JPS60140512A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60140512A JPS60140512A JP24690883A JP24690883A JPS60140512A JP S60140512 A JPS60140512 A JP S60140512A JP 24690883 A JP24690883 A JP 24690883A JP 24690883 A JP24690883 A JP 24690883A JP S60140512 A JPS60140512 A JP S60140512A
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- Japan
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- organic resin
- film
- upper magnetic
- magnetic material
- insulating film
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドの製造方法に関し、特に有機樹
脂層間絶縁膜（以下「有機樹脂膜」という）を用いた薄
膜磁気ヘッドにおいて、上記有機樹脂膜上に形成した被
膜の「ふくれ」、剥離欠陥の発生を防止可能とした薄膜
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
脂層間絶縁膜（以下「有機樹脂膜」という）を用いた薄
膜磁気ヘッドにおいて、上記有機樹脂膜上に形成した被
膜の「ふくれ」、剥離欠陥の発生を防止可能とした薄膜
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
薄膜磁気ヘッドは絶縁膜を有する基板上に、下部磁性体
、ギャップ材、導体コイル、上記有機樹脂膜、上部磁性
体および保護膜を順次形成した後、□これをヘッドスラ
イダ形状に機械加工して製造される。
、ギャップ材、導体コイル、上記有機樹脂膜、上部磁性
体および保護膜を順次形成した後、□これをヘッドスラ
イダ形状に機械加工して製造される。
上記有機樹脂膜としては、ポリイミド系等の有機樹脂が
広く用いられている。しかし、これらの有＠樹脂は未硬
化成分の反応、水分および雰囲気ガスの吸着吸蔵、また
は薄膜磁気ヘッドを構成している他の材料との熱膨張係
数の相違等により、主に熱履歴等による外力が加わると
該有機樹脂膜上に形成した膜の密着性を著しく劣化させ
て、いわゆる、被膜の「ふくれ」、剥離等の欠陥を生ず
るという問題があった。以下、これについて図面を用い
て詳細に説明する。
広く用いられている。しかし、これらの有＠樹脂は未硬
化成分の反応、水分および雰囲気ガスの吸着吸蔵、また
は薄膜磁気ヘッドを構成している他の材料との熱膨張係
数の相違等により、主に熱履歴等による外力が加わると
該有機樹脂膜上に形成した膜の密着性を著しく劣化させ
て、いわゆる、被膜の「ふくれ」、剥離等の欠陥を生ず
るという問題があった。以下、これについて図面を用い
て詳細に説明する。
第１図は従来の一般的な製造方法により製造された薄膜
磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）の平面図、
第２図は第１図の八−Ａ部分の断面図である。図におい
て、■は有機樹脂膜、２は基板、３は下部磁性体、４は
ギャップ材、５は導体コイル、６は上部磁性体、７は保
護膜を示している。
磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）の平面図、
第２図は第１図の八−Ａ部分の断面図である。図におい
て、■は有機樹脂膜、２は基板、３は下部磁性体、４は
ギャップ材、５は導体コイル、６は上部磁性体、７は保
護膜を示している。
両図からも明らかな如く、ヘッドの上部磁性体６は平担
な面上に形成し、その磁気特性の劣化を防止する必要が
ある。このため、従来のヘッドにおいては、導体コイル
５の段差を埋め、かつ、平滑な上部磁性体６を得る目的
で、下地として耐電圧、耐熱性に優れた有機樹脂膜１を
用いている。
な面上に形成し、その磁気特性の劣化を防止する必要が
ある。このため、従来のヘッドにおいては、導体コイル
５の段差を埋め、かつ、平滑な上部磁性体６を得る目的
で、下地として耐電圧、耐熱性に優れた有機樹脂膜１を
用いている。
該有機樹脂膜１は下部磁性体３に段差がある場合にその
段差を低減させ、導体コイル５の微細パターンの形成に
も有効であるため、その下地としても用いられる。また
、上記有機樹脂膜１はへノドの主要部分である上下磁性
体３，６および導体コイル５全体の広い領域に形成され
、膜厚約１０μｍ２寸法３００μｍ以上になる。特に、
マルチトラックのヘッドの場合には、長さが１〜２ｍｍ
以上にもなる。
段差を低減させ、導体コイル５の微細パターンの形成に
も有効であるため、その下地としても用いられる。また
、上記有機樹脂膜１はへノドの主要部分である上下磁性
体３，６および導体コイル５全体の広い領域に形成され
、膜厚約１０μｍ２寸法３００μｍ以上になる。特に、
マルチトラックのヘッドの場合には、長さが１〜２ｍｍ
以上にもなる。
ヘッドの素子−Ｌに保護膜７を形成すると、−上記有機
樹脂膜１は完全に覆われた形になる。このため、この後
