JPS60145374A - 気相蒸着膜の強化方法 - Google Patents
気相蒸着膜の強化方法Info
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- JPS60145374A JPS60145374A JP174184A JP174184A JPS60145374A JP S60145374 A JPS60145374 A JP S60145374A JP 174184 A JP174184 A JP 174184A JP 174184 A JP174184 A JP 174184A JP S60145374 A JPS60145374 A JP S60145374A
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- JP
- Japan
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- film
- deposited film
- vapor
- vapor deposition
- hydrostatic pressure
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5806—Thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/58—After-treatment
-
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/56—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F17/00—Multi-step processes for surface treatment of metallic material involving at least one process provided for in class C23 and at least one process covered by subclass C21D or C22F or class C25
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Thermal Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は化学気相熱＠（ＣＶＤ） 、物理気相蒸着（Ｐ
ＶＤ）により形成された蒸着膜の熱間静水圧圧縮による
強化方法に関するものである。 従来ＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法により形成された蒸着膜
は、歪あるいはクラックの除去のために熱処理がおこな
われてきた。しかしながら表面および内部に残留した空
孔は単なる熱処理では除去されず、それに起因して素材
の曲げ強度・捩れ強度・剪断強度が低下し、形成膜にク
ラックが発生することがあり、その強度の大幅な改善に
は到らなかった。 本発明はこの点を鑑みて、化学気相熱Ｗ（ＣＶＤ）、物
理気相蒸着（ＰＶＤ）により形成された蒸着膜に、熱間
静水圧圧縮処理を加えることにより、蒸着膜表面および
内部に残留した空孔を除去し緻密化させることを目的と
覆る。 次に本発明を説明する。本発明はＢ、 ｓｉ、 ｒｔ。 Ｂｅまたは Ｂ４ Ｃ、ＴｉＣ、ＴｉＮ 、Ａｌ１０
３ 、ＳｉＣ。 Ｓ！３Ｎ４．８Ｎ等高硬度無機材料からなる素材をＣＶ
Ｄ法あるいはＰＶＤ法により蒸着膜として形成し、しか
る後チタン（Ｔｉ）スポンジ等の酸素ゲッターを内部に
配した熱間静水圧圧縮機内に配置し、高真空にした後、
ゼオライト等の酸素。 窒素ゲッターを通した、純度９９．９９９％以上の不活
性ガス雰囲気中で、３０〜２ 、０ＯＯＫ！？ ／ ｃ
ｍの熱間静水圧圧縮により緻密化することを特徴とした
ものである。気相蒸着した素材を耐熱カプセルに封入し
て熱間静水圧圧縮をすれば、特に表面に残留し開孔して
いる空孔の除去に効果的である。数値限定理由としては
熱間静水圧圧縮工程において、不活性ガスの純度が９９
，９９９％以上でないと蒸着膜が酸化あるいは窒化して
強度が低下してしまうためであり、それゆえチタンスポ
ンジおよびＬオライド等の酸素、窒素ゲッターを必要ど
し、また圧ノコが３０ Ｋ９ ／ ｏｎ未満では緻密化
されず、２ 、０００に９／ ｃｉを越え二ど形成体が
外部と反応してしまうからである。次に本発明の実施例
を詳述する。
ＶＤ）により形成された蒸着膜の熱間静水圧圧縮による
強化方法に関するものである。 従来ＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法により形成された蒸着膜
は、歪あるいはクラックの除去のために熱処理がおこな
われてきた。しかしながら表面および内部に残留した空
孔は単なる熱処理では除去されず、それに起因して素材
の曲げ強度・捩れ強度・剪断強度が低下し、形成膜にク
ラックが発生することがあり、その強度の大幅な改善に
は到らなかった。 本発明はこの点を鑑みて、化学気相熱Ｗ（ＣＶＤ）、物
理気相蒸着（ＰＶＤ）により形成された蒸着膜に、熱間
静水圧圧縮処理を加えることにより、蒸着膜表面および
内部に残留した空孔を除去し緻密化させることを目的と
覆る。 次に本発明を説明する。本発明はＢ、 ｓｉ、 ｒｔ。 Ｂｅまたは Ｂ４ Ｃ、ＴｉＣ、ＴｉＮ 、Ａｌ１０
３ 、ＳｉＣ。 Ｓ！３Ｎ４．８Ｎ等高硬度無機材料からなる素材をＣＶ
Ｄ法あるいはＰＶＤ法により蒸着膜として形成し、しか
る後チタン（Ｔｉ）スポンジ等の酸素ゲッターを内部に
配した熱間静水圧圧縮機内に配置し、高真空にした後、
ゼオライト等の酸素。 窒素ゲッターを通した、純度９９．９９９％以上の不活
性ガス雰囲気中で、３０〜２ 、０ＯＯＫ！？ ／ ｃ
ｍの熱間静水圧圧縮により緻密化することを特徴とした
ものである。気相蒸着した素材を耐熱カプセルに封入し
て熱間静水圧圧縮をすれば、特に表面に残留し開孔して
いる空孔の除去に効果的である。数値限定理由としては
熱間静水圧圧縮工程において、不活性ガスの純度が９９
，９９９％以上でないと蒸着膜が酸化あるいは窒化して
強度が低下してしまうためであり、それゆえチタンスポ
ンジおよびＬオライド等の酸素、窒素ゲッターを必要ど
し、また圧ノコが３０ Ｋ９ ／ ｏｎ未満では緻密化
されず、２ 、０００に９／ ｃｉを越え二ど形成体が
外部と反応してしまうからである。次に本発明の実施例
を詳述する。
【実施例】化学気相蒸着法により肉厚５０膚のボロンチ
ューブを作成し、これをチタンスポンジを内部に配した
熱間静水圧圧縮機内に配冒し、１０−’ 丁ｏｒｒの高
真空にした後、ゼオライトを通した純度９９．９９９％
