JPS60145815A - 離型剤組成物 - Google Patents
離型剤組成物Info
- Publication number
- JPS60145815A JPS60145815A JP237484A JP237484A JPS60145815A JP S60145815 A JPS60145815 A JP S60145815A JP 237484 A JP237484 A JP 237484A JP 237484 A JP237484 A JP 237484A JP S60145815 A JPS60145815 A JP S60145815A
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- same
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- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/54—Nitrogen-containing linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/14—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は離型剤組成物、特に二は一液タイブの室温で基
体表面上に離型性皮膜を形成させることのできる非移行
型の新説な離型剤組成物に関するものである。
体表面上に離型性皮膜を形成させることのできる非移行
型の新説な離型剤組成物に関するものである。
グラスチック、ゴムなどの成形に当っては、目的として
の成形品の型からの取出しを容易こするため、その型の
内面【二金属石けん溶液や各種シリコーンを主剤とする
離型剤を塗布するという方法が汎用化されており、この
離型剤についてはシリコーンオイル、シリコーンクリー
ス、シリコーン゛レジン、シリコーンゴムなどのシリコ
ーン系組成物がすぐれた離型性を示すということから多
方面に使用されている。
の成形品の型からの取出しを容易こするため、その型の
内面【二金属石けん溶液や各種シリコーンを主剤とする
離型剤を塗布するという方法が汎用化されており、この
離型剤についてはシリコーンオイル、シリコーンクリー
ス、シリコーン゛レジン、シリコーンゴムなどのシリコ
ーン系組成物がすぐれた離型性を示すということから多
方面に使用されている。
しかし、このシリコーンオイル、シリコーングリース系
のものは離型面と接触する成形品に離型剤が移行し易い
ために処理サイクルが短かく、得られた成形品の表面が
ハジキ現象を起すために塗料やインクの塗装や印刷が難
しくなるという欠点かあ’Ｊ、シリコーンレジン系のも
のにはそのヨ５な欠点は改善されるもののその処理温度
が高いためにこの処理対象が金属、陶磁器などのような
耐熱性のある基体Ｃ二限定されるという不利がある。ま
た−シリコーンゴム系のものは処理温度の低いものもあ
るが、処理時間が長く、また基体との密着性が劣るとい
う欠点があった。
のものは離型面と接触する成形品に離型剤が移行し易い
ために処理サイクルが短かく、得られた成形品の表面が
ハジキ現象を起すために塗料やインクの塗装や印刷が難
しくなるという欠点かあ’Ｊ、シリコーンレジン系のも
のにはそのヨ５な欠点は改善されるもののその処理温度
が高いためにこの処理対象が金属、陶磁器などのような
耐熱性のある基体Ｃ二限定されるという不利がある。ま
た−シリコーンゴム系のものは処理温度の低いものもあ
るが、処理時間が長く、また基体との密着性が劣るとい
う欠点があった。
本発明はこのような不利を解決したシリコーン系離型剤
組成物に関するもので、これは分子中に２ に＼（二Ｒ，Ｒ，Ｒは水素原子または同種あるいは異種
の非置換または置換１価炭化水素基から選択される基、
ａ、ｂは１．２．３から選択される数）を少なくとも
１個宛含有する有機けい素化合物を主剤としてなること
を特徴とするものである。
組成物に関するもので、これは分子中に２ に＼（二Ｒ，Ｒ，Ｒは水素原子または同種あるいは異種