実施するヘントスライダ加工の際の機械的外力あるいは
電極膜へのリート線接続時の加熱等により、前述の如く
、有機樹脂膜Ｉ上の方護膜７に「ふくれ」８．剥離９等
の欠陥が発生する危険がある。この傾向は、有機樹脂膜
１の面積２体積が増加する程大きくなり、マルチトラッ
クのヘッドの製造を著しく困難にしている問題である。
樹脂膜１は完全に覆われた形になる。このため、この後
実施するヘントスライダ加工の際の機械的外力あるいは
電極膜へのリート線接続時の加熱等により、前述の如く
、有機樹脂膜Ｉ上の方護膜７に「ふくれ」８．剥離９等
の欠陥が発生する危険がある。この傾向は、有機樹脂膜
１の面積２体積が増加する程大きくなり、マルチトラッ
クのヘッドの製造を著しく困難にしている問題である。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法におけ
る上述の如き問題を解消し、高信頼性を有するヘッドの
製造方法を提供することにある。
するところは、従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法におけ
る上述の如き問題を解消し、高信頼性を有するヘッドの
製造方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、絶縁膜を有する基板上に下部磁性
体、ギャップ材、導体コイル、有機樹脂膜、上部磁性体
および保護膜を順次形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、前記有機樹脂膜の平担性および平滑な表面を
利用して導体コイルあるいは上部磁性体を前記有機樹脂
膜上に形成した後、不要となった、その下地となる部分
以外の部分の有機樹脂膜をエツチングにより除去するこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法によって達成
される。
体、ギャップ材、導体コイル、有機樹脂膜、上部磁性体
および保護膜を順次形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、前記有機樹脂膜の平担性および平滑な表面を
利用して導体コイルあるいは上部磁性体を前記有機樹脂
膜上に形成した後、不要となった、その下地となる部分
以外の部分の有機樹脂膜をエツチングにより除去するこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法によって達成
される。
以下１本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第３図は本発明の一実施例であるｖＪ、進方法によって
製造されたヘッドの平面図、第１１図、第５図は第３図
のｌ３−Ｂ部分の断面図である。記うは第１図、第２図
に示したと同じ意味に用いられている。
製造されたヘッドの平面図、第１１図、第５図は第３図
のｌ３−Ｂ部分の断面図である。記うは第１図、第２図
に示したと同じ意味に用いられている。
ヘッドは第５図（Ａ）〜（’Ｄ）に示す如く、基板２上
に下部磁性体３．磁気ギャップ材４．有機樹脂膜ＩＡ、
導体コイル５．および有機松脂膜ＩＢを介在させ、上部
磁性体６および保護膜７を形成して成っている。
に下部磁性体３．磁気ギャップ材４．有機樹脂膜ＩＡ、
導体コイル５．および有機松脂膜ＩＢを介在させ、上部
磁性体６および保護膜７を形成して成っている。
本実施例の製造工程においては、有機樹脂膜ｌＡを下地
として導体コイル５を、また、有機樹脂膜ＩＢを下地と
して上部磁性体６を形成した後、上記導体コイル５およ
び上部磁性体６の下にある有機樹脂膜ＬＡ、ＩＢのみを
残して、他の部分の有機樹脂膜ＩＡ、ＩＢをエツチング
によって除去するものである。このように、有１４ Ｅ
脂膜の不要部分を除去することにより、有機樹脂膜に外
力が加わった場合にもその９響を小さく押さえることが
可能になり、前述の如き有機樹脂膜の「ふくれ」、剥離
等の欠陥を生ずることを防止することが可能になる。
として導体コイル５を、また、有機樹脂膜ＩＢを下地と
して上部磁性体６を形成した後、上記導体コイル５およ
び上部磁性体６の下にある有機樹脂膜ＬＡ、ＩＢのみを
残して、他の部分の有機樹脂膜ＩＡ、ＩＢをエツチング
によって除去するものである。このように、有１４ Ｅ
脂膜の不要部分を除去することにより、有機樹脂膜に外
力が加わった場合にもその９響を小さく押さえることが
可能になり、前述の如き有機樹脂膜の「ふくれ」、剥離
等の欠陥を生ずることを防止することが可能になる。
上記有機松脂膜ＩＡ、ＩＢのエツチングには酸素ガスを
用いたプラズマエツチング、反応性イオンミリングある
いはアルカリ系１容液を用いたウェッ１〜エツチング法
を用いることができる。この場合、上部磁性体６．導体
コイル５に対するサイドエツチング量を少なくし、有機
樹脂膜ＩＡ、ＩＢのみを垂直にエツチングできる条件を
選択することが必要である。これは、その後に形成する
保護膜７のステンプカバレーシを改善するのに効果的で
ある。
用いたプラズマエツチング、反応性イオンミリングある
いはアルカリ系１容液を用いたウェッ１〜エツチング法
を用いることができる。この場合、上部磁性体６．導体
コイル５に対するサイドエツチング量を少なくし、有機
樹脂膜ＩＡ、ＩＢのみを垂直にエツチングできる条件を
選択することが必要である。これは、その後に形成する
