JPS60144922A - 小形インダクタの製造方法 - Google Patents
小形インダクタの製造方法Info
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- JPS60144922A JPS60144922A JP54884A JP54884A JPS60144922A JP S60144922 A JPS60144922 A JP S60144922A JP 54884 A JP54884 A JP 54884A JP 54884 A JP54884 A JP 54884A JP S60144922 A JPS60144922 A JP S60144922A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
- H01F41/046—Printed circuit coils structurally combined with ferromagnetic material
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、各種の電子回路に用いられる小形インダク
タの製造方法に関する。
タの製造方法に関する。
周知のように、近年では電子回路装置の縮小形化が大き
な技術課題となっており、各種電子部品の小形化や実装
密度の向上といった観点で盛んに技術開発がなされてい
る。電子回路部品の1つであるインダクタも勿論例外で
はない。
な技術課題となっており、各種電子部品の小形化や実装
密度の向上といった観点で盛んに技術開発がなされてい
る。電子回路部品の1つであるインダクタも勿論例外で
はない。
従来、多くのインダクタは適宜な磁芯に細い導線を巻い
て構成されている。この種の巻線構造では、超小型のイ
ンダクタで、ある程度大きなインダクタンスを有するも
のを歩留り良く製造するのは非常に困難である。極めて
細い線を相互に絶縁しながら超小形の磁芯に多数回巻き
付けることになるが、このとき線材の伸び・切断・弛み
を生じることなく均一に巻くのは難しい。
て構成されている。この種の巻線構造では、超小型のイ
ンダクタで、ある程度大きなインダクタンスを有するも
のを歩留り良く製造するのは非常に困難である。極めて
細い線を相互に絶縁しながら超小形の磁芯に多数回巻き
付けることになるが、このとき線材の伸び・切断・弛み
を生じることなく均一に巻くのは難しい。
非巻線構造のインダクタとしては、いわゆるチップイン
ダクタが知られている。これはフェライトなどの磁性材
に絶縁層および導電金属層を平面状に形成したものを多
数重ね合せ、多数の導電金属層をスルーホールやリード
線により結線して所望のインダクタを形成する構造であ
る。この構造のチップインダクタは、その製造工数が多
くて複雑であり、そのために高価となり、また構造も複
雑であることから信頼性にも問題があった。
ダクタが知られている。これはフェライトなどの磁性材
に絶縁層および導電金属層を平面状に形成したものを多
数重ね合せ、多数の導電金属層をスルーホールやリード
線により結線して所望のインダクタを形成する構造であ
る。この構造のチップインダクタは、その製造工数が多
くて複雑であり、そのために高価となり、また構造も複
雑であることから信頼性にも問題があった。
この発明は前述した従来の問題点に鑑みなされたもので
あり、その目的は、超小形のインダクタを簡単な製造工
程で歩留り良く安定に作ることができ、任意のインダク
タンスを有する信頼性の高い素子を安価に量産すること
ができる製造方法を提供することにある。
あり、その目的は、超小形のインダクタを簡単な製造工
程で歩留り良く安定に作ることができ、任意のインダク
タンスを有する信頼性の高い素子を安価に量産すること
ができる製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するために、この発明は、適宜な磁性
材料からなる円柱形磁芯の周面に薄い導電金属層を均一
に形成し、この導電金属層をレーザなどによる微細トリ
ミング装置を用いて線状にトリミングすることで、円柱
形磁芯の周面に沿って上記導電金属層を除去してなるス
パイラル状の溝を形成し、このスパイラル状溝によって
上記導電金属層を巻線となるスパイラル線状に残すこと
を特徴とする。
材料からなる円柱形磁芯の周面に薄い導電金属層を均一
に形成し、この導電金属層をレーザなどによる微細トリ
ミング装置を用いて線状にトリミングすることで、円柱
形磁芯の周面に沿って上記導電金属層を除去してなるス
パイラル状の溝を形成し、このスパイラル状溝によって
上記導電金属層を巻線となるスパイラル線状に残すこと
を特徴とする。
以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
まず第1図に示すように、フェライト・ケイ素鋼・ニッ
ケル鋼・パーマロイなどの磁性材料からなる円柱形磁芯
11を用意し、この磁芯11の外周面の全面に絶縁層1
2を形成して被覆し、ざらに絶縁層12の全表面に薄い
S重金属層13を均一に形成する。絶縁層12は、例え
ば絶縁性の塗料を円柱形磁芯11の外周面に塗布するこ
とで形成する。導電金属層13は、例えば銅などの良導
電性金属を蒸着によって絶縁層12の表面に形成する。
ケル鋼・パーマロイなどの磁性材料からなる円柱形磁芯
11を用意し、この磁芯11の外周面の全面に絶縁層1
2を形成して被覆し、ざらに絶縁層12の全表面に薄い
S重金属層13を均一に形成する。絶縁層12は、例え
ば絶縁性の塗料を円柱形磁芯11の外周面に塗布するこ
とで形成する。導電金属層13は、例えば銅などの良導
電性金属を蒸着によって絶縁層12の表面に形成する。
次に、絶縁層12と金属層13で二重に被覆した円柱形
磁芯11を高精度な回転送り装置(図示省略)に装着し
、第2図に示すように、磁芯11をその軸方向Aに一定
速度で移動させるとともに、矢印Bのように磁芯11を
その軸線を中心に一定速度で回転さぼる。このように回
転送りされる磁芯11の側方にレーザトリミング装置3
を設置し、これから生じる細いレーザビーム4を磁芯1
