンダントあるいは末端基にはない。
ンダントあるいは末端基にはない。
「スルホ」は−８０３）１基またはその塩を意味し、２
「スルホ化合物」とは、スルホポリオールまたはスルホ
ポリアミンのエチレン性不飽和誘導体（即ち、エステル
またはアミド）である水および有機溶媒可溶性の化合物
を意味する。
「スルホ化合物」とは、スルホポリオールまたはスルホ
ポリアミンのエチレン性不飽和誘導体（即ち、エステル
またはアミド）である水および有機溶媒可溶性の化合物
を意味する。
本発明に係る水および有機溶媒ｔＩＪ溶性、低分子量、
フィルム形成性、重合可能、エチレン性不飽和スルホ化
合物は、なるべくは、一般式〔式中、 Ｂ、 Ｒ’、Ｒ７、Ｒ８およびＣは上で定義した通りで
あり、 Ｒ９は６から１２炭素原子を有するアレーントリイル基
（６価のアレーン基）または２から１２炭素原子を有す
るアルカントリイル基（６価のアルカン基）で、式 （式中、Ｍは陽イオンであり、なるべくはＭはＨａであ
るのがよいが、しかしＭはｍ＜ ｘ、ＬＬ、アルカリ土
類金属陽イオン（例えば、ＭｇＳ Ｃａ。
フィルム形成性、重合可能、エチレン性不飽和スルホ化
合物は、なるべくは、一般式〔式中、 Ｂ、 Ｒ’、Ｒ７、Ｒ８およびＣは上で定義した通りで
あり、 Ｒ９は６から１２炭素原子を有するアレーントリイル基
（６価のアレーン基）または２から１２炭素原子を有す
るアルカントリイル基（６価のアルカン基）で、式 （式中、Ｍは陽イオンであり、なるべくはＭはＨａであ
るのがよいが、しかしＭはｍ＜ ｘ、ＬＬ、アルカリ土
類金属陽イオン（例えば、ＭｇＳ Ｃａ。
またはＢａ ）でもよく、あるいは第一級、第二級、第
三級または第四級アンモニウム陽イオン、例えばアンモ
ニウム、メチルアンモニウム、ブチルアンモニウム、ジ
エチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラ
エチルアン七ニウム、およびペンシルトリメチルアンモ
ニウム陽イオンでもヨイ）ヲ有スるスルホアレーンおよ
びスルホアルカンジカルボン酸からカルボキシル基およ
びスルホ基を除去した後に残る基であり； Ｒ↓０は０から２２個の−ｏ−）ｐ子および０から８個
１ の−０Ｃ−基により分離された２から１２個の−ＣＨ２
−基を単位として約５５炭素原子までの飽和鎖からなる
（Ｃ＋１）個の原子価を有する線状脂肪族基であって、
この脂肪族基は１０００未満の分子量を有し、 Ｃは１．２、または６の整数であり、 ３ Ｃ式中、 ＢＩ ＸＲ２、Ｒ３、およびＲ４は前に定義した通りで
ある）であり、 Ｘは一〇−または−ＨＥ−であり、そして″・ ２・ま
たｔ！ ３ Ｏ整数１ある３を有する３ｒとが好ましい
。
三級または第四級アンモニウム陽イオン、例えばアンモ
ニウム、メチルアンモニウム、ブチルアンモニウム、ジ
エチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラ
エチルアン七ニウム、およびペンシルトリメチルアンモ
ニウム陽イオンでもヨイ）ヲ有スるスルホアレーンおよ
びスルホアルカンジカルボン酸からカルボキシル基およ
びスルホ基を除去した後に残る基であり； Ｒ↓０は０から２２個の−ｏ−）ｐ子および０から８個
１ の−０Ｃ−基により分離された２から１２個の−ＣＨ２
−基を単位として約５５炭素原子までの飽和鎖からなる
（Ｃ＋１）個の原子価を有する線状脂肪族基であって、
この脂肪族基は１０００未満の分子量を有し、 Ｃは１．２、または６の整数であり、 ３ Ｃ式中、 ＢＩ ＸＲ２、Ｒ３、およびＲ４は前に定義した通りで
ある）であり、 Ｘは一〇−または−ＨＥ−であり、そして″・ ２・ま
たｔ！ ３ Ｏ整数１ある３を有する３ｒとが好ましい
。
本発明に係る被機組成物は、エネルギー硬化性であり、
なるべくは式■および■１を有する低分子量、溶媒可溶
、フィルム形成性、重合０１能なウレタン基含有化合物
とエネルギー適用時に遊離基を発生する遊離基発生性化
合物とからなるのがよい。
なるべくは式■および■１を有する低分子量、溶媒可溶
、フィルム形成性、重合０１能なウレタン基含有化合物
とエネルギー適用時に遊離基を発生する遊離基発生性化
合物とからなるのがよい。
本発明に係る低分子量、水および有機溶媒ｉ」溶、フィ
ルム形成性、重合可能なスルホ化合物は、この分野でよ
く知られた手順により、なるべくはスルホアレーンまた
はスルホアルカンジカルボン酸、式■、（あるいは低分
子量、即ち約９４以下のアルコールからつくられるこれ
らのエステル、これらの酸無水物、またはこれらの酸ハ
ロゲン化物）１モルと、（Ｃ＋１）個の水酸基またはア
ミノ基を有する脂肪族単量体または重合体ポリオール本
質的ＶＣ２モルｙの反応によって２Ｃ個（Ｃは１．２、
または６の整数である）の水酸基または了ミノ基を有す
るスルホポリオールまたはスルホポリアミンを形成させ
ることにより製造するのがよい。
ルム形成性、重合可能なスルホ化合物は、この分野でよ
く知られた手順により、なるべくはスルホアレーンまた
はスルホアルカンジカルボン酸、式■、（あるいは低分
子量、即ち約９４以下のアルコールからつくられるこれ
らのエステル、これらの酸無水物、またはこれらの酸ハ
ロゲン化物）１モルと、（Ｃ＋１）個の水酸基またはア
ミノ基を有する脂肪族単量体または重合体ポリオール本
質的ＶＣ２モルｙの反応によって２Ｃ個（Ｃは１．２、
または６の整数である）の水酸基または了ミノ基を有す
るスルホポリオールまたはスルホポリアミンを形成させ
ることにより製造するのがよい。
次に、このスルホポリオールまたはスルホポリアミンな
イ） （１１２モルのアクリル酸またはメタクリル酸、
エステルまたは酸ハロゲン化物、または（１１エチニル
アズラクトンと、または（ｉｌｌｌ ２ ｃモルのエチ
レン性不飽和イソシアネート、なるべ、くはイソシアナ
トアルキルアクリレートまたはポリアクリレートと、口
）２モルの有機ジイソシアネート、続いて２０モルのエ
チレン性不飽和アルコール、ナルべくはヒドロキシアル
キルアクリレートとの反応、またはハ）１モルの有機ジ
イソシアネートと１モルのエチレン性不飽和アルコール
、なるべくはヒドロキシアルキルアクリレートとの反応
生成物２０モルのいずれかと反応させる。この分野で公
知の通り、これら反応は水銀、鉛、またはスズ触媒、例
えばジブチルスズジラウレートの存在下で実行できる。
イ） （１１２モルのアクリル酸またはメタクリル酸、
エステルまたは酸ハロゲン化物、または（１１エチニル
アズラクトンと、または（ｉｌｌｌ ２ ｃモルのエチ
レン性不飽和イソシアネート、なるべ、くはイソシアナ
トアルキルアクリレートまたはポリアクリレートと、口
）２モルの有機ジイソシアネート、続いて２０モルのエ
チレン性不飽和アルコール、ナルべくはヒドロキシアル
キルアクリレートとの反応、またはハ）１モルの有機ジ
イソシアネートと１モルのエチレン性不飽和アルコール
、なるべくはヒドロキシアルキルアクリレートとの反応
生成物２０モルのいずれかと反応させる。この分野で公
知の通り、これら反応は水銀、鉛、またはスズ触媒、例
えばジブチルスズジラウレートの存在下で実行できる。
