JPH10324530A - ガラス成形用金型 - Google Patents
ガラス成形用金型Info
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- JPH10324530A JPH10324530A JP13204397A JP13204397A JPH10324530A JP H10324530 A JPH10324530 A JP H10324530A JP 13204397 A JP13204397 A JP 13204397A JP 13204397 A JP13204397 A JP 13204397A JP H10324530 A JPH10324530 A JP H10324530A
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- JP
- Japan
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- glass
- nitride
- films
- mold
- film
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/12—Ceramics or cermets, e.g. cemented WC, Al2O3 or TiC
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/22—Non-oxide ceramics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 繰り返しガラス成形を行っても従来のような
保護膜剥離といったことが問題とならない耐久性に優れ
たガラス成形用金型を提供すること。 【解決手段】 膜中の酸素濃度が８ａｔｏｍｉｃ％未満
の窒素化合物膜を表面に有するガラス成形用金型。
保護膜剥離といったことが問題とならない耐久性に優れ
たガラス成形用金型を提供すること。 【解決手段】 膜中の酸素濃度が８ａｔｏｍｉｃ％未満
の窒素化合物膜を表面に有するガラス成形用金型。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス成形用金型、
さらに詳しくは光学レンズをリヒートプレス法で製造す
るに適したガラス成形用金型に関する。
さらに詳しくは光学レンズをリヒートプレス法で製造す
るに適したガラス成形用金型に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から各種のガラス成形用金型が提案
されており、いずれの金型も離型性を良好にして金型寿
命を延ばすためにその表面に保護膜を設けることが通常
行われている。その保護膜の材料には高温の成形環境下
で化学的に安定であり、かつガラスと反応しないものが
使用されている。そのようなものとして、例えば窒化ホ
ウ素（ＢＮ）、窒化チタニウム（ＴｉＮ）、窒化クロム
（ＣｒＮ）等の窒化物が有効と言われている。
されており、いずれの金型も離型性を良好にして金型寿
命を延ばすためにその表面に保護膜を設けることが通常
行われている。その保護膜の材料には高温の成形環境下
で化学的に安定であり、かつガラスと反応しないものが
使用されている。そのようなものとして、例えば窒化ホ
ウ素（ＢＮ）、窒化チタニウム（ＴｉＮ）、窒化クロム
（ＣｒＮ）等の窒化物が有効と言われている。
【０００３】例えば、特開昭６３−９５１２９号公報で
は、「少なくとも表面の一部が窒化物またはホウ素含有
物を主成分とした材料からなる膜・・・ＢＮ」と記載さ
れている。
は、「少なくとも表面の一部が窒化物またはホウ素含有
物を主成分とした材料からなる膜・・・ＢＮ」と記載さ
れている。
【０００４】しかしながら、窒化ホウ素については具体
的な成膜方法や膜の構造が述べられていない。実施例中
には窒化チタニウムと窒化クロムを物理的蒸着法（ＰＶ
Ｄ）で作製したこと、化学的蒸着法（ＣＶＤ法）でも可
能であるという表現に留まっている。
的な成膜方法や膜の構造が述べられていない。実施例中
には窒化チタニウムと窒化クロムを物理的蒸着法（ＰＶ
Ｄ）で作製したこと、化学的蒸着法（ＣＶＤ法）でも可
能であるという表現に留まっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ガラス成形用金型の保