1の周面の金属層13に照射する。
磁芯11を高精度な回転送り装置(図示省略)に装着し
、第2図に示すように、磁芯11をその軸方向Aに一定
速度で移動させるとともに、矢印Bのように磁芯11を
その軸線を中心に一定速度で回転さぼる。このように回
転送りされる磁芯11の側方にレーザトリミング装置3
を設置し、これから生じる細いレーザビーム4を磁芯1
1の周面の金属層13に照射する。
磁芯11は矢印六方向に直線送りされるとともに矢印B
方向に回転送りされているので、レーザご−ム4の照射
点は、円柱形磁芯11の周面においてスパイラル状の軌
跡を描く。心電金属M13は非常に薄く、レーザビーム
4が照射されると、その照射部分の金ES層は除去され
、下層の絶縁層12が露出する。レーザビーム4の照射
点がスパイラル状の軌跡を描くので、導電金属層13は
その軌跡通りに線状に除去されて、スパイラル状の溝2
が形成される。この−条のスパイラル状溝2で導電金属
層13がトリミングされ、その結果、導電金属層13は
1本の連続した巻線となるスパイラル線状に残ることに
なる。
方向に回転送りされているので、レーザご−ム4の照射
点は、円柱形磁芯11の周面においてスパイラル状の軌
跡を描く。心電金属M13は非常に薄く、レーザビーム
4が照射されると、その照射部分の金ES層は除去され
、下層の絶縁層12が露出する。レーザビーム4の照射
点がスパイラル状の軌跡を描くので、導電金属層13は
その軌跡通りに線状に除去されて、スパイラル状の溝2
が形成される。この−条のスパイラル状溝2で導電金属
層13がトリミングされ、その結果、導電金属層13は
1本の連続した巻線となるスパイラル線状に残ることに
なる。
上記のように円柱形磁芯11の全長にわたって導電金属
層13にスパイラル状溝2を形成しでトリミングし、そ
の後磁芯11を任意の長さに切断すると、所望のインダ
クタが完成する。第3図はこのように製造されたインダ
クタにリード線5゜5をハンダ付した状態を示している
。つまり、円柱形磁芯11の周面にスパイラル状に残っ
た導電金属層13は連続しており、その両端にリード線
、5,5をそれぞれハンダ付けしたものである。なお、
このようにリード線5をハンダ付けして用いるだけでな
く、他の外部接続手段、例えば基板に直接ハンダ付けす
るなどの手段で回路接続することができる。
層13にスパイラル状溝2を形成しでトリミングし、そ
の後磁芯11を任意の長さに切断すると、所望のインダ
クタが完成する。第3図はこのように製造されたインダ
クタにリード線5゜5をハンダ付した状態を示している
。つまり、円柱形磁芯11の周面にスパイラル状に残っ
た導電金属層13は連続しており、その両端にリード線
、5,5をそれぞれハンダ付けしたものである。なお、
このようにリード線5をハンダ付けして用いるだけでな
く、他の外部接続手段、例えば基板に直接ハンダ付けす
るなどの手段で回路接続することができる。
周知のように、レーザトリミング装置によれば極めて微
細なトリミング加工が可能であり、例えば、前述のスパ
イラル状の溝2のピッチを2μmとし、溝2の幅を1μ
m、溝2間に残る金属層13の幅を1μmとした場合、
僅か11の長さの円柱形磁芯11の外表面に、500タ
ーンのスパイラル状巻線を形成することができる。従っ
て、従来の巻線構造のインダクタに比べ超小形で高密痕
の巻線を持ったインダクタを、回転送り装置およびトリ
ミング装置を用いたシンプルな製造工程で超高精度に製
造することができ、製品の歩留りおよび信頼性も高いも
のとなる。
細なトリミング加工が可能であり、例えば、前述のスパ
イラル状の溝2のピッチを2μmとし、溝2の幅を1μ
m、溝2間に残る金属層13の幅を1μmとした場合、
僅か11の長さの円柱形磁芯11の外表面に、500タ
ーンのスパイラル状巻線を形成することができる。従っ
て、従来の巻線構造のインダクタに比べ超小形で高密痕
の巻線を持ったインダクタを、回転送り装置およびトリ
ミング装置を用いたシンプルな製造工程で超高精度に製
造することができ、製品の歩留りおよび信頼性も高いも
のとなる。
なお、レーザトリミング装置は非常に微細な加工が可能
な優れた装置であるが、その他の微細トリミング装置、
例えばサンドブラスト・トリミング装置などを用いるこ
とも可能である。また、前記実施例では円柱形磁芯11
ば中実であるが、必要に応じてこれを円筒形としてもよ
い。
な優れた装置であるが、その他の微細トリミング装置、
例えばサンドブラスト・トリミング装置などを用いるこ
とも可能である。また、前記実施例では円柱形磁芯11
ば中実であるが、必要に応じてこれを円筒形としてもよ
い。
さらに、上記絶縁層12は、例えば磁芯11がニッケル
ジンクのような比抵抗の大きな材質の場合は不要であっ
て、磁芯11の周面に直接導電金属層13を形成するこ
とも可能である。
ジンクのような比抵抗の大きな材質の場合は不要であっ
て、磁芯11の周面に直接導電金属層13を形成するこ
とも可能である。
以上詳細に説明したように、この発明の製造方法によれ
ば、超小形・高精度・高信頼性・高密度のインダクタを
比較的簡単な生産設備による簡単な製造工程で安価に量
産することができる。
ば、超小形・高精度・高信頼性・高密度のインダクタを
比較的簡単な生産設備による簡単な製造工程で安価に量
産することができる。
第1図は絶縁層と導電金属層で二重に被覆した円柱形磁
芯を示す図、第2図はスパイラル状溝の形成工程を示す
図、第3図は完成した小形インダクタを示す図である。 2・・・・・・・・・スパイラル状溝 3・・・・・・・・・レーザトリミング装置4・・・・
・・・・・レーザビーム 5・・・・・・・・・リード
線11・・・・・・円柱形磁芯 12・・・・・・絶縁
層13・・・・・・導電金属層 特許出願人 富士電気化学株式会社 代 理 人 弁理士 −色健輔
芯を示す図、第2図はスパイラル状溝の形成工程を示す
図、第3図は完成した小形インダクタを示す図である。 2・・・・・・・・・スパイラル状溝 3・・・・・・・・・レーザトリミング装置4・・・・
・・・・・レーザビーム 5・・・・・・・・・リード