なるべくは、触媒は、米国特許第２．９１６．４６４号
明細書に発表されているように、トリエチレングリコー
ルのモリブデンエステルのカリウム塩、アルミン酸三カ
ルシウム、または第三アミンであるのがよい。スルホポ
リオールまたはスルホポリアミンの製造は反応体を約２
から２０時間、なるべくは４から１０時間、１５０から
６００℃、なるべくは２００から２５０℃の温度で、減
圧下または不活性雰囲気下に加熱すること忙より実施で
きる。成分の一つがアクリル基を含む化合物である反応
は、僅か約２０から１００℃、なるべくは３０から６０
℃の温度で１から１０時間加熱すれば崎む。
明細書に発表されているように、トリエチレングリコー
ルのモリブデンエステルのカリウム塩、アルミン酸三カ
ルシウム、または第三アミンであるのがよい。スルホポ
リオールまたはスルホポリアミンの製造は反応体を約２
から２０時間、なるべくは４から１０時間、１５０から
６００℃、なるべくは２００から２５０℃の温度で、減
圧下または不活性雰囲気下に加熱すること忙より実施で
きる。成分の一つがアクリル基を含む化合物である反応
は、僅か約２０から１００℃、なるべくは３０から６０
℃の温度で１から１０時間加熱すれば崎む。
本発明に係る水および有機溶媒可溶性スルホ化合物の製
造に役立つ脂肪族ポリオール、（Ｈｏ ）。Ｒ”−０）
１ 、は６２から１０００の分子量を有し、例えば２か
ら４個の水酸基を有する単量体および重合体ポリオール
が含まれる。単１升体ポリオールノ例にはエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール、１．１．１−トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリトリトールなどが含まれる。重
合体ポリオールの例には、ポリオキシアルキレンポリオ
ール、即ちジオール、トリオール、およびテトロール、
有機ジカルボン酸と多価アルコールとのポリエステルジ
オール、トリオール、およびテトロール、およびポリラ
クトンジオール、トリオール、およびテトロール（分子
量１０６から約１０００を有する）が含まれる。重合体
ポリオールの例には、ポリオキシエチレンジオール、ト
リオールおよびテトロール、例えばカルボワックスＴＭ
（ＣａｒｂｏｗａｘＴＭ） ［ユニオンカーバイ）；’
（ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ ）から入手できる〕、
ポリオキシテトラメチレンジオール、例えばポリメグＴ
Ｍ（ＰｏｌｙｍｅｇＴＭ）ポリオール〔フォーカーオー
ツカンパニイー（Ｑｕａｋｅｒ □ａｔｓ Ｃｏｍｐａ
ｎｙ ）から入手できる〕、ポリエステルぼりオール、
例えばムルトＭ ｏ ｙ （Ｍｕｌｔｒｏｎ−” ）ボＩＪ （：ｘ、
ｆ しｙ ７ シヘート）ポリオール〔モベイ ケミカ
ル カンパニイー （Ｍｏｂａｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｃｏｍｐａｎｙ ）から入手できる〕、およびポリカプ
ロラクトン・ポ１１オール、例えばＰＣＰＴＭポリオー
ル（ユニオン カーバイドから入手できる）が含まれる
。
造に役立つ脂肪族ポリオール、（Ｈｏ ）。Ｒ”−０）
１ 、は６２から１０００の分子量を有し、例えば２か
ら４個の水酸基を有する単量体および重合体ポリオール
が含まれる。単１升体ポリオールノ例にはエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール、１．１．１−トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリトリトールなどが含まれる。重
合体ポリオールの例には、ポリオキシアルキレンポリオ
ール、即ちジオール、トリオール、およびテトロール、
有機ジカルボン酸と多価アルコールとのポリエステルジ
オール、トリオール、およびテトロール、およびポリラ
クトンジオール、トリオール、およびテトロール（分子
量１０６から約１０００を有する）が含まれる。重合体
ポリオールの例には、ポリオキシエチレンジオール、ト
リオールおよびテトロール、例えばカルボワックスＴＭ
（ＣａｒｂｏｗａｘＴＭ） ［ユニオンカーバイ）；’
（ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ ）から入手できる〕、
ポリオキシテトラメチレンジオール、例えばポリメグＴ
Ｍ（ＰｏｌｙｍｅｇＴＭ）ポリオール〔フォーカーオー
ツカンパニイー（Ｑｕａｋｅｒ □ａｔｓ Ｃｏｍｐａ
ｎｙ ）から入手できる〕、ポリエステルぼりオール、
例えばムルトＭ ｏ ｙ （Ｍｕｌｔｒｏｎ−” ）ボＩＪ （：ｘ、
ｆ しｙ ７ シヘート）ポリオール〔モベイ ケミカ
ル カンパニイー （Ｍｏｂａｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｃｏｍｐａｎｙ ）から入手できる〕、およびポリカプ
ロラクトン・ポ１１オール、例えばＰＣＰＴＭポリオー
ル（ユニオン カーバイドから入手できる）が含まれる
。
本発明スルホ化合物の製造に役立つ脂肪族ポリアミン、
（Ｈ２Ｎ）。Ｒ”−ＯＨ、はテキサコ社（Ｔｅｘａａｏ
＋工ｎｃ、 ）の従属会社であるシェフアミンン ケミ
ｒカル カンパニイー、インコーホレーテッド（Ｊｅ
ｆｆｅｒｓｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ、、工ｎｃ、
）から、部品名シェフ ７ ミ７ ＴＭ（Ｊｅｆｆａ
ｍｉｎｅＴＭ） トＬ テ入手テキルホリアミン、例え
ばシェフアミンＴＭＤ−４００、分子量約４００を有す
るポリオキシプロピレンジアミン；ジェファ、ン Ｄ２
３０％分子量約２３０を有するポリオキシゾロビレンゾ
アミン：ゾエ７ア、ン Ｔ−４０６、分子：ＩＪＬ 約
４００を有するポリオキシゾロピレントリアミン；へお
よびシェフアミンＴＭＥＪ） ６００およびＩｃＤ ９
００ （これはそれぞれ分子量６ｏｏと９００、を有す
るポリオキシエチレンジアミンである）である。
（Ｈ２Ｎ）。Ｒ”−ＯＨ、はテキサコ社（Ｔｅｘａａｏ
＋工ｎｃ、 ）の従属会社であるシェフアミンン ケミ
ｒカル カンパニイー、インコーホレーテッド（Ｊｅ
ｆｆｅｒｓｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ、、工ｎｃ、
）から、部品名シェフ ７ ミ７ ＴＭ（Ｊｅｆｆａ
ｍｉｎｅＴＭ） トＬ テ入手テキルホリアミン、例え
ばシェフアミンＴＭＤ−４００、分子量約４００を有す
るポリオキシプロピレンジアミン；ジェファ、ン Ｄ２
３０％分子量約２３０を有するポリオキシゾロビレンゾ
アミン：ゾエ７ア、ン Ｔ−４０６、分子：ＩＪＬ 約
４００を有するポリオキシゾロピレントリアミン；へお
よびシェフアミンＴＭＥＪ） ６００およびＩｃＤ ９
００ （これはそれぞれ分子量６ｏｏと９００、を有す
るポリオキシエチレンジアミンである）である。
本発明に係る水および溶媒可溶性スルホ化合物の製造に
役立つ式壇のスルホアレーンおよびスルホアルカンジカ
