JPS60143341A - 抜きマスク版の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は例えば写真フィルム等における画像の所要の輪
郭線、もしくは湿態、線画パターン等の線像を追跡して
デジタル画像処理することにより、該輪郭線もしくは線
像ど同一形状のｍｅを記録する方法に関し、とくに写真
製版作業における「抜きマスク」の作製方法に関する。

例えば商品カタログを印刷する場合、印刷原画として使
用される商品写真は通常必要な商品画像部の周囲に背景
が撮影されているが印刷物としてはこれらの背景部を消
去して間品のみを表示することが多い。

抜きマスクは、かかる目的に適用されるもので、必要な
画像部のみを透明とし、それ以外の部分を不透明とした
フィルムを用い、これを原画又は複製画像に爪壁して写
真的に複製することにより、不要な背景部を消去した複
製画像を得るものである。

また、ポジ画像からネカ両像を作る場合や、前記背景部
として別の写真画像を使う場合等には、透明部と不透明
部を前記とは逆の関係にしｔこ抜きマスクも使用される
。

かかる抜きマスクの作製は従来はとんど手作業に依存し
ていた。すなわち製図におけるトレース作業と同様な手
法で透明シート上に所要画像部の輪郭線をたどって描画
し、該輪郭線の外側もしくは内側を不透明インキで塗り
つぶすものであり、その作業には熟練と長時間を要し、
写真製版作業における大きな障害になっている。

これを改善するために例えば原画を複製した写真フィル
ムの遮光必要部を直接不透明インキで塗りつぶす方法や
あるいは、いわゆるビールオフフィルムラ使用して塗り
つぶしの手間を省く方法カ行なわれているが依然として
輪郭線描画の手数を省くことはできない。

また原画撮影の際、背景部を特定の色副に設定してカラ
ー撮影し、製版用カラースキャナで該カラー画像を複製
する際に背景部の特定色のみを抽出または消去して所要
の抜きマスクを得る方法もあり、これについては特開昭
４７−１７５０１号公報に開示されている。しかしなが
ら、この方法は色相分割を行うため一般的な撮影を行っ
た原画からマスクを取るには適していない。

このような従来方法の不都合を解決するｔコめ本願出願
人は特願昭５８−１８１１９５号（特開昭５５−５７８
４６号）をもって光電変換素子群等の検出素子による画
像輪郭線の自動追跡記録と手作業トレースによる描画と
を併用する方法をまた特願昭５６−５２１０６号（特開
昭５７−１６５８８６号）をもってデジタイザ等の座枠
指示装置−こよってあらかじめ得られた追跡テークとイ
メージセンサ−等の撮像装置から得られる画像信号に基
づいて抜きマスクを作製する方法について特許出願して
いる。

更に本願出願人は持回ＩＩＩ’：１５８−１７６６８８
に以下の如くの半自動的な抜マスク作成方法を開示して
いる。すなわちまず抽出されるべき特定画像の近似的な
輪郭線を設定しておき、次に一該近似的輪郭線に沿って
該輪郭線を含む部分画像区画（以下、ノズルという）を
設定し、各ノズルの平均濃度レベルをスレシボールドレ
ベルとし該スレシホールドレベルより高い濃度領域と低
い領域の境界を上記特定画像の輪郭線として、抜きマス
ク版を作製するものである。

しかしながらこの方法はスレシホールドレベルとしてノ
ズルの画像データの平均値を用いているので例えば第１
図（ａ）の如く輪郭線ａ、ｂ、ｃを境にして濃度Ａ、Ｂ
、Ｏ，Ｄ（Ａ＞Ｂ＞０＞Ｄ）の領域が接している場合で
あって平均濃度をＰとし、ノズルＮ′が輪郭線ａ　＋　
ｂ　＋　Ｏを含んでいる場合（１）Ａ＞ＰとＢのときは
ａ （２）Ｂ）ＰこＣのときはｂ （３）　０）Ｐ、：ＤのときはＣ という様に輪郭線が一義的に定まってしまい、例えばａ
、ｂの輪郭線を同時に検出（濃度Ｂの領域に帯状マスク
をかける）することはできない。