保護膜７のステンプカバレーシを改善するのに効果的で
ある。
エツチングの終了検知は予め有機樹脂膜ＩＡ。
ＩＢの膜厚を測定しておき、エツチング時間の管理等に
よって行うことができる。また、前記酸素ガスを用いた
エツチング等を長時間行うことにより、上部磁性体６あ
るいは導体コイル５を酸化させ磁気特性やコイル抵抗値
の劣化を招くおそれがある場合には、それらの膜をホト
レジストで保護するか、またはそれらの膜を形成する際
に上部に酸素ガスに対し遮蔽材となる無機酸化膜（Ａｌ
２Ｏ２゜５１０２．Ｔｊ○２等）やＣｒ、Ｍｏ、Ａｕ、
Ｔｉ等の金属膜を形成しておくと、酸化を防止するのに
有効である。
よって行うことができる。また、前記酸素ガスを用いた
エツチング等を長時間行うことにより、上部磁性体６あ
るいは導体コイル５を酸化させ磁気特性やコイル抵抗値
の劣化を招くおそれがある場合には、それらの膜をホト
レジストで保護するか、またはそれらの膜を形成する際
に上部に酸素ガスに対し遮蔽材となる無機酸化膜（Ａｌ
２Ｏ２゜５１０２．Ｔｊ○２等）やＣｒ、Ｍｏ、Ａｕ、
Ｔｉ等の金属膜を形成しておくと、酸化を防止するのに
有効である。
前記不要部、すなわち、導体コイル５あるいは上部磁性
体６の下地となる部分以外の部分の有機樹脂膜ＩＡ、Ｉ
Ｂをエツチングで除去した後、保護膜７をスパッタリン
グ法等で形成することにより、その後の電極膜の形成あ
るいはり−１−線の接続を容易に行うことが可能になる
。
体６の下地となる部分以外の部分の有機樹脂膜ＩＡ、Ｉ
Ｂをエツチングで除去した後、保護膜７をスパッタリン
グ法等で形成することにより、その後の電極膜の形成あ
るいはり−１−線の接続を容易に行うことが可能になる
。
以上述べた如く、本発明によれば、絶縁膜を有する基板
上に下部磁性体、ギャップ材、導体コイル、有機樹脂層
間絶縁膜、上部磁性体および保護膜を順次形成する薄膜
磁気ヘットの製造方法゛において、前記導体コイルある
いは上部磁性体を前記有機樹脂層間絶縁膜上に形成した
後、その下地となる以外の有機樹脂層間絶縁膜をエツチ
ングにより除去するようにしたので、外力が加わった場
合にも「ふくれ」や剥難等の欠陥を生ずることなく、高
信頼性を有する薄膜磁気ヘットの製造方法を実現できる
という顕著な効果を奏するものである。
上に下部磁性体、ギャップ材、導体コイル、有機樹脂層
間絶縁膜、上部磁性体および保護膜を順次形成する薄膜
磁気ヘットの製造方法゛において、前記導体コイルある
いは上部磁性体を前記有機樹脂層間絶縁膜上に形成した
後、その下地となる以外の有機樹脂層間絶縁膜をエツチ
ングにより除去するようにしたので、外力が加わった場
合にも「ふくれ」や剥難等の欠陥を生ずることなく、高
信頼性を有する薄膜磁気ヘットの製造方法を実現できる
という顕著な効果を奏するものである。
第１図は従来の製造方法によって製造されたヘッドの平
面図、第２図はそのＡ−Ａ断面図、第３図は本発明の一
実施例である製造方法によって製造されたヘッドの平面
図、第４図、第５図はそのＢ−Ｂ断面図である。 ＩＡ、］、Ｂ：有機樹脂膜、２：基板、３：下部磁性体
、４：磁気ギャップ材、５：導体コイル、６：上部磁性
体、７：保護膜。 第 １ 図 第２図 第 ３ 図 第 ４ 図 Φ １ と
面図、第２図はそのＡ−Ａ断面図、第３図は本発明の一
実施例である製造方法によって製造されたヘッドの平面
図、第４図、第５図はそのＢ−Ｂ断面図である。 ＩＡ、］、Ｂ：有機樹脂膜、２：基板、３：下部磁性体
、４：磁気ギャップ材、５：導体コイル、６：上部磁性
体、７：保護膜。 第 １ 図 第２図 第 ３ 図 第 ４ 図 Φ １ と
Claims (1)
- （１）絶縁膜を有する基板上に下部磁性体、ギャップ材
、導体コイル、有機樹脂層間絶縁膜、上部磁性体および
保護膜を順次形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法におい
て、前記導体コイルあるいは上部磁性体を前記有機樹脂
層間絶縁膜上に形成した後、その下地となる以外の有機
樹脂層間絶縁膜をエツチングにより除去することを特徴
とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24690883A JPS60140512A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24690883A JPS60140512A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60140512A true JPS60140512A (ja) | 1985-07-25 |
Family
ID=17155534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24690883A Pending JPS60140512A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60140512A (ja) |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP24690883A patent/JPS60140512A/ja active Pending
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