ルボン酸は、公知のスルホアレー・ンおよびスルホアル
カンジカルボン酸のいずれかである。これらの例には、
スルホアルカンジカルボン酸、例えばスルホコハク酸、
２−スルホグル４、＃ＪｆｌＬ ３−スルホグルタル酸
および２−スルホドデカンニ酸；スルホアレーンジカル
ボン酸、例えば５−スルホイソフタル酸、２−スルホテ
レフタル酸、５−スルホナフタレン−１，４−ジカルボ
ン酸：スルホベンジルマロン酸類、例えば米国特許第３
．８２１，２８１号明細書記載のもの；およびスルホフ
ルオレンジカルボン酸、例えば英国特許第１．００６．
５７９号明細書記載の９．９−ジ（２’−カルボキシエ
チル）フルオレン−２−スルホン酸が含まれる。上記ス
ルホン酸の対応する低級アルキルエステル、ハロゲン化
物、無水物、および塩類も製造に使用できることは明ら
かである。
役立つ式壇のスルホアレーンおよびスルホアルカンジカ
ルボン酸は、公知のスルホアレー・ンおよびスルホアル
カンジカルボン酸のいずれかである。これらの例には、
スルホアルカンジカルボン酸、例えばスルホコハク酸、
２−スルホグル４、＃ＪｆｌＬ ３−スルホグルタル酸
および２−スルホドデカンニ酸；スルホアレーンジカル
ボン酸、例えば５−スルホイソフタル酸、２−スルホテ
レフタル酸、５−スルホナフタレン−１，４−ジカルボ
ン酸：スルホベンジルマロン酸類、例えば米国特許第３
．８２１，２８１号明細書記載のもの；およびスルホフ
ルオレンジカルボン酸、例えば英国特許第１．００６．
５７９号明細書記載の９．９−ジ（２’−カルボキシエ
チル）フルオレン−２−スルホン酸が含まれる。上記ス
ルホン酸の対応する低級アルキルエステル、ハロゲン化
物、無水物、および塩類も製造に使用できることは明ら
かである。
本発明に係るエチレン性不飽和カルボキシレートエステ
ルの製造に使用できるアクリル酸およびメタクリル酸、
これらのエステル類および酸ハロゲン化物はよく知られ
ており、アクリル酸およびメタクリル酸、低分子量アル
コールのエステル、例えばメチル、エチル、プロピルお
よヒフチルアクリレートおよびメタクリレート、および
酸ハロゲン化物、例えばアクリル クロリドおよびメタ
クリル クロリドが含まれる。
ルの製造に使用できるアクリル酸およびメタクリル酸、
これらのエステル類および酸ハロゲン化物はよく知られ
ており、アクリル酸およびメタクリル酸、低分子量アル
コールのエステル、例えばメチル、エチル、プロピルお
よヒフチルアクリレートおよびメタクリレート、および
酸ハロゲン化物、例えばアクリル クロリドおよびメタ
クリル クロリドが含まれる。
スルホポリオールおよびスルホポリアミンと反応させて
本発明に係るエチレン性不飽和化合物なつくることので
きる式Ｉの化合物２−アルケニルアズラクトン類は核基
との反応に対しインシアネートに類似の反応性を有する
エチレン性不飽和化合物である。２−アルケニルアズラ
クトンの例には、２−エチニル−１，３−オキサゾリン
−５−オン、２−インプロペニル−１，３−オキサ・ｌ
リン−５−オン、２−エチニル−４，４−ジメチル−１
，３−オキサゾリン−５−オン、２−インプロペニル−
４，４−ジメチル−１，６−オキサゾリン−５−オン、
２−エチニル−５，６−シヒドロー５，５−ジメチル−
４旦−１，３−オキサジン−６−オン、および２−イソ
プロペニル−５゜６−シヒドロー５．５−ジメチル−４
１−１，３−オキサジン−６−オンが含まれる。スルホ
ポリオールとの反応は、０℃から５０℃において、大気
圧下に、触媒として約０．１から５重量パーセントのル
イス酸、例えばＢＦ２−エーテレート、ＡｌＣｌ！３、
または５ｎＣＪｌ！４の存在下で行なわれる。スルホポ
リアミンとの反応は比較的迅速であり、温和な発熱を伴
ない、一般に触媒を必要としない。
本発明に係るエチレン性不飽和化合物なつくることので
きる式Ｉの化合物２−アルケニルアズラクトン類は核基
との反応に対しインシアネートに類似の反応性を有する
エチレン性不飽和化合物である。２−アルケニルアズラ
クトンの例には、２−エチニル−１，３−オキサゾリン
−５−オン、２−インプロペニル−１，３−オキサ・ｌ
リン−５−オン、２−エチニル−４，４−ジメチル−１
，３−オキサゾリン−５−オン、２−インプロペニル−
４，４−ジメチル−１，６−オキサゾリン−５−オン、
２−エチニル−５，６−シヒドロー５，５−ジメチル−
４旦−１，３−オキサジン−６−オン、および２−イソ
プロペニル−５゜６−シヒドロー５．５−ジメチル−４
１−１，３−オキサジン−６−オンが含まれる。スルホ
ポリオールとの反応は、０℃から５０℃において、大気
圧下に、触媒として約０．１から５重量パーセントのル
イス酸、例えばＢＦ２−エーテレート、ＡｌＣｌ！３、
または５ｎＣＪｌ！４の存在下で行なわれる。スルホポ
リアミンとの反応は比較的迅速であり、温和な発熱を伴
ない、一般に触媒を必要としない。
使用できる他の２−アルケニルアズラクトンおよび条件
は、譲り受け人の出願中の特許願連続第５１６．２３４
号明細−ＩＦ（１９８１年、１０月２９日出願）に記載
されており、参考のためここに取り入れる。
は、譲り受け人の出願中の特許願連続第５１６．２３４
号明細−ＩＦ（１９８１年、１０月２９日出願）に記載
されており、参考のためここに取り入れる。
本発明如係るエチレン性不飽和スルホ化合物の製造に役
立つ式Ｈのエチレン性不飽和イソシアネートには、２−
インシアナトエチルアクリレートおよびメタクリレート
、６−インシアナトエチルアクリレートおよびメタクリ
レート、２−アクリルアミドエチルイソシアネート、３
−アクリルアミドプロピルイソシアネート、６−メタク
リルアミトゾロビルイリシ了ネ・、−ト、２，３−ビス
（アクリロイルオキシ）プロピルイソシアネート、３．
３．３−）リス（アクリロイルオキシメチル）プロピル
イソシアネート、４−メタクリロイルオキシシクロヘキ
シルイソシアネート、５−アクリｏ ｄ Ａ／ 、ｔ
Ｑ ’ｙ ｙｌチー” ５＊ ３． ５ ）’ノ′チＡ
／−／ 。
立つ式Ｈのエチレン性不飽和イソシアネートには、２−
インシアナトエチルアクリレートおよびメタクリレート
、６−インシアナトエチルアクリレートおよびメタクリ
レート、２−アクリルアミドエチルイソシアネート、３
−アクリルアミドプロピルイソシアネート、６−メタク
リルアミトゾロビルイリシ了ネ・、−ト、２，３−ビス
（アクリロイルオキシ）プロピルイソシアネート、３．
３．３−）リス（アクリロイルオキシメチル）プロピル
イソシアネート、４−メタクリロイルオキシシクロヘキ
シルイソシアネート、５−アクリｏ ｄ Ａ／ 、ｔ
Ｑ ’ｙ ｙｌチー” ５＊ ３． ５ ）’ノ′チＡ
／−／ 。
クロヘキシルイソシアネート、アリルインシアネート、
メタリルイソシアネート、およびヒドロキシアルキルア
クリレートと下記のジイソシアネートとの反応生成物が
含まれる。
メタリルイソシアネート、およびヒドロキシアルキルア
クリレートと下記のジイソシアネートとの反応生成物が
含まれる。
本発明に係るエチレン性不飽和スルホ化合物の１１に役
立つ式■のエチレン性不飽和アルコールは、アリルおよ
びメタリルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートおよびメタクリレート、３−ヒ「ロキシゾロビルア
クリレートおよびメタクリレ−ｈ、ｉ、１．１−トリメ
チロールプロパンジアクリレートおよびジメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリアクリレートおよびトリ
メタクリレートである。
立つ式■のエチレン性不飽和アルコールは、アリルおよ
びメタリルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートおよびメタクリレート、３−ヒ「ロキシゾロビルア
クリレートおよびメタクリレ−ｈ、ｉ、１．１−トリメ
チロールプロパンジアクリレートおよびジメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリアクリレートおよびトリ
メタクリレートである。
有機ジイソシアネートと反応させてインシアナトアクリ
レートおよびメタクリレートをつくることのできるヒド
ロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレートはよ
く知られており、−多くの特許、例えば米国特許第４．
１０８，８４０号明細書、コラム８．２４〜５１行に記
載されている。これら化合物のうち特に適当なものは、
２〜ヒドロキシエチルアクリレートおよび６−ヒドロキ
シプロぎルアクリレートである。他の特に適当なヒドロ
キシアルキルアクリレートは２，２．２−、）リス（ア
クリロイルオキシメチル）エタノールおよび２．３−ジ
（アクリロイルオキシ）プロ・パノールである。
レートおよびメタクリレートをつくることのできるヒド
ロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレートはよ
く知られており、−多くの特許、例えば米国特許第４．
１０８，８４０号明細書、コラム８．２４〜５１行に記
載されている。これら化合物のうち特に適当なものは、
２〜ヒドロキシエチルアクリレートおよび６−ヒドロキ
シプロぎルアクリレートである。他の特に適当なヒドロ
キシアルキルアクリレートは２，２．２−、）リス（ア
クリロイルオキシメチル）エタノールおよび２．３−ジ
（アクリロイルオキシ）プロ・パノールである。
ヒドロキシアルキルアクリレートおよびメタクリレート
と反応させてインシアナトアクリレートおよびメタクリ
レートをつくることのできるジインシアネート、弐■、
は公知のジイソシアネートのいずれかである。特に適当
なジインシアネートはへキサメチレンジイソシアネート
、トルエンジイソシアネート、およびインホロンジイソ
シアネートである。
と反応させてインシアナトアクリレートおよびメタクリ
レートをつくることのできるジインシアネート、弐■、
は公知のジイソシアネートのいずれかである。特に適当
なジインシアネートはへキサメチレンジイソシアネート
、トルエンジイソシアネート、およびインホロンジイソ
シアネートである。
本発明に係る被覆組成物は、重合可能なエチレン性不飽
和スルホ化合物を適当な溶媒に溶かすことによって製造
できる。水、水性有機溶媒、または有機溶媒を使用でき
る。一般に、０．０５から２０部、なるべくは０．２か
ら４部の溶媒、なるべくは水がエチレン性不飽和スルホ
化合物１部当り使用される。使用できる溶媒の例には、
アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、水性メタ
ノール、水性エタノール、トリクロロエチレン、トルエ
ンなどが含まれる。他の特に適当な溶媒は、エチレン性
不飽和で本発明エチレン性不飽和スルホ化合物と共重合
可能な反応性溶媒である。特に好ましい反応性溶媒は、
アクリル酸およびメタクリル酸エステル、例えばエチル
アクリレート、グチルアクリレート、ｎ−オクチルアク
リレート、アリルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レート、Ｎ−メチルカルバモイルオキシエチルアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１゜６
−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリトリト
ールテトラアクリレート、１．３．５−トリ（２−アク
リロイルオキシエチル）イソシアヌレート、および対応
するメタクリレートである。
和スルホ化合物を適当な溶媒に溶かすことによって製造
できる。水、水性有機溶媒、または有機溶媒を使用でき
る。一般に、０．０５から２０部、なるべくは０．２か
ら４部の溶媒、なるべくは水がエチレン性不飽和スルホ
化合物１部当り使用される。使用できる溶媒の例には、
アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、水性メタ
ノール、水性エタノール、トリクロロエチレン、トルエ
ンなどが含まれる。他の特に適当な溶媒は、エチレン性
不飽和で本発明エチレン性不飽和スルホ化合物と共重合
可能な反応性溶媒である。特に好ましい反応性溶媒は、
アクリル酸およびメタクリル酸エステル、例えばエチル
アクリレート、グチルアクリレート、ｎ−オクチルアク
リレート、アリルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レート、Ｎ−メチルカルバモイルオキシエチルアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１゜６
−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリトリト
ールテトラアクリレート、１．３．５−トリ（２−アク
リロイルオキシエチル）イソシアヌレート、および対応
するメタクリレートである。
被覆組成物の個々の応用によって、組成物中忙組成物の
貯蔵寿命を長引かせるために、通常の酸化防止剤、熱安
定剤または遊離基抑制剤を含めることが望ましいことが
ある。このような材料の例は、イオノクスＴＭ（工ｏｎ
ｏｘＴＭ） ２２０ （シーＣル）、サンドックスＴＭ
（５ａｎｔＯｎＯＸ” ） Ｒ（モｙｔｙ））、イルカ
ノクス（ｌｒｇａｎＯｘＴＭ）１０１０（チノゞ−がイ
ギー）などとして商業的に入手できるブチル化ヒドロキ
シアニソール（ＢＨＡ ）およびブチル化ヒドロキシト
ルエン（ＢＨＴ ）である。一般に、被覆組成物の全重
量の肌０１から５．０重量ノぐ−セントが使用される。
貯蔵寿命を長引かせるために、通常の酸化防止剤、熱安
定剤または遊離基抑制剤を含めることが望ましいことが
ある。このような材料の例は、イオノクスＴＭ（工ｏｎ
ｏｘＴＭ） ２２０ （シーＣル）、サンドックスＴＭ
（５ａｎｔＯｎＯＸ” ） Ｒ（モｙｔｙ））、イルカ
ノクス（ｌｒｇａｎＯｘＴＭ）１０１０（チノゞ−がイ
ギー）などとして商業的に入手できるブチル化ヒドロキ
シアニソール（ＢＨＡ ）およびブチル化ヒドロキシト
ルエン（ＢＨＴ ）である。一般に、被覆組成物の全重
量の肌０１から５．０重量ノぐ−セントが使用される。