またこの方法は近似的輪郭線に沿ってノズルＮ′が設定
されるため、実際の輪郭線と該各ノスルの相対位置は第
１図（ｂ）に示す如く必すしも一定ではな円従って各ノ
ズルＮ′−１，Ｎ′−２，Ｎ′−８相互の平均濃度レベ
ル（スレシ小−ルドレベル）が異なると、得られる輪郭
線が不連続になる場合が生じる。すなわち第１図（ｂ）
に於てノズルＮ−１では輪郭線すを検出し、ノズルＮ′
−２では輪郭線ａを（火山し、ノズルＮ′−８では輪郭
線Ｃを検出する如くになる。

もちろんこの様に輪郭線が不連続である場合には、つな
ぎ処理を行うわけであるがこのつなぎ処理は誤差を生ず
る虞れがある。

この発明は上記従来の事情に鑑みて提案されたものであ
って輪郭線をとぎれない様に検出できかつ帯状画像に対
するマスクをも作製することができ、史にｃｉ、雑な輪
郭線をも検出できる抜きマスク版を半自動的に作製する
方法を得ることを目的とするものである。

その要点とするところは表示装置に表示された抽出され
るべき特定画像の輪郭線に沿って該輪郭線を含む多数の
ノスルを設定し、 任忽に設定したスレシホールドレベルと各ノスル内の各
画素の両度しベルヶ比較し、該スレシホールドレベルよ
り高い領域と低い領域の境界を輪郭線として検出する点
にある・ ぞしてこの場合、２つのスレシボールドレベルを設定す
ることによって２つの異なるｇＵ領領域挾まれた、例え
ば帯状画像の輪郭線をも検出することができる。

この様にして検出された輪’／ＩＳＲに刻する特定の領
域（スレシボールドレベルまり濃度が高い、又は低い領
域）を指定することによって上記特定の１ＩＩｉｉ　像
の輪郭線の内側又は外側のいずれか一方を塗り込んだ、
又は特定画像の周辺を蜜り込んだマスクデータを得るこ
とができる。

まずきわめて単純な場合を例にとって第２図に示す如く
の濃度Ｅの領域に囲まれた濃度Ｆなる特定画像１１の輪
郭線ＩＩ■を検出する場合の例についてこの発明の詳細
な説明する。上記濃度３＜’Ｆであるとして、まず［（
８（Ｆなる条件に合うＭ４’ｉ濃度（スレシホールドレ
ベル）Ｓを決定しておく。

そして該スレシボールドレベルＳと全画面の各部の濃度
とを比較し、Ｅ＜Ｓの領域とＳ（Ｆの領域の境界を検出
することによって該境界を特定画像工１の輪郭線で１と
することかできる。

現実には上記操作は表示装置（例えばＯＲＴ表示装置）
上に表示された特定画像１．に対して行われる。この場
合１１記比較作業は境界線近辺の両領域の画素に対して
行うと時間の短縮を図ることができる。そこでこの発明
では表示装置上に輪郭線１、を含むノズル（部分画像区
画）Ｎ−ｎを輪郭線１、に沿って設定し、該ノスルＮ−
ｎの中の各画素と前記スレシホールドレベルＳとを比較
し、各ノズルごとに輪郭線１１を決定する様にしている
（部分濃度差マスク）。マスクデータは上記輪郭線Ｉ！
ｌの内側、又は外側のいずれかを塗込んだ状態を表わす
のであるから、この発明°に於ては前記Ｅ＜ｓの領域か
、Ｓ（Ｆの領域のいずれかを塗込む様に予め指示してお
くことによってマスクデータを作製する様にしている。

第８図はこの原理を用いて濃度Ｇの領域と濃度Ｈの領域
に挾まれた濃度Ｊ（Ｇ（Ｊ（Ｈ）なる画像■２の輪郭線
ＩＱ、１Ｂを検出する場合を示すものである。この場合
、スレシボールドレベルとしてＧ＜　８（２）　＜　Ｊ
なる値と、Ｊ　＜　５（ａ）　＜　Ｈなる値との２つを
用いて比較を行い、５（２）ｓＪ≦５（８）なる領域を
検出すればよいことになる。

以上の原則的な事項に加え、この発明に於ては多数濃度
Ａ′・・・Ｄ′の領域が複雑に入り組んでいる第４図（
ａ）の様な場合にも例えば濃度Ｄ′の領域が正確に抽出
できる様にノズルサイズの変更ができる様になっている
。