護膜として有効といわれている従来の窒化物は、実際に
はその組成が化学量論に合致しているわけではなく、膜
中には１０％（ａｔｏｍｉｃ％、以下同じ）程度の酸素
が含まれている。このような酸素原子を含有する窒化物
の保護膜を有する金型で成形を行うと、成形時に金型が
ガラスと融着してしまうという問題があった。本発明は
上記事情に鑑みなされたものであり、ガラス成形時に金
型とガラスとの融着が生じない窒化物を保護膜として有
する光学レンズ用金型を提供することを目的とする。
護膜として有効といわれている従来の窒化物は、実際に
はその組成が化学量論に合致しているわけではなく、膜
中には１０％（ａｔｏｍｉｃ％、以下同じ）程度の酸素
が含まれている。このような酸素原子を含有する窒化物
の保護膜を有する金型で成形を行うと、成形時に金型が
ガラスと融着してしまうという問題があった。本発明は
上記事情に鑑みなされたものであり、ガラス成形時に金
型とガラスとの融着が生じない窒化物を保護膜として有
する光学レンズ用金型を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は膜中
の酸素濃度が８ａｔｏｍｉｃ％未満の窒素化合物膜を表
面に有するガラス成形用金型に関する。このように窒化
物の膜中の酸素成分を８％未満とし、組成を化学量論に
できるだけ近づけることで、成形時の膜中の酸素成分の
ガラスとの反応を押さえ成形時のガラスと金型との融着
を回避することができる。
の酸素濃度が８ａｔｏｍｉｃ％未満の窒素化合物膜を表
面に有するガラス成形用金型に関する。このように窒化
物の膜中の酸素成分を８％未満とし、組成を化学量論に
できるだけ近づけることで、成形時の膜中の酸素成分の
ガラスとの反応を押さえ成形時のガラスと金型との融着
を回避することができる。
【０００７】本発明の処理が可能なガラス成形用金型の
母材としては、従来からガラス成形用の金型母材として
使用されている母材、例えば炭化珪素（ＳｉＣ）、超硬
合金（ＷＣ−Ｃｏ系、ＷＣ−ＴｉＣ−Ｃｏ系他、遷移元
素系列の炭化物と鉄族金属を配合した後、焼結させて製
造される合金）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、窒化ホウ素
（ＢＮ）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ステンレス（ＳＵＳ
３０４他）等が挙げられるが、これらのうち、炭化珪
素、超硬合金、窒化珪素が金型母材として使用すること
が好ましい。
母材としては、従来からガラス成形用の金型母材として
使用されている母材、例えば炭化珪素（ＳｉＣ）、超硬
合金（ＷＣ−Ｃｏ系、ＷＣ−ＴｉＣ−Ｃｏ系他、遷移元
素系列の炭化物と鉄族金属を配合した後、焼結させて製
造される合金）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、窒化ホウ素
（ＢＮ）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ステンレス（ＳＵＳ
３０４他）等が挙げられるが、これらのうち、炭化珪
素、超硬合金、窒化珪素が金型母材として使用すること
が好ましい。
【０００８】上記の成形用金型保護膜として有効な窒素
酸化物は、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化アルミニウム（Ａ
ｌＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（ＣｒＮ）
等である。
酸化物は、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化アルミニウム（Ａ
ｌＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（ＣｒＮ）
等である。
【０００９】上述の金型母材と金型保護膜とは、いずれ
の組み合わせを選択してもよく、例えば、窒化ホウ素
（ＢＮ）を母材とする金型に、窒化ホウ素（ＢＮ）の保
護膜を組み合わせてもよい。
の組み合わせを選択してもよく、例えば、窒化ホウ素
（ＢＮ）を母材とする金型に、窒化ホウ素（ＢＮ）の保
護膜を組み合わせてもよい。