被覆物の特性は、被覆組成物中にそれらの知られた目的
に対して利用される拙々な補助剤、例えば潤滑剤、可塑
剤（例えば、シブチルフタレート）、粘着性を増す樹脂
（例えば、スチレンおよび一メチルスチレンの共重合体
）、無機シックナー、充てん材（例えば、有機および無
機粒子、繊維、およびフレーク）、顔料、お°よび染料
を含めることによって更に修飾できる。充てん材は、一
般に被覆組成物の共重合可能な成分の１００重量部当り
約２００重量部までの割合で使用できる。被覆組成物に
不溶性成分が望まれる場合には、通常の高速度分散装置
、例えばペイントミル、ボールミル ｒなどを使用する
必要があるかもしれなし）。
に対して利用される拙々な補助剤、例えば潤滑剤、可塑
剤（例えば、シブチルフタレート）、粘着性を増す樹脂
（例えば、スチレンおよび一メチルスチレンの共重合体
）、無機シックナー、充てん材（例えば、有機および無
機粒子、繊維、およびフレーク）、顔料、お°よび染料
を含めることによって更に修飾できる。充てん材は、一
般に被覆組成物の共重合可能な成分の１００重量部当り
約２００重量部までの割合で使用できる。被覆組成物に
不溶性成分が望まれる場合には、通常の高速度分散装置
、例えばペイントミル、ボールミル ｒなどを使用する
必要があるかもしれなし）。
エネルギーにさらしたとき、エチレン性不飽和末端基を
有する組成物からつくられた被慎物を、溶媒可溶性の親
水性状態から溶媒不溶性の疎水性状態へと変換するため
に本発明被覆組成物に使用することのできる遊離基発生
化合物はこの分野で公知の物質である。特に適した遊離
基発生化合物には、例えば有機過酸化物、ア・戸化合物
、芳香族シア・戸ニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、キノン、
ペン１戸フェノン類、ニトロソ化合物、ハロゲン化アシ
ル、ハロゲン化アリール、ヒビ２１戸ン、メルカゾト化
合物、ピリリウム化合物、トＩｌアリールイミダ１戸−
ル、ビイミダを戸−ル、およびクロロアルキルトリアジ
ン類が含まれる。これら物質は一般忙、約４００ ｎｍ
以上の放射線で役立つ光開始剤系を形成するためには光
増感剤をもたねばならない。光増感剤、例えばスペクト
ルにより吸収する染料はこの分野でよく知られている。
有する組成物からつくられた被慎物を、溶媒可溶性の親
水性状態から溶媒不溶性の疎水性状態へと変換するため
に本発明被覆組成物に使用することのできる遊離基発生
化合物はこの分野で公知の物質である。特に適した遊離
基発生化合物には、例えば有機過酸化物、ア・戸化合物
、芳香族シア・戸ニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、キノン、
ペン１戸フェノン類、ニトロソ化合物、ハロゲン化アシ
ル、ハロゲン化アリール、ヒビ２１戸ン、メルカゾト化
合物、ピリリウム化合物、トＩｌアリールイミダ１戸−
ル、ビイミダを戸−ル、およびクロロアルキルトリアジ
ン類が含まれる。これら物質は一般忙、約４００ ｎｍ
以上の放射線で役立つ光開始剤系を形成するためには光
増感剤をもたねばならない。光増感剤、例えばスペクト
ルにより吸収する染料はこの分野でよく知られている。
一般に、遊離基発生化合物は被覆組成物の全重量の０．
０１から１０パーセント、なるべくは０．０５から５重
量パーセントの濃度で使用され、光増感剤は遊離基発生
化合物の重量の１０パーセントから１００重量パーセン
トの濃度で使用される。
０１から１０パーセント、なるべくは０．０５から５重
量パーセントの濃度で使用され、光増感剤は遊離基発生
化合物の重量の１０パーセントから１００重量パーセン
トの濃度で使用される。
エチレン性不飽和化合物に対する遊離基光開始剤系につ
いてこの分野における追加参考文献には米国特許第６．
８８７，４５０号明細書（例えば、コラム４）、米国特
許第３，８９５，９４９分明＃１−ｉＦ（例えば、コラ
ム７）、および米国特許第４．０４３，８１９号明細書
が含まれる。特に適当な開始剤は米国特許第３，７２９
．３１３号、第４．０５８．４００号、および第４．０
５８．４０１号明細書に発表されたオニウム塩である。
いてこの分野における追加参考文献には米国特許第６．
８８７，４５０号明細書（例えば、コラム４）、米国特
許第３，８９５，９４９分明＃１−ｉＦ（例えば、コラ
ム７）、および米国特許第４．０４３，８１９号明細書
が含まれる。特に適当な開始剤は米国特許第３，７２９
．３１３号、第４．０５８．４００号、および第４．０
５８．４０１号明細書に発表されたオニウム塩である。
他の望ましい開始剤はビイミダ・戸−ル類（米国特許第
４，０９０，８７７号明細書に記載）およびクロロアル
キル） ＩＪアジン（米国特許第３，７７５．１１３
号明細書に記載）である。これら参考文献はまた増感剤
も発表している。光開始剤系に関するも５ 一つの良い
参考文献はＬｉｇｈｔ−８ｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔ
ｅｍｓ。
４，０９０，８７７号明細書に記載）およびクロロアル
キル） ＩＪアジン（米国特許第３，７７５．１１３
号明細書に記載）である。これら参考文献はまた増感剤
も発表している。光開始剤系に関するも５ 一つの良い
参考文献はＬｉｇｈｔ−８ｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔ
ｅｍｓ。
ジエイ、コサール（Ｊ、 Ｋｏｅａｒ ）、ジョン・ワ
イリイー・アンドΦサンズ社（１９６５）、とりわ゛
け第５章である。
イリイー・アンドΦサンズ社（１９６５）、とりわ゛
け第５章である。
エネルギー硬化性組成物は、吹付け、カーテン被覆、直
接あるいは反転ロール被覆、浸し塗り、刷毛塗り、押出
し、および印刷を含めてこの分野で知られた実質的にど
の技術を用いても、基拐上に橋かけ結合した接着性の摩
耗抵抗性被覆物を形成させるために使用できる。どのよ
うに適用したとしても、被覆物を乾燥させて非共有結合
性溶媒（使用した場合）を除去し、硬い粘着性のない被
覆物を残す。このものは、エネルギー、特に活性線が適
用されないときは、可溶性のままであり、溶媒、特に水
または水性溶媒、例えば水性メタノールでの処理により
基材から除去できる。乾いた被覆物は十分な時間および
強さの放射線ニさらすことにより橋かけ結合させること
ができ、そしてこれは被覆物の厚さおよび個々の組成忙
よって、約１０秒から１０分またはそれ以上を変化（、
うる。
接あるいは反転ロール被覆、浸し塗り、刷毛塗り、押出
し、および印刷を含めてこの分野で知られた実質的にど
の技術を用いても、基拐上に橋かけ結合した接着性の摩
耗抵抗性被覆物を形成させるために使用できる。どのよ
うに適用したとしても、被覆物を乾燥させて非共有結合
性溶媒（使用した場合）を除去し、硬い粘着性のない被
覆物を残す。このものは、エネルギー、特に活性線が適
用されないときは、可溶性のままであり、溶媒、特に水
または水性溶媒、例えば水性メタノールでの処理により
基材から除去できる。乾いた被覆物は十分な時間および