すなわち最初に設定したサイズのノズルＮａをそのまま
前記８柚の濃度の領域が入り組んだ領域に設定したノス
ルを用いて輪郭線を検出すると誤動作を生じる虞れがあ
る。そこで前記ノズルのサイズを小さくすると図示の如
く正確な輪郭線の検出を行うことかできる。

更に抽出画像あるいはその周辺画像の濃度変化に対応で
きる様にスレシホールドレベルの変更が可能な様になっ
て（ぐる。

画像によっては、分色イメージ（Ｙ、　Ｍ、　Ｏ，Ｋ、
）の濃度境界線が、輪郭線と一致せず、輪郭線付近での
濃度が一様のものがある。この様な場合には、他の分色
イメージを見て、濃度境界線と輪郭線が一致している（
分色イメージで、該当部分の輪郭を識別できるもの）分
色イメージを捜し、この分色イメージで、該当部分の切
抜き操作を行なう。

−例として、第１５図（ａ）、　（ｂ）を用いて説明す
る。

領域１での輪郭Ｗ＝出は、Ｍ版イメージで行なう（（ａ
）図参照）。ＭＮｙ、イメージの領域２の部分では、背
景＃度と画像製置が同じであるため、輪郭線の検出がで
きない。この時に、切抜き対象色版を０版イメージに擬
史し、マスクの演算モードをＯＲにする。続いて、領域
２（又は、８）で、輪郭線を検出する（（ｂ）図跡照ン
。処理結果を（ｃ）図に示す。

４版共に輪郭が認められない場合は、従米通りの方法を
用いる。例えばスタイラスペンによって手入力（描画）
する。

更にこの発明では上記の如くにして得られるマスクデー
タと既にティスフメモ月と収納されている別のマスクデ
ータ（下地マスクデータ）とを組合わせて別のマスクデ
ータを作製することができる。ここで例えば第５図（ａ
）に示す如く、マスクデータΔ１ａに下地マスクＭｂを
組合わせる場合を考えると、ＭａとＭｂのマスクデータ
の論理ＯＲをとる場合（同図（ｂ））、論理ＡＮＤをと
る場合（同図（０））、ｉｊ＋ｉｉｌ埋ＸＯＲをとる場
合（同図（ｄ））を考えることができる。

第６図はこの発明を実施するシステムの概略を示すもの
である。

ディスクメモリ４に収納されている画像データの中、マ
スキング処理をする必要のある特定画像のＹ（イエロー
）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｋ（ｊラック）の
各色の１ｌｌｌｌ　仰データをイメージメモリ９に収納
しさらに下地マスクを用いて作業する場合には、ディス
ク４から下地マスクのデータをマスク１Ｏ−１（処理用
マスクメモリ）に収納し、該イメージメモリ９および、
マスクメモリ１０に収納されたデータをＹＭＯＫ信号か
ら几ＱＢ信号への変換機能を備えたＤ／Ａ　ｇ換器１１
を介して表示装置１２に表示する。該表示された画像に
対してデジタイザｌとスタイラスペンを用いて前述した
如く輪郭線ｌに沿ってノズルを設定し、更にマスク作製
手段７を用いて塗込操作をすることによってマスクデー
タを作製し、該マスクデータをマスクメモリ１０に収納
する様になっている。このシステム全体はＯＰＵ等の中
央演算装置５によって管理されており、また中央演算装
置５を作動させるに必要なデータは前述デジタイザ１、
キーボード２、シャフト８、等より与えられる。

第７図〜錦１１図はこのシステムの動作をフローチャー
トで示したものである。

第７図に於て、まずキーボード２から入力される以下の
マスク作製条件をマスク作製手段７に設定する（Ｓｌ）
。

（］）対象となる画像（白黒画像及び、カラー画像ヲ含
む）のＮＯ及び特定アドレス、下地マスクＮｏ及び特定
アドレス用にカラー両件の場合は、切抜き対象色版（Ｙ
、　Ｍ、　Ｏ，Ｋ　）を選ぶ。