のアルゴンガス雰囲気中で５７０Ｋｇ ／ ｃｍに加圧
し、１，２５０℃に昇温することニにす、２，０ＯＯＫ
！？、／ｃｆｆ１．２時間保持し、その後冷却した。そ
の結果ボロンチューブの歪あるいはクラックが除去され
ると共に、蒸着膜表面および内部に残留した空孔が除去
されて緻密化し、また結晶粒界に存在する異相が拡散さ
れて結晶相互の結合力が強固になり、蒸着膜表面の酸化
。 窒化による異相の析出が極少になることにより、素］オ
の曲げ強度・捩れ強度・剪断強度が大ぎく向上するよう
になった。 本発明は平面状薄膜だ（）で’＜ｒ ＜、曲面状である
薄肉パイプにも応用でき、薄膜磁気記録再生ヘッド、ス
ピーカー用振動板、ピックアップ・カー１−リッジ用カ
ンチレバー、圧電素子等の素材に最適である。 特許出願人 並木精密宝石株式会社
ューブを作成し、これをチタンスポンジを内部に配した
熱間静水圧圧縮機内に配冒し、１０−’ 丁ｏｒｒの高
真空にした後、ゼオライトを通した純度９９．９９９％
のアルゴンガス雰囲気中で５７０Ｋｇ ／ ｃｍに加圧
し、１，２５０℃に昇温することニにす、２，０ＯＯＫ
！？、／ｃｆｆ１．２時間保持し、その後冷却した。そ
の結果ボロンチューブの歪あるいはクラックが除去され
ると共に、蒸着膜表面および内部に残留した空孔が除去
されて緻密化し、また結晶粒界に存在する異相が拡散さ
れて結晶相互の結合力が強固になり、蒸着膜表面の酸化
。 窒化による異相の析出が極少になることにより、素］オ
の曲げ強度・捩れ強度・剪断強度が大ぎく向上するよう
になった。 本発明は平面状薄膜だ（）で’＜ｒ ＜、曲面状である
薄肉パイプにも応用でき、薄膜磁気記録再生ヘッド、ス
ピーカー用振動板、ピックアップ・カー１−リッジ用カ
ンチレバー、圧電素子等の素材に最適である。 特許出願人 並木精密宝石株式会社
Claims (1)
- 化学気相蒸着あるいは物理気相蒸着により形成された蒸
着膜において、該形成膜を酸素ゲッターを内部に配した
熱間静水圧圧縮機内に配置し高真空にした後、酸素、窒
素ゲッターを通した純度９９．９９９％以上の不活性ガ
ス雰囲気中で、３０〜２ 、０００Ｋｇ／’ｃｍの熱間
静水圧圧縮により緻密化することを特徴とした気相蒸着
膜の強化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP174184A JPS60145374A (ja) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | 気相蒸着膜の強化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP174184A JPS60145374A (ja) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | 気相蒸着膜の強化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145374A true JPS60145374A (ja) | 1985-07-31 |
Family
ID=11509986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP174184A Pending JPS60145374A (ja) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | 気相蒸着膜の強化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145374A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61199067A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-03 | Kyocera Corp | 被覆部材の製造方法 |
| JPS63274295A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-11 | Yamaha Corp | 音響機器用振動板の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335545A (en) * | 1976-09-11 | 1978-04-03 | Philips Nv | Electrophotographic recording meterial and method of preparing same |
| JPS55131103A (en) * | 1979-03-31 | 1980-10-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Production of high-purity sintered body by hot hydrostatic press |
-
1984
- 1984-01-09 JP JP174184A patent/JPS60145374A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335545A (en) * | 1976-09-11 | 1978-04-03 | Philips Nv | Electrophotographic recording meterial and method of preparing same |
| JPS55131103A (en) * | 1979-03-31 | 1980-10-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Production of high-purity sintered body by hot hydrostatic press |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61199067A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-03 | Kyocera Corp | 被覆部材の製造方法 |
| JPH0765176B2 (ja) * | 1985-02-28 | 1995-07-12 | 京セラ株式会社 | 被覆部材の製造方法 |
| JPS63274295A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-11 | Yamaha Corp | 音響機器用振動板の製造方法 |
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