強さの放射線ニさらすことにより橋かけ結合させること
ができ、そしてこれは被覆物の厚さおよび個々の組成忙
よって、約１０秒から１０分またはそれ以上を変化（、
うる。
本発明に係る橋かけ結合可能な組成物で被覆するこメの
できる基材には、木、ファイバーボード、パーチクルボ
ード、紙、およびポール紙の有機基材：合成および天然
重合体、例えばポリエステル−ポリアミド、硬化フエノ
ーリツクス、ユリアーアルデヒド樹脂、ポリ（〕１０ケ
９ン化ビニル）、ボ１１アクリレート、ポリウレタン、
タンパク質、ゴム；無機基材、例えば鉄、ステンレス鋼
、銅、黄銅、ブロンズ、アルミニウム、チタン、ニッケ
ル、亜鉛、および合金が含まれる。特に有用な基材はケ
イ酸化アルミニウム、およびポリエステル、例エバポリ
エチレンテレフタレートおヨヒホｌＪ（［化ビニル）で
ある。
できる基材には、木、ファイバーボード、パーチクルボ
ード、紙、およびポール紙の有機基材：合成および天然
重合体、例えばポリエステル−ポリアミド、硬化フエノ
ーリツクス、ユリアーアルデヒド樹脂、ポリ（〕１０ケ
９ン化ビニル）、ボ１１アクリレート、ポリウレタン、
タンパク質、ゴム；無機基材、例えば鉄、ステンレス鋼
、銅、黄銅、ブロンズ、アルミニウム、チタン、ニッケ
ル、亜鉛、および合金が含まれる。特に有用な基材はケ
イ酸化アルミニウム、およびポリエステル、例エバポリ
エチレンテレフタレートおヨヒホｌＪ（［化ビニル）で
ある。
本発明に係るエネルギー硬化性被覆物は、約０−０１
ｍｍから約１０．０ｍｍまたはそれ以上、なるべくは０
．１から’１．ＯｍｒｔｉＫわたる厚さを有しうる。
ｍｍから約１０．０ｍｍまたはそれ以上、なるべくは０
．１から’１．ＯｍｒｔｉＫわたる厚さを有しうる。
本発明に係る被覆物を橋かけ結合しそれらを不溶性にす
るのに使用する適描な放射線は２００から６００ ｎｍ
の範囲、なるべくは２００から４５０ｎｍの波長の放射
線を含む。適当な光源には日光、炭素アーク、水銀蒸気
アーク、黒元灯、螢光灯、アルゴンおよびキセノングロ
ーランノ、電子７ラン ７シユユニツト、および写真用
７ランドランプが含まれる。電子加速装置および電子ビ
ーム源も使用できる。
るのに使用する適描な放射線は２００から６００ ｎｍ
の範囲、なるべくは２００から４５０ｎｍの波長の放射
線を含む。適当な光源には日光、炭素アーク、水銀蒸気
アーク、黒元灯、螢光灯、アルゴンおよびキセノングロ
ーランノ、電子７ラン ７シユユニツト、および写真用
７ランドランプが含まれる。電子加速装置および電子ビ
ーム源も使用できる。
本発明忙係るエネルヤー硬化性被稜組成物は、とりわけ
基材上に被覆したときは、情報の記録のためのグラフィ
ックアート、例えば印刷版におけるカラー分離像に用い
るのに、また抵抗像、例えばプリント回路の製造に用い
るのに適し、ている。
基材上に被覆したときは、情報の記録のためのグラフィ
ックアート、例えば印刷版におけるカラー分離像に用い
るのに、また抵抗像、例えばプリント回路の製造に用い
るのに適し、ている。
本発明の目的および利点を下記の例により更に説明する
が、これら例に引用された個々の拐料およびその量、な
らびに他の条件および詳細は本発明を不当に制限するも
のと解釈すべきでない。
が、これら例に引用された個々の拐料およびその量、な
らびに他の条件および詳細は本発明を不当に制限するも
のと解釈すべきでない。
例 １
スルホ式すエステルウレタンアクリレートの製造の説明
機械かきまぜ機、還流コンデンサー、および乾燥管、温
度計、および温度制御付油浴を備えた１１三顆フラスコ
中で、１＋０．６１０．１モル）のスルホエステルポリ
オールＡ（下記のように調製する）をビス（４−インシ
アナトフェニル）メタン５０ 、！ｉ’ （０，２モル
）、ジブチルスズジラウレー）０．０３＆、およびメチ
ルエチルケトン１５０ｇへ加える。かきまぜを開始した
とき温度が上昇し始めた。更に加熱してフラスコ内容物
の温度を６０℃に上げ、この温度を４時間保つ。次に、
ペンタエリトリトールトリアクリレート６５９とｐ−メ
トキシフェノール５００ ｐｐｍ （アクリレートに関
して）を加える。更に４時間６０℃においてかきませと
加熱を続ける。この重合体は容易に水に溶け、この溶液
からフィルムとして被覆できまた乾かすと粘着性のない
被覆物になり、そしてこのものは再び水、水酸化す）
ＩＪウム水溶液、メタノール、水性メタノール、アセト
ン、塩化メチレンおよび他の普通の有機溶媒に溶かすこ
とができる。乾燥フィルムは計算平′均分子ｔ２４００
およびアクリル基当置駒４００を有する。
度計、および温度制御付油浴を備えた１１三顆フラスコ
中で、１＋０．６１０．１モル）のスルホエステルポリ
オールＡ（下記のように調製する）をビス（４−インシ
アナトフェニル）メタン５０ 、！ｉ’ （０，２モル
）、ジブチルスズジラウレー）０．０３＆、およびメチ
ルエチルケトン１５０ｇへ加える。かきまぜを開始した
とき温度が上昇し始めた。更に加熱してフラスコ内容物
の温度を６０℃に上げ、この温度を４時間保つ。次に、
ペンタエリトリトールトリアクリレート６５９とｐ−メ
トキシフェノール５００ ｐｐｍ （アクリレートに関
して）を加える。更に４時間６０℃においてかきませと
加熱を続ける。この重合体は容易に水に溶け、この溶液
からフィルムとして被覆できまた乾かすと粘着性のない
被覆物になり、そしてこのものは再び水、水酸化す）
ＩＪウム水溶液、メタノール、水性メタノール、アセト
ン、塩化メチレンおよび他の普通の有機溶媒に溶かすこ
とができる。乾燥フィルムは計算平′均分子ｔ２４００
およびアクリル基当置駒４００を有する。
きれいにした銅板を、水中２０パーセントメチルエチル
ケトン８０ＩＩＬｌ中にスルホエステルポリオールＡの
上記カルバメートアクリレート（カルバメートアクリレ
ートＩと称する）２０ｇとベンゾインエチルエーテル０
．２ 、！９を溶かした溶液で被覆し、空気中で乾かし
て厚さ５マイクロメートルの被榎物を得る。この皮膜を
２０ワンド黒元灯からの紫外線にマスクを通して２分間
露光する。未露光領域は水、メタノールまたは他の通常
溶媒で洗うことにより容易に除去される。露光領域にお
けるウレタンアクリレートＩの存在は、洗浄され露出し
た板を陽イオン性染料の希薄溶液でぬぐうことにより容
易に検出される（Ｍ光領域が染料の色を帯びる）。本発
明ウレタンアクリレートの抵抗材料としての利用性は、
水現像された画像をもつ銅板がウツズ金属浴（Ｗｏｏｄ
ｓ ｍｅｔａｌ ｂａｔｈ ）（これはビスマスと他の
金属混合物とのよく知られた低温融解合金である）中に
２６０℃で少なくとも６０秒間浸すことによって損傷を
受けず、ＨＣＩ含有メタノールの還流浴により損傷を受
けず、そ［７て３０パ一セント塩化第二鉄銅食刻浴にア
ンダーカッティングを起こすことなく耐えるという事実
によって説明される。
ケトン８０ＩＩＬｌ中にスルホエステルポリオールＡの
上記カルバメートアクリレート（カルバメートアクリレ
ートＩと称する）２０ｇとベンゾインエチルエーテル０
．２ 、！９を溶かした溶液で被覆し、空気中で乾かし
て厚さ５マイクロメートルの被榎物を得る。この皮膜を