の非置換または置換１価炭化水素基から選択される基、
ａ、ｂは１．２．３から選択される数）を少なくとも
１個宛含有する有機けい素化合物を主剤としてなること
を特徴とするものである。
すなわち１本発明者らは前記した不利を伴なわないシリ
コーン系離型剤について種々検討した結果、前記した
Ｒ８１０単位と ｆｉ ４−ｆｉ Ｒｂ５ｉ（ＮＲ） 単位をその分子中に二少なく−ｂ とも１個宛有するオルガノシラザンシロキサンポリマー
が室温または若干の加熱で基体との密着性こすぐれた被
膜を短時間で形成し、このようにして得られた皮膜がす
ぐれた離型性を示すということを見出すと共に、これが
接触する物質に移行することも少なく、このようＣ二処
理されたものは離型サイクルが長くなるということを確
認して本発明を完成させた。
コーン系離型剤について種々検討した結果、前記した
Ｒ８１０単位と ｆｉ ４−ｆｉ Ｒｂ５ｉ（ＮＲ） 単位をその分子中に二少なく−ｂ とも１個宛有するオルガノシラザンシロキサンポリマー
が室温または若干の加熱で基体との密着性こすぐれた被
膜を短時間で形成し、このようにして得られた皮膜がす
ぐれた離型性を示すということを見出すと共に、これが
接触する物質に移行することも少なく、このようＣ二処
理されたものは離型サイクルが長くなるということを確
認して本発明を完成させた。
本発明の離型剤組成物を構成する主剤としてのオルガノ
シラザンシロキサンポリマーは例えば−記に同じ、Ｘは
ハロゲン原子−Ｏｌ ｃ ｌ ４− Ｏｌｄ ｌ ４．
０１ ａ ＋ ｄ ｌ ４ ）で示されるオルガノポリ
シロキサンの１種または２種以上と、一般式Ｒ８１Ｘ
に＼（二Ｒは前記（−同じ、Ｘｅ ４−８ はハロゲン原子、ｅは１．１３から選択される数ンで示
されるオルガノ７ランの１種または２種以上との混合物
をアンモニアまたは第１アミンと反応させることＣ二よ
って優ることができる。
シラザンシロキサンポリマーは例えば−記に同じ、Ｘは
ハロゲン原子−Ｏｌ ｃ ｌ ４− Ｏｌｄ ｌ ４．
０１ ａ ＋ ｄ ｌ ４ ）で示されるオルガノポリ
シロキサンの１種または２種以上と、一般式Ｒ８１Ｘ
に＼（二Ｒは前記（−同じ、Ｘｅ ４−８ はハロゲン原子、ｅは１．１３から選択される数ンで示
されるオルガノ７ランの１種または２種以上との混合物
をアンモニアまたは第１アミンと反応させることＣ二よ
って優ることができる。
されるオルガノポリシロキサンは、このＲ１が水素原子
またはメチル基、エチル基、グロビル基。
またはメチル基、エチル基、グロビル基。
ブチル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基などの
アルケニル基、フェニル渉、α−メチルスチレ／基など
のアリール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、さらにこれらの基の炭素原子（二結合した水素原子
の１部または全部をハロゲン原子、シアン基などで置換
したクロロメチル基、３，３．３−）リフルオログロピ
ル基、シアンメチル基などで例示される同種・あるいは
異種の非置換または置換１価炭化水素基から選択され、
０１０１４．０／ｄ１４、ＯＩ Ｏ＋ ｄ ｌ ４とさ
れるものであるが、この。はこのオルガノポリシロキサ
ンから得られオルガノシラザンシロキサ／ポリマーの離
型性の面から１．８〜２．２とし、ｄｌ二ついては七の
硬化速度の点から１．５〜３．５とすることが好ましい
。このようなオルガノポリシロキサンと（ｍは８以上の
正数）が例示されるカζこのような塩素含有線状ポリシ
ロキサンは公知の方法１例えば環状オルガノポリシロキ
サンとジメチルジクａロシラン、エチルジクロロシラン
などのヨウナジクロロオルガノシンンとを酸に二よって
平衡化反応させることによって容易に得ることができる
。
アルケニル基、フェニル渉、α−メチルスチレ／基など
のアリール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、さらにこれらの基の炭素原子（二結合した水素原子
の１部または全部をハロゲン原子、シアン基などで置換
