JPS6014739A - 電子線回折装置 - Google Patents

電子線回折装置

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Publication number
JPS6014739A
JPS6014739A JP12285983A JP12285983A JPS6014739A JP S6014739 A JPS6014739 A JP S6014739A JP 12285983 A JP12285983 A JP 12285983A JP 12285983 A JP12285983 A JP 12285983A JP S6014739 A JPS6014739 A JP S6014739A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
deflection
sample
magnetic field
angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12285983A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Tomita
健 富田
Katsuyoshi Ueno
植野 勝義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Nihon Denshi KK filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP12285983A priority Critical patent/JPS6014739A/ja
Publication of JPS6014739A publication Critical patent/JPS6014739A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/295Electron or ion diffraction tubes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子線の試料への入射角及び方位角を変化させ
ることにより試料の電子線回折像を得る装置に関する。
[従来技術] 従来走査電子顕微鏡あるいは電子線走査手段を備えた複
合型電子顕微鏡においては、第1図に示すように、対物
レンズの上方磁界レンズ1aを偏向手段として兼用する
と共に、この上方磁界レンズ1aの上方に二段の偏向コ
イル2a、2bよりなる偏向手段を配置し、図示外の電
子銃より出射した電子線EBをこれら偏向コイル2a、
2bにより偏向して、入射点を固定した状態で入射角θ
及び方位角Φを変化させて試料3に入射せしめ、試料3
によって回折された電子線のうち光軸C方向に出射した
電子を透過電子検出器4により検出し、該検出器4の出
力信号を前記入射角及び方位角の走査に同期走査されて
いる図示外の陰極線管に導入して、試料の電子線回折像
を表示するようにしている。尚、第1図において回折電
子線のうち太線EBoで示されたものは0次の回折線を
表わしている。
又、他の方法としては、第2図に示すように試料3の下
方に偏向コイル5a、5bより成る偏向手段を配置し、
試料3を透過する際に回折された電子線EBをこれら偏
向コイル5a、5bにより偏向して、透過電子検出器4
に入射する電子線の0次の回折線からの傾斜角θ′及び
方位角Φ′を切換えると共に、透過電子検出器4の出力
信号をこの傾斜角e′及び方位角Φ′の走査に同期され
ている図示外の陰極線管に導入して、試料の電子線回折
像を表示するようにしている。尚、第1図において、S
は前方磁界レンズ1aの物点てあり、第2図においてS
−は後方磁界レンズ1bの像点である。
しかしながら、このような従来装置においては、O又は
e−を大きくとると偏向コイル及び対物レンズの収差に
より回折像が歪むため、e又はθ−を大きく取った像を
観察づることはできなかった。
[発明の目的] 本発明はこのような従来の欠点を解決し、人きな角度で
回折された回折像を歪無く表示することのできる電子線
回折装置を提供するものである。
[発明の構成] 本発明は対物レンズの前段に第1の偏向手段を設置し、
該対物レンズの前方磁界レンズを偏向手段として兼用し
、入射点を固定したまま入射角と方位角を変化させて電
子線を試料に入射させるだめの偏向信号を該第1の偏向
手段に供給するだめの手段を設け、対物レンズの後方磁
界レンズを偏向手段として兼用し、対物レンズの後方磁
界レンズの後段には第2の偏向手段を設4′Jると共に
、該第2の偏向手段によって偏向された電子のうち光軸
に沿って進行する電子を検出づ゛るための検出器を設け
、該検出器に大剣り−る電子線の0次の回折線に対する
傾斜角と方位角を変化させるための偏向信号を該第2の
偏向手段に供給するだめの手段を具備することを特徴と
している。
「実施例」 以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
第3図は本発明の一実施例を示すだめのもので、図中5
a、6bは対物レンズ6の前方及び後方磁界レンズであ
り、試料7はこれらレンズ6a、6bの間に配置されて
いる。前方磁界レンズ6aの前段には偏向コイル8a、
8bが配置されでいる。
又後方磁界レンズ6bとレンズ6bの像点S2との間に
は二段の偏向コイル9a、9bが配置されている。偏向
コイル8aと8bは同相の偏向信号が供給された際に、
逆向きに電子線を偏向覆るように互いに逆向きに巻かれ
ている。これは偏向コイル9aと9bの関係にJ3いて
も同様である。11は走査信号発生回路であり、この走
査信号発生回路11は鋸歯状の水平及び垂直走査信号を
発生づる。尚、第4図(a)には簡単のため、この水平
走査信号のみを示している。この走査信号発生回路11
よりの走査信号は増幅器12uにおいて、レンズ6aと
偏向コイル8a、8bの収差が大きくならない限度内の
最大幅面出ツノまで増幅された後、第1の平衡回路13
に供給される。第1の平衡回路13は偏向コイル8aに
より偏向された電子線EBを偏向コイル8bの振り戻し
により、常にあたかも前方磁界レンズ6aの物点s1か
ら発生した電子線が前方磁界レンズ6aに入射づる如く
偏向づ゛るため、偏向コイル8a、8bに供給づる走査
信号の大きさの比率を調節覆るための回路である。又、
走査信号発生回路1′1よりの走査信号は増幅器12d
により後方磁界レンズ6bと偏向コイル9a、9bの収
差が大きくならない限度内の最大偏向出力まで増幅され
た後、第2の平衡回路14に供給される。第2の平衡回
路14は後方磁界レンズ6bによって偏向された回折電
子線のうち、レンズ6bの像点S2に向かう電子線が透
過電子検出器16に入射覆るように偏向コイル9a、9
bに供給する走査信号の大きさの比率を調節するだめの
回路である。又、10a、10b。
15a、15bは増幅器である。透過電子検出器16よ
りの出力信号は増幅器17を介して陰極線管18に輝度
信号として供給されている。この陰極線管18の偏向コ
イルDには前記走査信号発生回路11よりの走査信号が
供給されでいる。
このような構成において、走査信号発生回路11より第
4図(a>に示す水平走査信号と図示してはいないが垂
直走査信号を発生させれば、各々第1.第2の平衡回路
13.14には各々第4図(b)、(G)に示づ毎き走
査信号が供給される・(以下、簡単のため、水平走査信
号のみを示す“)。
そのため、図示外の電子銃よりの電子線EBは偏向コイ
ル8aにより光軸Cから離れる向きに偏向され、偏向コ
イル8bにより、振り戻され、常に前方磁界レンズ6a
の物点S1からの電子線の如く前方磁界レンズ6aに入
射する。従って、電子線EBは試料7にお【ノる入射点
をPに固定した状態において、入射角01及び方位角φ
1が走査される。この点Pから回折された電子線は後方
磁界レンズ6bに入射して偏向された後、偏向コイル9
aによって光軸Cに近付く向きに偏向され、更に偏向コ
イル9bにより振り戻される。この場合、第2の平衡回
路14により偏向コイル9a、9bには前述した比率で
走査信号が供給されているため、試料7から回折された
電子線のうら、レンズ6bにより偏向された後、像点S
2に向かう電子線のみが、検出器16に入射して検出さ
れる。従ッテ、偏向コイル8a、8b、9a、9bに供
給される走査信号の変化に伴なって、透過電子検出器1
6に入射する電子線の0次の回折線に対する傾斜角θ及
び方位角が走査され、この走査に伴なって得られた検出
信号は陰極線管18に供給されるため、陰極線管18に
は試li+ 7の電子線回折像が表示される。ところで
、試料7を透過した直後の電子線のうち透過電子検出器
16に入射J゛る電子線の光軸Cに対する角度を02と
すると、透過電子検出器16には角度 θ=01+02 だけ回折された電子線が検出できることになるため、従
来に比して収差を受番ブずに回折像に取り込める回折角
を格段に大きくすることができる。
尚、上述した実施例tま本発明の一実施例に過ぎず、幾
多の他の変形が考えられる。
例えば、上述した実施例においては、第1の平衡回路と
第2の平衡回路に各々第4図(b)。
(C)に示づような全く相似形の走査信号を供給するよ
うにしたが、例えばこれらの回路に各々第5図(a)、
(b)に示すような走査信号を供給りることにより、こ
れら偏向フィルを交互に走査Jるようにしても良い。
[効果] 上述した説明から明らかなように、本発明においては、
試料の上下で電子線を偏向するようにしているため、大
きな回折角を有する電子線を取り込んで大きな角度の回
折像を歪無く表示づることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来装置を説明するIcめの図、第2図は従来
の伯の装置を説明するだめの図、第3図は本発明の一実
施例を示ずための図、第4図は第3図に示した一実施例
装置の偏向コイルに供給する走査信号を示すだめの図、
第5図は他の実施例における走査信号を例示づるための
図である。 la、6a:前方磁界レンズ、1b、6t):後方磁界
レンズ、2a、2b、5a、5b、8a。 8b、9a、9b:偏向コイル、3.7:試料、4.1
6:透過電子検出器、11:走査信号発生回路、12u
、12d、10a、10b、15a。 15b、17:増幅器、13.1/I:平衡回路、18
:陰極線管、EB:電子線、EBo:0次の回折線。 特許出願人 日本電子株式会社 代表者 9藤 −夫