２０ワンド黒元灯からの紫外線にマスクを通して２分間
露光する。未露光領域は水、メタノールまたは他の通常
溶媒で洗うことにより容易に除去される。露光領域にお
けるウレタンアクリレートＩの存在は、洗浄され露出し
た板を陽イオン性染料の希薄溶液でぬぐうことにより容
易に検出される（Ｍ光領域が染料の色を帯びる）。本発
明ウレタンアクリレートの抵抗材料としての利用性は、
水現像された画像をもつ銅板がウツズ金属浴（Ｗｏｏｄ
ｓ ｍｅｔａｌ ｂａｔｈ ）（これはビスマスと他の
金属混合物とのよく知られた低温融解合金である）中に
２６０℃で少なくとも６０秒間浸すことによって損傷を
受けず、ＨＣＩ含有メタノールの還流浴により損傷を受
けず、そ［７て３０パ一セント塩化第二鉄銅食刻浴にア
ンダーカッティングを起こすことなく耐えるという事実
によって説明される。
１１三顆フラスコに、機械かきまぜ機、窒素掃気、およ
び留出物を受けるためにドライアイス／アセトン浴で冷
却した丸底フラスコを使用する真空蒸留セントを装置す
る。ウンズ金鵜浴を用いて三顆フラスコを加熱する。こ
の三顆フラスコ中にジメチル５−スルホイソフタレート
１４８ｙ（０，５モル）、ｐａｐ −０２００（ユニオ
ン カーバイド コーポレーションから入手できる重量
平均分子量５３０を有するポリカプロラクトンジオール
１．０モル）５３０ｇ、エステル化触媒としてのテトラ
インプロピルチタネー） ０．１３．９ （０，０２重
量パーセント）を入れろ。窒素掃気およびかきまぜを開
始する。フラスコ内容物を２６０℃にし、４時間保持す
ると、この時間中に５０から７５パーセントのメタノー
ル凝縮−物が除かれる。圧力を２０トルに下げ、温度を
２５０℃に上げて２時間保持する。次に系を窒素で再び
満し、低粘性生成物をフラスコから熱いうちに除く。こ
のものは６５０のヒドロキシル当量を有することが判っ
た。
び留出物を受けるためにドライアイス／アセトン浴で冷
却した丸底フラスコを使用する真空蒸留セントを装置す
る。ウンズ金鵜浴を用いて三顆フラスコを加熱する。こ
の三顆フラスコ中にジメチル５−スルホイソフタレート
１４８ｙ（０，５モル）、ｐａｐ −０２００（ユニオ
ン カーバイド コーポレーションから入手できる重量
平均分子量５３０を有するポリカプロラクトンジオール
１．０モル）５３０ｇ、エステル化触媒としてのテトラ
インプロピルチタネー） ０．１３．９ （０，０２重
量パーセント）を入れろ。窒素掃気およびかきまぜを開
始する。フラスコ内容物を２６０℃にし、４時間保持す
ると、この時間中に５０から７５パーセントのメタノー
ル凝縮−物が除かれる。圧力を２０トルに下げ、温度を
２５０℃に上げて２時間保持する。次に系を窒素で再び
満し、低粘性生成物をフラスコから熱いうちに除く。こ
のものは６５０のヒドロキシル当量を有することが判っ
た。
例２〜９ｒ
例１で使用した手順により当量のポリオールおよび相当
する量のイソシアナトアルキルアクリレートを用いてス
ルホエステルポリオールのエチレン性不飽和カルバメー
トエステルをつくる。イソシアナトアルキルアクリレー
トをつくるのに使用した個々のポリオールおよびインシ
アナトアルキルアクリレートを表■に示す。また表ＩＦ
Ｃは各ウレタンアクリレートのアクリル官能基および計
算したアクリル当量も示しである。
する量のイソシアナトアルキルアクリレートを用いてス
ルホエステルポリオールのエチレン性不飽和カルバメー
トエステルをつくる。イソシアナトアルキルアクリレー
トをつくるのに使用した個々のポリオールおよびインシ
アナトアルキルアクリレートを表■に示す。また表ＩＦ
Ｃは各ウレタンアクリレートのアクリル官能基および計
算したアクリル当量も示しである。
例１０
例１の手順に従って各カルバメートアクリレート■〜■
の被覆組成物をつくる。各組成物へメチルバイオレット
２Ｂ塩基０．１ｇを加え、組成物を二軸伸張ポリ（エチ
レンテレフタレート）の７５ｍシート上に被株し、空気
中で乾かして厚さ５マイクロメートルの被覆物を得る。
の被覆組成物をつくる。各組成物へメチルバイオレット
２Ｂ塩基０．１ｇを加え、組成物を二軸伸張ポリ（エチ
レンテレフタレート）の７５ｍシート上に被株し、空気
中で乾かして厚さ５マイクロメートルの被覆物を得る。
各被Φ物を２０ワット黒元灯からの紫外線に８．９（７
）（６，５インチ）の距離でマスクを通して５分間露光
する。被櫟物の未露光領域は水または水性メタノールで
洗浄することにより容易に除去されて露光領域には不溶
性重合体の深青色、強靭な耐摩耗性被覆物が残る。
）（６，５インチ）の距離でマスクを通して５分間露光
する。被櫟物の未露光領域は水または水性メタノールで
洗浄することにより容易に除去されて露光領域には不溶
性重合体の深青色、強靭な耐摩耗性被覆物が残る。
例１１
例１および表Ｉに記載のように、カルバメートアクリレ
ート■２０ｇ、がフ社（ＧＡＦ Ｃａｒｐ、 ）から入
手できるポリ（ビニルピロリドン）２．０．９゜および
メチルパイオレン）２Ｂ塩基（保指示剤として） ０．
０５ 、？の水中２０パ一セントメチルエチルケトン８
Ｑｍｌ溶液から被覆組成物をつくる。２゜４−ビス（ト
リクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−ｇ
−トリアジン（米国特許第３．９５４，４７５号明細書
Ｋ 記載）０．４＃を光開始剤と［、て使用した。この
組成物を絞りロールコータ−を用い粒面陽極処理アルミ
ニウム上に被株し、次に乾燥する。約１．７．９ ／平
方メートルの被借物重量が得られる。この被傑物を真空
フレーム中で炭素アークにニュートラル デンシティ
フィルターおよび陰画を通して４ｏ秒間当てる。水性メ
タノールでぬぐうことにより現像される。
ート■２０ｇ、がフ社（ＧＡＦ Ｃａｒｐ、 ）から入
手できるポリ（ビニルピロリドン）２．０．９゜および
メチルパイオレン）２Ｂ塩基（保指示剤として） ０．
０５ 、？の水中２０パ一セントメチルエチルケトン８
Ｑｍｌ溶液から被覆組成物をつくる。２゜４−ビス（ト
リクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−ｇ
−トリアジン（米国特許第３．９５４，４７５号明細書
Ｋ 記載）０．４＃を光開始剤と［、て使用した。この
組成物を絞りロールコータ−を用い粒面陽極処理アルミ
ニウム上に被株し、次に乾燥する。約１．７．９ ／平
方メートルの被借物重量が得られる。この被傑物を真空
フレーム中で炭素アークにニュートラル デンシティ
フィルターおよび陰画を通して４ｏ秒間当てる。水性メ
タノールでぬぐうことにより現像される。
本発明の各種変法および変更は、本発明の範囲および主
旨から離れることなく当業者にとって明白となるであろ
うが、本発明はここに説明された代表的な具体例に不当
に制限しようとするものでないことは理解されるに違い
ない。
旨から離れることなく当業者にとって明白となるであろ
うが、本発明はここに説明された代表的な具体例に不当
に制限しようとするものでないことは理解されるに違い
ない。
代理人 浅村 皓
Claims (9)
- （１） イ）スルホジカルぜン酸１モル、および、口）