したクロロメチル基、３，３．３−）リフルオログロピ
ル基、シアンメチル基などで例示される同種・あるいは
異種の非置換または置換１価炭化水素基から選択され、
０１０１４．０／ｄ１４、ＯＩ Ｏ＋ ｄ ｌ ４とさ
れるものであるが、この。はこのオルガノポリシロキサ
ンから得られオルガノシラザンシロキサ／ポリマーの離
型性の面から１．８〜２．２とし、ｄｌ二ついては七の
硬化速度の点から１．５〜３．５とすることが好ましい
。このようなオルガノポリシロキサンと（ｍは８以上の
正数）が例示されるカζこのような塩素含有線状ポリシ
ロキサンは公知の方法１例えば環状オルガノポリシロキ
サンとジメチルジクａロシラン、エチルジクロロシラン
などのヨウナジクロロオルガノシンンとを酸に二よって
平衡化反応させることによって容易に得ることができる
。
また、前記した一般式 Ｒ１３１Ｘ で示され（Ｂ ４
−９ るオルガノシランは−このＲ２が水素原子または上記し
たＲ１ と同一の同種あるいは異種の非置換または置換
１価炭化水素から選択され−ｅが１，２−３から選択さ
れる数とされるものであるが、これに（まテト２りロロ
シラ′ン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン−トリメチルクロロシラ／、エチルトリクロロン
２ン、ジエチルジクロロシラン、グロビルトリクａＯシ
ラ／、グａビルメチルジクロロシラン、ビニルトリクａ
ロシラン、アリルトリクロロン２ン、フエニルトリクａ
ａフ２ン、ジフェニルジクσａシ２ン、トリフルオログ
ロピルトリクａロシランなどが例示される。
−９ るオルガノシランは−このＲ２が水素原子または上記し
たＲ１ と同一の同種あるいは異種の非置換または置換
１価炭化水素から選択され−ｅが１，２−３から選択さ
れる数とされるものであるが、これに（まテト２りロロ
シラ′ン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン−トリメチルクロロシラ／、エチルトリクロロン
２ン、ジエチルジクロロシラン、グロビルトリクａＯシ
ラ／、グａビルメチルジクロロシラン、ビニルトリクａ
ロシラン、アリルトリクロロン２ン、フエニルトリクａ
ａフ２ン、ジフェニルジクσａシ２ン、トリフルオログ
ロピルトリクａロシランなどが例示される。
このオルガノポリシロキサンとオルガノシランとの反応
はこれらを適宜の有機溶剤に溶解させ。
はこれらを適宜の有機溶剤に溶解させ。
これＣニアンそニアまたは第１アミンを接触反応させれ
ばよく、この第１アミンとしてはＮＲで示されこのＲが
前記したＲ と同一の同種あるいは異種の非置換または
置換１価炭化水素から選択されるメチルアミン、エチレ
ンアミン、ブチルアミンなどが例示されるが、これは合
成の容易さからアンモニアとすることがよい。またーこ
の有機溶剤としてはアンモニアガス、第１アミンに対し
て不活性で生成するオルガノシラザンシロキサ／ポリマ
ーをよく溶かすものがよく、ジクロロエタン。
ばよく、この第１アミンとしてはＮＲで示されこのＲが
前記したＲ と同一の同種あるいは異種の非置換または
置換１価炭化水素から選択されるメチルアミン、エチレ
ンアミン、ブチルアミンなどが例示されるが、これは合
成の容易さからアンモニアとすることがよい。またーこ
の有機溶剤としてはアンモニアガス、第１アミンに対し
て不活性で生成するオルガノシラザンシロキサ／ポリマ
ーをよく溶かすものがよく、ジクロロエタン。
トリクロロエタン、メチレンクロライド、テトラハイド
ロフラン、ベンゼン、トルエン−キシレンなどが例示さ
れる。なお、この反応は発熱反応であるが１通常は０〜
５０℃で反応温度を制御しながら行えばよい。また、上
記した末端塩素含有オルガノポリシロキサンと塩素含有
オルガノシランの配合比はこの反応で得られるオルガノ
シラザンシロキサ／ポリマー中でのシロキサン単位が５
０モル係を超えると硬化速度が遅くなるし、接着性もわ
るくなり、また７０キサ／単位が５チモル以下では離型
性かわるくなるので、このオルガノポリシロキサン成分
が５０〜５モル−〇範囲となるようにすることがよい。