【００１０】上記のような保護膜材料の薄膜を金型母材
表面上に形成するためには、保護膜材料を一般的なマグ
ネトロンスパッタ法や真空蒸着法を適用すればよく、そ
の際、（１）水素雰囲気で成膜する、（２）成膜後、水
素雰囲気でアニールする、（３）成膜後、水素プラズマ
で処理を行う、または（４）超高真空（１０-7Ｔｏｒｒ
以下）で成膜を行ない、５００〜３００００Å、好まし
くは１０００〜１００００Åの膜厚の保護膜を形成す
る。
表面上に形成するためには、保護膜材料を一般的なマグ
ネトロンスパッタ法や真空蒸着法を適用すればよく、そ
の際、（１）水素雰囲気で成膜する、（２）成膜後、水
素雰囲気でアニールする、（３）成膜後、水素プラズマ
で処理を行う、または（４）超高真空（１０-7Ｔｏｒｒ
以下）で成膜を行ない、５００〜３００００Å、好まし
くは１０００〜１００００Åの膜厚の保護膜を形成す
る。
【００１１】上記項目（１）の「水素雰囲気で成膜す
る」とは、スパッタガスに５〜２０％程度の水素を混合
させて、スパッタリングすることを特徴とする。水素プ
ラズマ成分が残留酸素と反応して、その反応物が排気さ
れて残留酸素成分の少ない環境を創出できる。
る」とは、スパッタガスに５〜２０％程度の水素を混合
させて、スパッタリングすることを特徴とする。水素プ
ラズマ成分が残留酸素と反応して、その反応物が排気さ
れて残留酸素成分の少ない環境を創出できる。
【００１２】上記項目（２）の「成膜後、水素雰囲気で
アニールする」とは、成膜後、例えば真空雰囲気炉等を
用いて、１〜１００Ｔｏｒｒ程度の水素雰囲気下、３０
０〜７００℃で熱処理をすることで、膜中の酸素成分を
除去してしまう方法である。
アニールする」とは、成膜後、例えば真空雰囲気炉等を
用いて、１〜１００Ｔｏｒｒ程度の水素雰囲気下、３０
０〜７００℃で熱処理をすることで、膜中の酸素成分を
除去してしまう方法である。
【００１３】上記項目（３）の「成膜後、水素プラズマ
処理を行う」とは、例えばコイル状の電極を持った真空
槽を用いて、０．００１〜１０Ｔｏｒｒ程度の水素雰囲
気でコイル状の電極に高周波（１３．５６ＭＨｚ）を印
加して水素プラズマを発生させ、この雰囲気下に５〜３
０分間保護膜をさらすことで、膜中の酸素成分を除去し
てしまう方法である。
処理を行う」とは、例えばコイル状の電極を持った真空
槽を用いて、０．００１〜１０Ｔｏｒｒ程度の水素雰囲
気でコイル状の電極に高周波（１３．５６ＭＨｚ）を印
加して水素プラズマを発生させ、この雰囲気下に５〜３
０分間保護膜をさらすことで、膜中の酸素成分を除去し
てしまう方法である。
【００１４】上記いずれの方法でも保護膜中の酸素濃度
が８％未満の窒素化合物膜を得ることが可能であるが、
本発明においては、金型保護膜作製方法として、一般的
なマグネトロンスパッタ法や真空蒸着法で水素を有効に
利用することが好ましく、また生産性（装置価格、作業
性、作業時間等）の観点からは上記（１）〜（３）の方
法を使用することが好ましい。
が８％未満の窒素化合物膜を得ることが可能であるが、
本発明においては、金型保護膜作製方法として、一般的
なマグネトロンスパッタ法や真空蒸着法で水素を有効に
利用することが好ましく、また生産性（装置価格、作業
性、作業時間等）の観点からは上記（１）〜（３）の方
法を使用することが好ましい。
【００１５】本発明によると窒化物の膜中の酸素成分を
８％未満とすることができ、化学量論の組成比に近づけ
ることができる。このような表面保護層を有するガラス
成形用金型を使用することで、ガラス成形時にガラスと
保護膜との融着を回避することができる。
８％未満とすることができ、化学量論の組成比に近づけ
ることができる。このような表面保護層を有するガラス
成形用金型を使用することで、ガラス成形時にガラスと
保護膜との融着を回避することができる。
【００１６】以上のようにして得られる本発明のガラス
成形用金型はリヒートプレスを繰り返し行うガラス成
形、例えば光学レンズ製造に好適に用いることができ、
良好な光学レンズを容易に作製することができる。
成形用金型はリヒートプレスを繰り返し行うガラス成
形、例えば光学レンズ製造に好適に用いることができ、
良好な光学レンズを容易に作製することができる。
【００１７】
実施例１ 金型母材を炭化珪素（ＳｉＣ）とし、マグネトロンスパ