１０００未満の分子量と２から４個の水酸基またはアミ
ン基を有する脂肪族ポリエーテル−またはポリニスデル
−ポリオールまたはポリアミン２モル の反応生成物からなるスルホポリオールまたはスルホポ
リアミンのポリ（エチレン性不飽４゛ロエステルまたは
アミド）であり、２から１８のエチレン性不飽和官能基
およびエチレン性不飽和官゛能基１当たり２５００未満
の当量を有することを特徴とするスルホ化合物。 - （２） イ。 １）スルホジカルｙ１ぐンｃｌｉｔｉモルおよび２）０
から２２個の一〇一原子とＯかも８１ 個の一〇〇−基とにより隔てられた２から１２個の一〇
Ｈ２−基を単位として約５５炭素原子までの飽和直鎖に
付着した２個またはそれ以上の水酸基またはアミン基を
有する脂肪族ポリオールまたはポリアミン〔このポリオ
ールまたはポリアミンは１０００未満の分子量および（
（！＋１）個の水酸基またはアミノ基を有する（Ｃは１
．２、または３の整数である）〕２モルの反応生成物で
あるスルホポリオ−２ルまたはスルホポリアミン；およ
び 口、下記の１）、２）、または′５）のいずれか２０モ
ル、即ち、 １）は （イ） アクリル酸およびメタクリル酸にレラのエステ
ルおよび酸ハロダン化物 を含めて） （ロ） 式 （式中、 Ｒは水素またはメチルであり； Ｒ１は共有結合、−０Ｈ２−または −０Ｈ２０Ｈ２−セあり、 Ｒ２およびＲ３は独立して水素ｆたはメチルである） を有する２−アルケニルア；ぐラクトン；および （ハ）式 ％式％ 〔式中、 ０ １ Ｒ４は共有結合、−０Ｈ２−１−００−Ｒ５−１１ 一０Ｈ２０ＯＮＨ−Ｒ６−１または （式中、 Ｒ５は１個の鎖状酸素原子または 一０ＮＨ基を圧電に含む１から１２炭 素原子の直鎖または分枝鎖であり、 あるいはＲ５は１から４炭素原子を 有する低級アルキル基により任意に 置換された５員または６員炭素環式 基で、この炭素環式基は合計１２個 ！での炭素原子を有し、 Ｒ６は２から１２炭素原子を有する 直鎖または分校アルキレン基、シク ロベンタメ゛チレン基、シクロヘキサ メチレン基、５員または６員アゾ環 弐基、フェニレン基、ナ“フタレン基、フェニレンメチ
レン−７エニレン基、 から選ばれる有機基で、この有機基 は１から４炭素原子を有する４個ま での低級アルキル基（計１５炭素原 子まで）により任意に置換される） ｒである〕 を頁するエチレン性不飽和イソシアネ ート から選ばれる化合物であり；または ２）は式 ％式％ を有するジイソ、シアネートであって、前記スルホポリ
エステルｚｌｔ’リオールと前記ジイソシアネートとの
反応生成物を、次に２Ｃモルの式 〔式中、 ＲおよびＲ６は上で定義した通りであり、Ｒ８は（ａ＋
１）の原−１ｄ、２から１２個の炭素原子、Ｏ−！’た
は１個の非酸化物鎖状酸素原子、および０−ＩＥたは１
１１Ｉ５Ｉの一０ＨＮ−基を有する直鎖または分校アル
キル基、および１から４炭素原子そして合計１２炭素原
子までを有する４個 までの低級アルキル基により任意に置 換された５−または６−原子炭素環式 ４７１造を有する脂環式基から選ばれる多価脂肪族基で
あるが、なるべくは、こ （ＯＨ２）６０−（”’２）ｅ ％ およ゛び（式中、
ｅは１から６の整数である） から選ぶのがよく、そして ａは１．２、または６の整数である〕 を有するエチレン性不飽和アルコールと反応させ；ある
いは ６）は弐■の有機ジイソシアネート１モルと式ｆｆのエ
チレン性不飽和アルコール１モルとの反応生成物である
、 との反応生成物からなるスルホ】１ンリオールまたはス
ルホポリアミンのポリ（エチレン性不飽和エステルまた
はアミｒであり、イ、と０．１）、０．２）、または口
、ろ）との反応後に残存する水酸基、アミノ基、または
インシアネート基は本Ｗ的に存在しない特許請求の範囲
第１項記載のスルホ化合物。 - （３）イ）ポリオールが５−スルホイソフタル酸１モル
とポリ（オキシテトラメチレン）ジオール、ポリ（オキ
シエチレン）グリコール、ぼりカシロラクトンポリオー
ル、およびペンタエリトリトールからなる群から選ばれ
るポリオール２モルとの反応生成物から選ばれ、 口）ジカルざン酸が５−スルホイソフタル酸、６−スル
ホグルタル酸、およびスルホコハク酸から選ばれ、そし
て ハ）ｆ：リアミンがポリオキシエチレンゾーおよびトリ
アミンおよびポリオキシエチレンシーおよびトリアミン
から選ばれる特許請求の範囲第１項および第２項のいず
れか１項に記載のスルホ化合物。 - （４） ご５し５ 〔式中、 Ｒ，Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＣは上で定義した通りであ
り； Ｒ９は６から１２炭素原子を有するアレーントリイル基
（３価ナレーン基）または２から１２炭素原子を有する
アルカントリイル基（３価のアルカン基）で、式 （式中、Ｍは陽イオンである）を有するスルホアレーン
−および−スルホアルカンジカルボン酸からカルボキシ
ル基およびスルホ基を除去した後に残る基であり、 ＲＩＯは０から２２個の一〇一原子および０か１ ら８個の −０Ｃ−基により隔てられた２かも１２個の
−〇Ｈ２−基を単位として約５５炭素原子までの飽和
鎖からなる（０＋１）の原子価を有する線状脂肪族基で
あって、この脂肪族基は１０００未満の分子量を有し、
Ｃは１．２、または６の値をもち、 ３ １ −Ｒ４−ＮＨＯ− Ｃ式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、およびいは上で定義した通
りである）であり、 Ｘは一〇−または−ＮＨ−であり、そしてａは１．２、
または６の整数である〕 から選ばれる式を有する特許請求の範囲第１項から第６
項のいずれか１項に記載のスルホ化合物。 - （５）０ １ イ） Ｒ４が−００−Ｒ５−１ＲＩＯが１０００までの
分子量を有するポリカプロラクトンポリオールまたはポ
リオキシアルキレン−ポリオールから誘導され、そして
Ｒ９が７レーントリイル基であり、ｏ） Ｒ’を誘導す
るジイソシアネートがトルエンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、およびビス（４−インシアナ
トフェニル）メタンから選ばれ、 ハ） Ｒ８が Ｈ２ （式中、θは１から４の整数である）から選ばれる基で
ある特許請求の範囲第２項から第４項までに記載のスル
ホ化合物。 - （６） ’Ｐ！ｊ−許請求の範囲第１項から第５項まで
のいずれか１項に記載のスルホ化合物から生じたエネル
ギー硬化生成物・ ｒ - （７）特許請求の範囲第１項から第６項までのいずれか
１項に記載されたスルホ化合物、水性、水性−有機また
は有機溶媒、および遊離基源からなる組成物。 - （８） 溶１をアクリル酸およびメタクリル酸エステル
から選ぶ特許請求の範囲第７項記載の組成物。 - （９）特許請求の範囲第１項から第８項までのいずれか
１項に記載されたスルホ化合物または組成物の層を有す
る基材０ ＱＯＩ 特許請求の範囲第１項から第５項までに記載の
エネルギー硬化スルホ化合物の層を有する基材。
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