ロフラン、ベンゼン、トルエン−キシレンなどが例示さ
れる。なお、この反応は発熱反応であるが１通常は０〜
５０℃で反応温度を制御しながら行えばよい。また、上
記した末端塩素含有オルガノポリシロキサンと塩素含有
オルガノシランの配合比はこの反応で得られるオルガノ
シラザンシロキサ／ポリマー中でのシロキサン単位が５
０モル係を超えると硬化速度が遅くなるし、接着性もわ
るくなり、また７０キサ／単位が５チモル以下では離型
性かわるくなるので、このオルガノポリシロキサン成分
が５０〜５モル−〇範囲となるようにすることがよい。
このようにして得られたオルガノシラザンシロキサンポ
リマーは処理対象物の種類、用途に応じて濃縮あるいは
溶剤などでさらＬ二梯釈して離型剤組成物とされるが−
この濃度はオルガノシラザンシロキサンポリマーが０．
１〜１０％となるようシニジク口口エタン、トリクロロ
エタン−メチレンクロライドなどの塩素系溶剤、トルエ
ン−キシレンエーテル、ヘキサンなどで適宜調整すれば
よい。
リマーは処理対象物の種類、用途に応じて濃縮あるいは
溶剤などでさらＬ二梯釈して離型剤組成物とされるが−
この濃度はオルガノシラザンシロキサンポリマーが０．
１〜１０％となるようシニジク口口エタン、トリクロロ
エタン−メチレンクロライドなどの塩素系溶剤、トルエ
ン−キシレンエーテル、ヘキサンなどで適宜調整すれば
よい。
この離型剤組成物は刷毛塗す−ロール塗り、噴霧。
浸漬などの方法で処理すべき基体表面（二塗布し、室温
または若干の加熱で溶剤を揮発させると室温下でも１０
分以内に硬化して１ｉｉＩｌ型性皮膜を与えるが、この
皮膜は接触する相手物質に移行することがなく、基体表
面への密着性にもすぐれているので、繰り返しの離型Ｃ
二耐えるという有利性が与えられる。
または若干の加熱で溶剤を揮発させると室温下でも１０
分以内に硬化して１ｉｉＩｌ型性皮膜を与えるが、この
皮膜は接触する相手物質に移行することがなく、基体表
面への密着性にもすぐれているので、繰り返しの離型Ｃ
二耐えるという有利性が与えられる。
本発明の離型剤組成物はガラス、木旧、プラスチック、
金属、コンクリートなどの表面をν！Ｉｔ ｊｒ性に二
するといつ用ＪＣ二有用とされるが、これはまた連続使
用によって離帛性の低下したシリコーン処理をした各種
基体の再処理にも有用とされるので。
金属、コンクリートなどの表面をν！Ｉｔ ｊｒ性に二
するといつ用ＪＣ二有用とされるが、これはまた連続使
用によって離帛性の低下したシリコーン処理をした各種
基体の再処理にも有用とされるので。
離紙の製造−鋳物工場などに広く利用することができる
。
。
つぎに本発明の実施例をあげるが、例中における部１％
は重量部１重量部を示したものであり。
は重量部１重量部を示したものであり。
例中の離型性はっぎの判定基準による結果を示したもの
である。
である。
（離型性判定基準］
Ｏ・・・ 離型性良好
△・・・ 離型はするがや＼重いカが必要×・・・ 配
漕せず一樹脂が破壊する くり返し回数 ・・・ 皮膜形成離型剤上での連続成形回数実施例１ メチルトリクロロシラン８８．８９１とジメチルシロキ
サン単位を３３個有する末端塩素含有ジメチルポリシロ
キサン１１．２％の混合物４０ｊｉｒ と−塩化メチレ
ン４００ゴとを反応容器に仕込み、５℃に冷却し、これ
に冷却を続け／、ｃがら２０℃でアンモニヤガスを吹込
み４時間反応させたのち。
漕せず一樹脂が破壊する くり返し回数 ・・・ 皮膜形成離型剤上での連続成形回数実施例１ メチルトリクロロシラン８８．８９１とジメチルシロキ
サン単位を３３個有する末端塩素含有ジメチルポリシロ
キサン１１．２％の混合物４０ｊｉｒ と−塩化メチレ
ン４００ゴとを反応容器に仕込み、５℃に冷却し、これ
に冷却を続け／、ｃがら２０℃でアンモニヤガスを吹込
み４時間反応させたのち。
３０分間加熱還流させて液中に溶解していた過剰のアン
モニアを除去し、冷却後副生じた塩化アンモニウムなｒ
過したところ。
モニアを除去し、冷却後副生じた塩化アンモニウムなｒ
過したところ。
とを主骨格とするメチルシラザンジメチルポリシロキサ
ンポリマーが得られた。