（２）下地マスクとの演算モード 前述の如く０几かＡＮＤかＸＯ几かのいずれか（３）ス
レシホールドレベル 標準的なスレシボールドレベルＳを仮設定する。

（４）　部分温度差マスク作製モード（下記■■■のい
ずれかを選択） ｑ）スレシホールドレベルＳがノズル内の画素濃度より
低い場合にその画素に対応するマスクデータを′″０′
とし萬い場合に１１′とするモード ■　スレシホールドレベルＳがノズル内の画素濃度より
＋ｌ−１ｉい場合にその画素に対応するマスクデータを
′θ′とし低い場合に１′とするモード ■　ノズル内の画素濃度が２つのスレシボールドレベル
ＳＬとＳＩ）の中間である場合に’＞１＃（又は５０′
）とし、該２つのスレシホールドレベル以上、又は以下
であるときには＋０／／（又は’１’）　とするモード （５）　ノズルサイズ 基準となるノズルサイズを入力する 以上の入力を終えたときにオペレータが入力冗了をキー
ボード２より入力する（ｓ２）と、該中央演算装置５は
第８図に示す様な手順でマスク作製対象となる画像デー
タを表示装置１１２上に表示する（８８）。このとき下
地マスクが必要であれば該下地マスクとｈＩＪ記対象と
なる両佃データが後述第１４図の如く共に表示される。

すなわち第８図に示す如くまずディスクメモリ４に収納
されている画像データの中、対象となるＹＭＯＫ各色版
各色画用データをイメージメモリ９に転送（ｓ３１）シ
、次に下地マスクが必要である場合（８Ｂ２、ＹＥＳ　
）には前記ディスクメモリ４に収納されている下地マス
クもマスクメモリ１０に転送しく８８８）、下地マスク
が必要でない場合＜８８２　ＮＯ）、マスクメモリ１０
をクリアして（８８４Ｌ前記イメージメモリ９及びマス
クメモリ１０内のデータを表示装置１２に表示する（８
８５）。

次にイメージメモリ９に収納されているＹＭＯＫの各色
版の画像データの中、上記マスク作成条件（１）で指定
された色版の画像データをインターフェース８を介して
マスク作製手段７に読出し得る状態（チャンネルをオー
プンにする）を形成しておく　（８４）。

次に前記の如くにして表示装置１２の画面に表示された
画像の輪郭線に沿ってデジタイザ１とスタイラスペンを
用いてターゲットＴを移動させ（Ｓ５）、完了指示は未
だ出ていないので（８６無）該スタイラスペンを押すこ
とによって（８７ＹＥＳ）、上記入力ステップ８１で人
力された大きさのノズル（条件（５））を前述、第２図
の如くに表示装置１２ｔに表示する。

この様子を第１２図に従って更に詳しく説明すると、デ
ジタイザ１上の点（Ｘ−Ｙ）をスタイラスペンで押すと
、まず該Ｘ、Ｙの値はイメージメモリ上の座標値（Ｘｉ
　Ｙｉ）に置換されＳ８、該座標値（Ｘｉ　Ｙｉ）と先
に入力されているノズルサイズ（−辺の巾Ｗ）とに基づ
いてノズル内の画素走査ＹｉＯ＝Ｙｉ−７−なる計算で
、またノズル内の画素Ｙｉｈ　＝　Ｙｉ　＋　児でめ、
図示の如くのイメージノズルＮｉを設定する。

以上の処理はマスクメモリに対してもイメージメモリと
同じアドレスを用いる。即ちマスクノスノ呟イメージノ
ズルは同じ位置アドレスとなる以立の如くに設定された
イメージノズルＮ１又はマスクツスルＮｍが表示装ｆ遺
１２の画面上にノズルとして現われる。

以上の如くにして輪郭線に沿って順次設定されたイメー
ジノズルＮ内で後述する第９図の如くの手順で部分濃度
差マスクが作製される（Ｓ９）。該部分濃度差マスクの
作製が終ると、次に最初に入力されたマスク作製条件の
変更があった場合には後述第１０図の如くの手段で該変
更された条件に設定し直す（８１０）。上記判断ステッ
プＳ７でスタイラスペンを押していない場合には上記ス
テップＳ８と８９を介さないで直接条件変更を行う。

以上ステップＳ５からステップＳ１０を繰返しながら、
特定画像の輪郭線に沿った部分濃度差マスクを作製し該
作製作業が完了するとオペレータはキーボード２から１
完了′指示を入力する。該完了指示があると（８６：Ｙ
ＥＳ）、マスク作成モードに従って指定された領域の塗
込みを行い（８１１）、この様にして作製したマスクメ
モリ１０のデータをディスクメモリ４に転送する（８１
２）。