ッタ法でターゲットを窒化ホウ素（ＢＮ）、スパッタガ
スとしてアルゴン９０％と水素１０％の混合ガスを用い
た。
ッタ法でターゲットを窒化ホウ素（ＢＮ）、スパッタガ
スとしてアルゴン９０％と水素１０％の混合ガスを用い
た。
【００１８】まず、金型母材表面を鏡面研磨し十分に洗
浄し基板ホルダーにセットした。基板を４５０℃まで加
熱しながら、チャンバー内を２×１０-7Ｔｏｒｒまで排
気した。続いて上記の混合ガスを５×１０-4Ｔｏｒｒま
で導入し、排気バルブを調節してチャンバー内の圧力を
５×１０-3Ｔｏｒｒとした。電極と基板ホルダー間に高
周波を５００Ｗの出力で印加し、１０分間スパッタリン
グを行い、金型母材表面に窒化ホウ素膜を形成した。
浄し基板ホルダーにセットした。基板を４５０℃まで加
熱しながら、チャンバー内を２×１０-7Ｔｏｒｒまで排
気した。続いて上記の混合ガスを５×１０-4Ｔｏｒｒま
で導入し、排気バルブを調節してチャンバー内の圧力を
５×１０-3Ｔｏｒｒとした。電極と基板ホルダー間に高
周波を５００Ｗの出力で印加し、１０分間スパッタリン
グを行い、金型母材表面に窒化ホウ素膜を形成した。
【００１９】得られた窒化ホウ素膜は、膜厚１５００Å
であり、オージェ（Ａｕｇｅｒ）分析法により膜中の酸
素濃度を測定したところ３．４％（ホウ素：４８．４
％、窒素：４８．２％）であった。
であり、オージェ（Ａｕｇｅｒ）分析法により膜中の酸
素濃度を測定したところ３．４％（ホウ素：４８．４
％、窒素：４８．２％）であった。
【００２０】比較例として、スパッタガスとしてアルゴ
ン１００％ガスを使用して成膜したところ、得られた窒
化ホウ素膜は同じ１５００Åであったが、膜中の酸素濃
度は、９．３％（ホウ素：４８．４％、窒素：４２．３
％）であった。
ン１００％ガスを使用して成膜したところ、得られた窒
化ホウ素膜は同じ１５００Åであったが、膜中の酸素濃
度は、９．３％（ホウ素：４８．４％、窒素：４２．３
％）であった。
【００２１】本発明の金型および比較例の金型を用いて
ガラス成形を行った。ガラスの素材としてシリカホウ酸
ランタン系ガラス（転移点：６２３℃）を用いて、リヒ
ートプレス法によって成形を繰り返し金型の耐久性を調
べた。成形は、窒素雰囲気下、成形温度６７０℃、圧力
５０ｋｇ／ｃｍ2、加圧時間３０秒で行い、該加圧成形
を繰り返した。結果を表１に示す。
ガラス成形を行った。ガラスの素材としてシリカホウ酸
ランタン系ガラス（転移点：６２３℃）を用いて、リヒ
ートプレス法によって成形を繰り返し金型の耐久性を調
べた。成形は、窒素雰囲気下、成形温度６７０℃、圧力
５０ｋｇ／ｃｍ2、加圧時間３０秒で行い、該加圧成形
を繰り返した。結果を表１に示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】表１からわかるように、本発明の金型はガ
ラスと融着しにくく離型性がよく、耐久性に優れている
ことが確認された。
ラスと融着しにくく離型性がよく、耐久性に優れている
ことが確認された。
【００２４】実施例２ 金型母材を超硬合金タングステンカーバイド８８％、コ
バルト１２％とし、マグネトロンスパッタ法でターゲッ
トを窒化クロム（ＣｒＮ）、スパッタガスとしてアルゴ
ン５０％と窒素５０％との混合ガスを用いた。基板温度
を３５０℃とした以外は、実施例１と同様にして母材表
面に窒化クロム膜を形成した。得られた窒化クロム膜の
膜厚は１０００Åであった。
バルト１２％とし、マグネトロンスパッタ法でターゲッ
トを窒化クロム（ＣｒＮ）、スパッタガスとしてアルゴ
ン５０％と窒素５０％との混合ガスを用いた。基板温度
を３５０℃とした以外は、実施例１と同様にして母材表
面に窒化クロム膜を形成した。得られた窒化クロム膜の
膜厚は１０００Åであった。
【００２５】次に、得られた金型母材を真空雰囲気炉に
入れ、１５０Ｔｏｒｒの水素雰囲気下４８０℃で６０分
間アニーリング処理を行った。
入れ、１５０Ｔｏｒｒの水素雰囲気下４８０℃で６０分
間アニーリング処理を行った。
【００２６】オージェ分析法により窒化クロム膜中の酸
素濃度を測定したところ、５．４％（クロム：４６．２
％、窒素：４８．４％）であった。
素濃度を測定したところ、５．４％（クロム：４６．２
％、窒素：４８．４％）であった。
【００２７】比較例としてスパッタガスとしてアルゴン