ンポリマーが得られた。
つぎに−この液状生成物を不押発分が１チとなるように
塩化メチレンで稀釈して離型剤組成物を作り、これを基
体上ｇ二墜布して２時間放置したところ、この基体上に
シリコーン皮膜が形成されたので、これを試料として下
記の３種の樹脂成形品ｉ二ついての離型性をしらべたと
ころ、後シピする第１表区二示したとおりの結果が優ら
れた。
塩化メチレンで稀釈して離型剤組成物を作り、これを基
体上ｇ二墜布して２時間放置したところ、この基体上に
シリコーン皮膜が形成されたので、これを試料として下
記の３種の樹脂成形品ｉ二ついての離型性をしらべたと
ころ、後シピする第１表区二示したとおりの結果が優ら
れた。
樹脂成形品
ｌ） ウレタン樹脂
ボリグロピレングリコールトリオール
（分子毎３，０００ン ２０部
ポリグロピレングリコールボリオール
ｅアクトコ−）５２−４６０
（武田薬工社製商品名） ８０部
フレオン−１１
（米国シュボン社製商品名２１０部
ポリインシアネート・ミリオネートＭＲ（日本ポリウレ
タン社製商品名）９６．５部テトラメチルヘキサジアミ
ン １．０部を均−ｇ二混合した後、これを５０℃に加
熱した上記の離型剤処理をした型Ｃ二注型して発泡７オ
ーム化させ、室温で１時間硬化させて脱型した。
タン社製商品名）９６．５部テトラメチルヘキサジアミ
ン １．０部を均−ｇ二混合した後、これを５０℃に加
熱した上記の離型剤処理をした型Ｃ二注型して発泡７オ
ーム化させ、室温で１時間硬化させて脱型した。
２） エポキシ樹脂
エポキシ樹脂・エピコート８２８（シェル化学社製商品
名）１００部ｇ＝トリエチレンテト２ミン１２部を均一
に混合したのち、これを上記の離型剤処理したアルミ皿
中に注型し、これを室温で２時間、さらＣ１１１５℃に
３０分間加熱して硬化させてから、脱型した。
名）１００部ｇ＝トリエチレンテト２ミン１２部を均一
に混合したのち、これを上記の離型剤処理したアルミ皿
中に注型し、これを室温で２時間、さらＣ１１１５℃に
３０分間加熱して硬化させてから、脱型した。
３） アイオノマー樹脂
アイオノマー樹脂（米国デュポン社製問品名）を前記離
型剤で処理したみがき鋼板上にのせ。
型剤で処理したみがき鋼板上にのせ。
１５０℃で３０分間加熱して溶融させ−その離型性をテ
ストした。
ストした。
実施例２゜
メチルトリクロロシラン５７．４％、ジメチルジクロミ
ツ２ン３２％およびジメチルシロキサン単位を３００個
有する末端塩素含有ジメチルポリシロキサン９．６係と
からなる混合物４０ ｇｒ に塩化メチレン４００７ｄ
を添加し、実施例１と同様ｌ二処理したところ、無色透
明な液状物が得られたが。
ツ２ン３２％およびジメチルシロキサン単位を３００個
有する末端塩素含有ジメチルポリシロキサン９．６係と
からなる混合物４０ ｇｒ に塩化メチレン４００７ｄ
を添加し、実施例１と同様ｌ二処理したところ、無色透
明な液状物が得られたが。
このものは分析の結果。
を主骨格とするメチルシラザンメチルシロキサンポリマ
ーであることが確認された。
ーであることが確認された。
つぎにこの生成物を実施例１と同様に塩化メチレンで稀
釈して離型剤組成物を作り、これ（二ついて実施例１と
同様の離型性テストを行なったところ、後記する第１表
５二示したとおりの結果が得られた。
釈して離型剤組成物を作り、これ（二ついて実施例１と
同様の離型性テストを行なったところ、後記する第１表
５二示したとおりの結果が得られた。
比較例
メチルトリクロロワ２ン４０Ｉと塩化メチレン４００ｄ
とから実施例１と同じ方法でシラザン化合物を作ったと
ころ、ＯＨ８１（ＮＨ） を土管３１．５ 格とする無色透明な生成物が優られ、これを塩化メチレ
ンで１チ（二稀釈して得た１・；１型剤組成物の離型性
を実施例１と同じ方法でしらべたところ、つぎの第１ｆ
ｉｌ二示したとおりの結果が得られた。
とから実施例１と同じ方法でシラザン化合物を作ったと
ころ、ＯＨ８１（ＮＨ） を土管３１．５ 格とする無色透明な生成物が優られ、これを塩化メチレ
ンで１チ（二稀釈して得た１・；１型剤組成物の離型性
を実施例１と同じ方法でしらべたところ、つぎの第１ｆ