第９図は前記部分濃度差マスク作製ステップＳ９を更に
詳しく現わしたフローチャートである。

まず前述の如くステップＳ８で得られたイメージノズル
の画素走査開始座標Ｘｉｏ　、　Ｙｉｏ及びマスクノズ
ルＮｍの画素走査開始座標Ｘｉｏ　、　ＹｉＯを初期設
定しておく　（ｓｑｔａ）、　（ｓ９ｔｂ）。次に最初
に設定した条件（４）の部分濃度差マスク作製モードが
前記■■■のいずれであるかを判定しＳ９２、それぞれ
のモードに従って各画素ごとのマスクデータ全作製する
８９Ｂ。

ここで作製された各画素のマスクツスルとは塗込み部分
が論理値″１１′であり菫臼ｔＸｉ５分が論理値′θ′
となるデータであって該マスクツスルは一旦マスクフラ
グＭＫに収納される８９３゜次に下地マスクとの演算モ
ードか入力されているかを判断しく８９４）、該モード
が入力されていないときは、上記マスクフラグＭＫＯ内
谷をそのままマスクメモリに収納する（８９６）。

いずれかの演算モードが入力されているときは、該モー
ドに従って上記ステップＳ　９８ａ’、　８９８ぢ、　
８９８６’で得られたマスクフラグＭＫのデータとマス
クメモリの各画素データに紙づいて第５図で説明した如
く演算しＳ９５、その結果をマスクメモリ１０のθｒ定
アドレスに収納する（８９６）。

ステップ８９５内の＊マークは演算ＡＮＤ、ＯＲ。

Ｘ（ＪＲのいずれか１つを示す。

以上のステップを終了するとイメージメモリ９とマスク
メモリ１０のＸ方向アドレスＸｉ、Ｘｍを１つずつ進め
（８９７）、該値がイメージノズルＮ１のＸ方向走査終
了座１１ｉＸｉｇより大きいか否かを判断しく８９８）
、Ｘｉ≦Ｘ土Ｅであるときは上記８９２〜８９７のステ
ップを繰返し、Ｘｉ　＞　Ｘｉｇなるときはイメージメ
モリのＸ方向アドレスＸ１と、マスクメモリのＸ方向ア
ドレスＸｍをともにＸ方向走査開始座標Ｘｉｏに更新し
、更に両メモリのＹ方向アドレスＹｉ　、　Ｙｍを１つ
進めて（８９９）、次に上記Ｙｉ　）　Ｙｉｈであるか
合かを判定する（８１００）。ここでＹｉ≦Ｙｉｇであ
れば再び８９２のステップにも戻り、Ｙｉ）Ｙｉｇであ
れば前記８１０のステップに移行する。

第１８図は第１４図（ａ）に示す如く表示装置１２上に
表示された特定画傅工８と下地マスクＭ８から新しいマ
スクデータを作製する場合の前記８９Ｂからステップ８
９５迄のステップを１つのノズル内の全画素について実
施した場合の例を更に判りやすく表わしたものである。

いま表示装置１ｔ１２の画面の特定位置ノズルＮｉｎが
設定された場合について考察する。第１８図（ａ）の）
に示す如く、このノズルＮｉｎのイメージメモリ９のイ
メージノズルＮｉｎに、またマスクメモリ１０のマスク
ノズルＮｍｎに対応するものとする。

いま、Ｆ＞Ｓ＞Ｅ（Ｆはノメージ根度、Ｓはスレシホー
ルドレベル、Ｅは背景濃度）とするとイメージノズルＮ
ｉｎ内の各画素データの濃度の高低間係ｒＨ」　ｒＬＪ
は同図ω）のごとくになる。ここで部分濃度差マスク作
製モード■が選択されているものとすると、同図（０）
の如くイメージノズルＮｉｎの画像工８の内部の各画素
が塗り込まれた状態（論理′″１″）となり、外部は白
抜きの状態（論理’０’）となった部分濃度差マスクを
得る。

上記の如くにして得られた新しいマスクデータ（前述８
９Ｂ’ＯステツプではフラグＭＫに収納されている）は
同図（ｅ）の如くのマスクツスルＮｍｎ内のデータと指
定の演算モードで演算され、第１８図（ｆ）の如くの新
しいマスクデータが得られこれを更にマスクメモリ１０
に収納する棟になっている、。