５０％と窒素５０％との混合ガスを用い、アニーリング
処理を行わなかったところ、得られた窒化クロム膜は膜
厚１０００Åであり、膜中の酸素濃度は９．２％（クロ
ム：４９．２％、窒素：４１．６％）であった。
５０％と窒素５０％との混合ガスを用い、アニーリング
処理を行わなかったところ、得られた窒化クロム膜は膜
厚１０００Åであり、膜中の酸素濃度は９．２％（クロ
ム：４９．２％、窒素：４１．６％）であった。
【００２８】本発明の金型および比較例の金型を用いて
ガラス成形を行った。ガラスの素材としてシリカ鉛系ガ
ラス（転移点：４４３℃）を用いて、リヒートプレス法
によって成形を繰り返し金型の耐久性を調べた。成形
は、窒素雰囲気下、成形温度５００℃、圧力３０ｋｇ／
ｃｍ2、加圧時間１８秒で行い、該加圧成形を繰り返し
た。結果を表２に示す。
ガラス成形を行った。ガラスの素材としてシリカ鉛系ガ
ラス（転移点：４４３℃）を用いて、リヒートプレス法
によって成形を繰り返し金型の耐久性を調べた。成形
は、窒素雰囲気下、成形温度５００℃、圧力３０ｋｇ／
ｃｍ2、加圧時間１８秒で行い、該加圧成形を繰り返し
た。結果を表２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】表２からわかるように、本発明の金型はガ
ラスと融着しにくく離型性がよく、耐久性に優れている
ことが確認された。
ラスと融着しにくく離型性がよく、耐久性に優れている
ことが確認された。
【００３１】実施例３ 金型母材として超硬合金タングステンカーバイド８８
％、コバルト１２％を使用し、その金型表面に真空蒸着
法で窒化チタン膜を作製した。
％、コバルト１２％を使用し、その金型表面に真空蒸着
法で窒化チタン膜を作製した。
【００３２】まず、金型母材表面を鏡面研磨し十分に洗
浄し基板ホルダーにセットした。基板を３００℃まで加
熱しながら、チャンバー内を２×１０-6Ｔｏｒｒまで排
気した。続いて窒素ガスを５×１０-4Ｔｏｒｒまで導入
した。電子ビームで窒化チタン（ＴｉＮ）のペレットを
溶融し、金型母材表面に窒化チタン膜を真空蒸着により
形成した。得られた窒化チタン膜は、膜厚３０００Åで
あった。
浄し基板ホルダーにセットした。基板を３００℃まで加
熱しながら、チャンバー内を２×１０-6Ｔｏｒｒまで排
気した。続いて窒素ガスを５×１０-4Ｔｏｒｒまで導入
した。電子ビームで窒化チタン（ＴｉＮ）のペレットを
溶融し、金型母材表面に窒化チタン膜を真空蒸着により
形成した。得られた窒化チタン膜は、膜厚３０００Åで
あった。
【００３３】次に、得られた金型母材を別の真空槽に入
れ、０．０５Ｔｏｒｒの水素雰囲気下に、コイル状の電
極に高周波（１３．５６ＭＨｚ）を印加して水素プラズ
マを発生させ、この雰囲気下に金型母材を３０分間さら
した。
れ、０．０５Ｔｏｒｒの水素雰囲気下に、コイル状の電
極に高周波（１３．５６ＭＨｚ）を印加して水素プラズ
マを発生させ、この雰囲気下に金型母材を３０分間さら
した。
【００３４】オージェ分析法により膜中酸素濃度を測定
したところ７．８％（チタン：４６．８％、窒素：４
５．４％）であった。
したところ７．８％（チタン：４６．８％、窒素：４
５．４％）であった。
【００３５】比較として、水素プラズマ処理を行わない
場合の膜中酸素濃度を測定した所、その濃度は１３．２
％（チタン：４６．８％、窒素：４０．０％）であっ
た。
場合の膜中酸素濃度を測定した所、その濃度は１３．２
％（チタン：４６．８％、窒素：４０．０％）であっ
た。
【００３６】実施例の金型および比較例の金型を用いて
ガラス成形を行った。ガラスの素材としてシリカ鉛系ガ
ラス（転移点：４３０℃）を用いて、リヒートプレス法
によって成形を繰り返し金型の耐久性を調べた。成形
は、窒素雰囲気下、成形温度５３０℃、圧力４０ｋｇ／
ｃｍ2、加圧時間２５秒で行い、該加圧成形を繰り返し
た。結果を表３に示す。
ガラス成形を行った。ガラスの素材としてシリカ鉛系ガ
ラス（転移点：４３０℃）を用いて、リヒートプレス法
によって成形を繰り返し金型の耐久性を調べた。成形
は、窒素雰囲気下、成形温度５３０℃、圧力４０ｋｇ／
ｃｍ2、加圧時間２５秒で行い、該加圧成形を繰り返し
た。結果を表３に示す。
【００３７】
【表３】
【００３８】表３からわかるように、本発明の金型はガ
ラスと融着しにくく離型性がよく、耐久性に優れている