線11・・・・・・円柱形磁芯 12・・・・・・絶縁
層13・・・・・・導電金属層 特許出願人 富士電気化学株式会社 代 理 人 弁理士 −色健輔
Claims (1)
- (1)磁性材料からなる円柱形磁芯の周面に薄い導電金
属層を均一に形成する工程と、上記導電金属層を微細ト
リミング装置により線状にトリミングすることで、上記
円柱形磁芯の周面に沿って上記導電金属層を除去してな
るスパイラル状の溝を形成する工程とを含み、上記スパ
イラル状溝によって上記導電金属層を巻線となるスパイ
ラル線状に残すことを特徴とする小形インダクタの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54884A JPS60144922A (ja) | 1984-01-07 | 1984-01-07 | 小形インダクタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54884A JPS60144922A (ja) | 1984-01-07 | 1984-01-07 | 小形インダクタの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60144922A true JPS60144922A (ja) | 1985-07-31 |
Family
ID=11476775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54884A Pending JPS60144922A (ja) | 1984-01-07 | 1984-01-07 | 小形インダクタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60144922A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0588306A1 (en) * | 1992-09-15 | 1994-03-23 | Grumman Aerospace Corporation | Photo-etched electronic coil |
EP0689213A1 (de) * | 1994-06-20 | 1995-12-27 | Kernforschungszentrum Karlsruhe GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Mikrospule |
GB2318218A (en) * | 1996-10-11 | 1998-04-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Inductive device |
US6609009B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electronic component and radio terminal using the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS494153A (ja) * | 1972-05-02 | 1974-01-14 | ||
JPS5738080A (en) * | 1980-08-18 | 1982-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ghost detector |
-
1984
- 1984-01-07 JP JP54884A patent/JPS60144922A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS494153A (ja) * | 1972-05-02 | 1974-01-14 | ||
JPS5738080A (en) * | 1980-08-18 | 1982-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ghost detector |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0588306A1 (en) * | 1992-09-15 | 1994-03-23 | Grumman Aerospace Corporation | Photo-etched electronic coil |
EP0689213A1 (de) * | 1994-06-20 | 1995-12-27 | Kernforschungszentrum Karlsruhe GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Mikrospule |
GB2318218A (en) * | 1996-10-11 | 1998-04-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Inductive device |
US5963119A (en) * | 1996-10-11 | 1999-10-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electric component having conductor film formed on insulative base |
GB2318218B (en) * | 1996-10-11 | 1999-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Inductance device and wireless terminal equiptment |
US6609009B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electronic component and radio terminal using the same |
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