ｉｌ二示したとおりの結果が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 分子中ｌ二ＲＳｉＯ巣位と ａ ４−ａ に＼にＲ−Ｒ＝Ｒは水素原子または同種あるいは異種の
非置換または置換１価炭化水素から選択される基、ａ、
ｂは１−２．３から選択される数）を少なくとも１個宛
含有する有機げい素化合物を主剤としてなることを特徴
とする離型剤組成物。 ２、有機けい素化合物が一般式 ％式％（） に＼にＲ１は水素原子または同種ある、いは異種の非置
換または置換１価炭化水素基から選択される基、Ｘはハ
ロゲン原子、０／ｃ／４．Ｏ１ｄ／４．Ｏ１ｃ＋ｄ／４
）で示されるオルガノボリシａキサンの１種または２
種以上と、一般式 ＲＳｉＸ に−にＲは水素原子ま ｅ ４−８ たは同種あるいは異種の非置換または置換１価炭化水素
基から選択される基−Ｘはハロゲン原子、ｅは１．２．
３から選択される数ンで示されるオルガノシラ／の１種
または２種以上との混合物をアンモニアまたは第１アミ
ンと反応させて得られるものである特許請求の範囲第１
項記載の離型剤組成物。 ３、有機けい素化合物が一般式 にローＲ１は水素原子または同種あるいは異種の非置換
または置換１価炭化水素基から選択される基、 １ｍは
８以上の正数ノ で示されるオルガノポリシロキサンの１棟または２種以
上と、一般式 Ｒ８１Ｘ に＼ｅ ４−（３ ｃｕ２ は水素原子または同種あるいは異種の非置換ま
たは置換１価炭化水素基から選択される基−Ｘはハロゲ
ン原子、ｅは１．２．３から選択される数〕で示される
オルガノシランの１種または２種以上との混合物をアン
モニアまたは第１アミンと反応させて得られるものであ
る特許請求の範囲第１項記載の離型剤組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP237484A JPS60145815A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 離型剤組成物 |
| US06/834,906 US4678688A (en) | 1983-12-28 | 1986-02-28 | Method for forming a surface film of cured organosilicon polymer on a substrate surface |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP237484A JPS60145815A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 離型剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145815A true JPS60145815A (ja) | 1985-08-01 |
| JPH0311248B2 JPH0311248B2 (ja) | 1991-02-15 |
Family
ID=11527470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP237484A Granted JPS60145815A (ja) | 1983-12-28 | 1984-01-10 | 離型剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145815A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1984
- 1984-01-10 JP JP237484A patent/JPS60145815A/ja active Granted
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| JPH0311248B2 (ja) | 1991-02-15 |
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