ｔこだし上記第１８図、第１４図ではノズル単位の画像
データを、ひとまとめに扱っているが実際には第９図で
説明した如く、１ノズル内の１画素ずつ処理する様にな
っている。

第１４図（ａ）は更に以上の手順が特定画像■８全体に
対して繰返された状態を示し、同ＩＩ　（ｂ）は第７図
塗込み処理（ステップ５１１）まで終った状態を示して
いる。

第１０図は亀７図に於て説明した条件変更検出のステッ
プＳ１０を更に詳しく示したものである。

まず千−ボードから変更指示される条件をステップ８１
０１〜５１０８で処理する。すなわち切抜き色版の変更
であった場合には新たに選択された色版のイメージメモ
リ９とマスク作製手段７とのチャンネルをオープンにす
る（ステップ１０１ａ、　１０１ｂ）。

演綽モードの変更があったとき新たに選択された演算モ
ードをマスク作製手段７に設定する（ステップ１０２ａ
　、　１０２ｂ）。マスク作製モードの変更指示があっ
たときには新たに選択されたマスク作製モードをマスク
作凱手段７に設定する（ステップ１０８ａ　、　１０８
ｂ　）。

次にターゲット点のイメージ濃度スレシホールドレベル
Ｓをモニター（ロ）に表示しくステップ１０４）スレシ
ホールドレベルＳの縫用がシャフト８からあったときは
新たに選択されたレベルをマスク作製手段７に設定する
。この場合スレシホールドが１つである場合にはシャフ
ト８ａのみを用い第８図に示す如くの帯域切抜きを行う
場合にスレシホールドレベルの上下限を変更する必侠が
ある場合には、シャフト８−ａと８−ｂを用いる（ステ
ップ１０５　、１０６）。丈にシャフト８Ｃを用いてノ
ズルサイズの変更があったときには新たなノズルサイズ
をマスク作製手段７に設定する（８１０７）。

第１１図は削記ステップ１０５〜１０７に於ける変化分
検出処理１０５ａ　、　１０６ａ　、　１０７ａの詳細
を示したものである。

まず最初にシャフト８のポジション値Ｐ（例えば出力電
圧に換算した値）を読み（Ｓｉｌｌ）、前回のポジショ
ン値Ｐ′との差（変化分）ΔＰをめる’（８１１２）。

該変化分ΔＰを単位嵐（単位ポジション値に対応するス
レシホールドレベル又はノズルサイズ）Ｓで除してスレ
シホールドレベル又はノズルサイズの変化分ΔＱを算出
する（８１１８）。次に該変化分ΔＱと前回のスレシホ
ールドレベル又はノズルサイズＱ′とを加算して新たな
スレシホールドレベル又はノズルサイズの値を得る（８
１１４）。

次にこの様にして得られた新たなスレシホールドレベル
又はノズルサイズＱの上下限を判断し、上限値以上又は
下限値以下であれば該上限値又は下限値を新たなスレシ
ホールドレベルＳ１又はノズルサイズｗとする（Ｓ　１
１６）。スレシホールドレベル（Ｓ）についてはモニタ
ー（２）の表示を更新する（８１１７）。

下地マスクがあってスレシホールドレベルの設定が適切
でなかったのでノズル内の画像輪郭形状を笈史したいと
き、スレシホールドレベルを変更して輪郭形状を変更す
ると、下地マスクの１部が消える。このときは下地マス
クを再度読み出せばよい。

マスクメモリを例えば８枚もち下地マスク用、部分濃度
差用マスクメモリと合成マスクメモリをもってもよい。

又マスクメモリ２枚のときは、部分ａ反差用マスクメモ
リを確認しなから下地マスクメモリに転送してもまい。

上記実施例は正方形であったが円でもよい。例えば前も
って円のノズルを別に作っておき、正方形のノズルとＡ
ＮＤをとればよい。

以上説明した如く、この発明は任意に設定したスレシホ
ールドレベルと特定＋１！４１像の輪郭線の両側の濃度
とを比較することに誹って該輪郭線を作成する様になっ
ているので特定ｊｆｉｉ像及び周辺画像の濃度変化に応
じて上記スレシホールドレベルを変化させて所望の特定
ｒＩ！ＪＩ像の輪郭線を検出することができ、さらに２
柚のスレシホールドを用いることによって２細の濃度領
域に挾まれた例えば帯状画像の輪郭線をも抽出すること
ができる効果を有している。