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 対物レンズの前段に第1の偏向手段を設置し、該対物レ
    ンズの前方磁界レンズを偏向手段として兼用し、入射点
    を固定したまま入射角と方位角を変化させて電子線を試
    料に入射させるための偏向信号を該第1の偏向手段に供
    給するための手段を設け、対物レンズの後方磁界レンズ
    を偏向手段として兼用し、対物レンズの後方磁界レンズ
    の後段には第2の偏向手段を設りると共に、該第2の偏
    向手段によって偏向された電子のうち光軸に沿って進行
    する電子を検出するための検出器を設け、該検出器に入
    射する電子線の0次の回折線に対する傾斜角と方位角を
    変化させるための偏向信号を該第2の偏向手段に供給す
    るだめの手段を具備することを特徴とする電子線回折装
    置。
JP12285983A 1983-07-06 1983-07-06 電子線回折装置 Pending JPS6014739A (ja)

Priority Applications (1)

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JP12285983A JPS6014739A (ja) 1983-07-06 1983-07-06 電子線回折装置

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JP12285983A JPS6014739A (ja) 1983-07-06 1983-07-06 電子線回折装置

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JPS6014739A true JPS6014739A (ja) 1985-01-25

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ID=14846402

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JP12285983A Pending JPS6014739A (ja) 1983-07-06 1983-07-06 電子線回折装置

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JP (1) JPS6014739A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5339848A (en) * 1976-09-23 1978-04-12 Siemens Ag Method of indicating diffractive picture in transmission scanning particle beam microscope
JPS5468150A (en) * 1977-11-11 1979-06-01 Jeol Ltd Electron ray deflector
JPS5576560A (en) * 1978-12-01 1980-06-09 Hitachi Ltd Observation field moving device for electron microscope

Patent Citations (3)

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