ことが確認された。
ラスと融着しにくく離型性がよく、耐久性に優れている
ことが確認された。
【００３９】
【発明の効果】本発明のガラス成形用金型は離型性、耐
久性に優れている。
久性に優れている。
Claims (4)
- 【請求項１】 膜中の酸素濃度が８ａｔｏｍｉｃ％未満
の窒素化合物膜を表面に有するガラス成形用金型。 - 【請求項２】 窒素化合物が窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化
アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）または
窒化クロム（ＣｒＮ）から選択される請求項１記載のガ
ラス成形用金型。 - 【請求項３】 金型母材表面上に、水素を含む雰囲気下
で窒素化合物をスパッタリングすることにより形成され
た保護膜を有し、該保護膜中の酸素濃度が８ａｔｏｍｉ
ｃ％未満であることを特徴とするガラス成形用金型。 - 【請求項４】 金型母材表面上に窒素化合物をスパッタ
リングすることにより形成された保護膜を水素雰囲気下
にアニール処理またはプラズマ処理してなり、該保護膜
中の酸素濃度が８ａｔｏｍｉｃ％未満であることを特徴
とするガラス成形用金型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13204397A JPH10324530A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | ガラス成形用金型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13204397A JPH10324530A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | ガラス成形用金型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324530A true JPH10324530A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15072185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13204397A Pending JPH10324530A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | ガラス成形用金型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10324530A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010153365A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-07-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置 |
| US10648073B2 (en) * | 2016-11-29 | 2020-05-12 | National Kaohsiung University Of Science And Technology | Method of preparing fiber sensing devices through low-temperature magnetic control sputtering |
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1997
- 1997-05-22 JP JP13204397A patent/JPH10324530A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010153365A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-07-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置 |
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