さらに切抜対象が木や森、欄間尋画像の中に抜けがある
場合、ターゲットを画偉内部に移動し、ノズルサイズを
適当に決めて、この発明を実行することにより簡単に作
成できる。塗り込みは、抜は内部には入っていかないよ
うになっているのはいうまでもない。

細い抜けが画像内部に多数ある場合は全面にターゲット
を移動してもよい。　□ 更に原画の輪郭部濃度は、実施例に示した様に濃度差の
はつきりしたものでは大きいノズルを選ぶことができ能
牟はより向上する。原画の輪郭濃度が徐々に変化する場
合はスレシホールドレベルをこまかく変化させることに
より、必要とする輪郭を得ることができる。この作業は
複雑にみえるが、従来方法ではこまかくスタイラスペン
でなぞっていたものをノズルという広い範囲で輪郭法定
できるので、作業能率は著しく向上する。

【図面の簡単な説明】 第１図は従来の抜マスク作製方法を示す図、第２因はこ
の発明を実施して抜マスクを作製する過程を示した図、
第８図はこの発明を実施して帯状の抜マスクを作製する
様子を示した図、第４図は゛ノズルサイズを笈史してマ
スクを作製する過程を示ス図、第５図は現在作製されて
いるマスクド下地マスクとの関係を示す図、第６図はこ
の発明を実施するシステム図、第７図は第６図に示した
システムの動作を示すフローチャート、第８図は第７図
の初期設定を更に詳しく示すフローチャート、第９図は
第７図の部分濃度差マスク作製のステップを更に詳しく
示すフローチャート、第１０図は第９図の条件変更ステ
ップを更に詳しく示したフローチャート、第１１図は第
１０図に示した変化分検出ステップを更に詳しく示した
フローチャート、負：１２図はイメージメモリ及びマス
クメモリ内にノズルが設定される様子を示す図、第１８
図は部分製反差マスクデータが作製される過程を示す図
、第１４図はマスクデータが作製される図、第１５図は
色版選択変更によりマスクデータを得ることを説明する
図である。 第２図 第３図 第４図 ａ 第５ （ａ） ［ （ｂ） （Ｃ） 第１４　図 （ａ）　第１５図　（ｂ） −二］ 手続補正書 事件との関係　出願人 ４、代理人 ６、　補正により増加する発明の数　なし１、明細書１
２頁５行目 「マスク１Ｏ−ＩＪとあるを 「マスクメモリ１０」とする ２、明細書１７頁１０行目 ｒ（Ｓ６：ＹＥＳ）Ｊとあるを ｒ（Ｓ６：有り）」とする ８、図面を別紙の通り補正します。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）原稿を光電走査して得た画像データを一旦イ、）
   ｌ−シメモリに収納し、次に該イメージメモリーから読
   出して画像表示装置に表示し、上記画像表示装置に現わ
   れた抽出されるべき特定画像の輪郭線を含む部分領域を
   設定し、該部分領域内の各画素濃度と任意に設定しうる
   ようにした基準濃度とを比較することによって上記特定
   画像の輪郭線を検出し、該輪郭線に沿った抜きマスクを
   作製する抜きマスク版の作製方法。
2. （２）各ノスルに応じて基準濃度（スレシホールド・レ
   ベル）を任意に変更しながら、抜きマスクを作製する特
   許請求の範囲第１項に記載の抜きマスク版の作製方法。
3. （３）　ノスルを輪郭線に沿って連続的に設定するとき
   ノズルの大きさを任意に変えることによって、部分領域
   を形成する特許請求の範囲第１項に記載の抜きマスク版
   の作製方法。
4. （４）部分領域内の各画素濃度と設定しうる様にしたス
   レシホールドレベルとの比較方法を必要に応じて選択し
   て、輪郭線に沿った抜きマスクを作製する特許請求の範
   囲第１項に記載の抜きマスク版の作製方法。
5. （５）切抜き対象色版を必要に応じて選択しながら、抜
   きマスクを作製する特許請求の範囲第１項に記載の抜き
   マスク版の作製方法。