JPS60136044A - 光デイスクの製造方法 - Google Patents
光デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS60136044A JPS60136044A JP24342083A JP24342083A JPS60136044A JP S60136044 A JPS60136044 A JP S60136044A JP 24342083 A JP24342083 A JP 24342083A JP 24342083 A JP24342083 A JP 24342083A JP S60136044 A JPS60136044 A JP S60136044A
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- Japan
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- laser
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/10—Indicating arrangements; Warning arrangements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明に欠陥存在位置情報をも含む元ディスクの製造方
法に関する。
法に関する。
（ｂ） 技術の背景
光ディスクの製造は、まず平滑に研磨、清浄したガラス
円板にフォトレジストを塗布した状態のものをスピンド
ルモータで回転せしめ、これにレーザビームを照射し微
少間隔を隔て＼多数の同心円状またはスパイラル状の露
光を行って光情報記録用の溝（プリグループ）を感光さ
せると共にトラック番号などのアドレス情報を書込み、
これを現儂してプリグループ原盤を作シ、この上にニッ
ケル（Ｎｉ ）メッキを施したＮｉ原盤を母型としてス レコード製作と同様な工程でプラノチックの透明基板が
作られ、この上にテルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）など
の記録媒体を真空蒸着やスパッタ法などで形成すること
により光ディスクが作られている。ここで、プリグルー
プ原盤は多数の元ディスクを形成する原盤であるから欠
陥部分を含まぬことが必要条件となる。然し乍ら、平滑
に研磨したガラス円板にも多少の傷は存在し、またこの
上に塗布されるフォトレジストの中にも塵埃や微少な固
形物の存在は否定できない０こ＼である限度以上の大き
さの傷や塵埃は記録媒体の欠陥となシ、情報の書込みに
際して品質を低下させている。本発明は高品質なプリグ
ループ原盤の製造法に関するものである。
円板にフォトレジストを塗布した状態のものをスピンド
ルモータで回転せしめ、これにレーザビームを照射し微
少間隔を隔て＼多数の同心円状またはスパイラル状の露
光を行って光情報記録用の溝（プリグループ）を感光さ
せると共にトラック番号などのアドレス情報を書込み、
これを現儂してプリグループ原盤を作シ、この上にニッ
ケル（Ｎｉ ）メッキを施したＮｉ原盤を母型としてス レコード製作と同様な工程でプラノチックの透明基板が
作られ、この上にテルル（Ｔｅ）、セレン（Ｓｅ）など
の記録媒体を真空蒸着やスパッタ法などで形成すること
により光ディスクが作られている。ここで、プリグルー
プ原盤は多数の元ディスクを形成する原盤であるから欠
陥部分を含まぬことが必要条件となる。然し乍ら、平滑
に研磨したガラス円板にも多少の傷は存在し、またこの
上に塗布されるフォトレジストの中にも塵埃や微少な固
形物の存在は否定できない０こ＼である限度以上の大き
さの傷や塵埃は記録媒体の欠陥となシ、情報の書込みに
際して品質を低下させている。本発明は高品質なプリグ
ループ原盤の製造法に関するものである。
（ｅ） 従来技術と問題点
光デイスク用プリグループ原盤の製造に当っては、各工
程すなわち研磨、清浄後およびフォトレジスト塗布後に
専用の測定機を用いて欠陥検査が行われてきたが、ディ
スク全体を詳細に検査するには１〔μ悉〕以下の微少欠
陥を検出できる高精度の装置が必要であり、また検査に
長時間を要するなどの問題があった。
程すなわち研磨、清浄後およびフォトレジスト塗布後に
専用の測定機を用いて欠陥検査が行われてきたが、ディ
スク全体を詳細に検査するには１〔μ悉〕以下の微少欠
陥を検出できる高精度の装置が必要であり、また検査に
長時間を要するなどの問題があった。
また欠陥が検出されてもその欠陥数が僅かの場合はその
ま＼使用されているが、欠陥存在位置を情報としてプリ
グループ原盤に残せないために光デイスク使用時に書込
みビームに先行する欠陥検査用ビームを設けて欠陥検査
を行うなどの方法がとられていた。
ま＼使用されているが、欠陥存在位置を情報としてプリ
グループ原盤に残せないために光デイスク使用時に書込
みビームに先行する欠陥検査用ビームを設けて欠陥検査
を行うなどの方法がとられていた。
然し乍ら、これらの検査設備は高価であり、光ディスク
の各ユーザが書込み設備以外にこれらの検査設備を備え
ることは困難であｐ１元ディスク使用に当っての問題点
とされていた。
の各ユーザが書込み設備以外にこれらの検査設備を備え
ることは困難であｐ１元ディスク使用に当っての問題点
とされていた。
（ｄ） 発明の目的
本発明の目的は、プリグループ原盤の與造に際して欠陥
検査を行い、その欠陥情報を記録しておくことにより元
ディスク使用時に行われる検査工程を省略できる方法を
提供するにある。
検査を行い、その欠陥情報を記録しておくことにより元
ディスク使用時に行われる検査工程を省略できる方法を
提供するにある。
（ｅｌ 発明の構成
本発明の目的は、フォトレジストを塗布したガラス円板
にレーザビームを照射して必要とする情報の書込みを行
ったのち、該円板を現像してプリグループ原盤を製造す
る工程の書込み工程において、フォトレジストに感光し
ない波長のレーザビームで先行走査して前記円板上の欠
陥検出を行い、該欠陥情報を前記書込みレーザにフィト
バックして欠陥情報を記録したプリグループ原盤を製造
することにより達成１−ることかできる。
にレーザビームを照射して必要とする情報の書込みを行
ったのち、該円板を現像してプリグループ原盤を製造す
る工程の書込み工程において、フォトレジストに感光し
ない波長のレーザビームで先行走査して前記円板上の欠
陥検出を行い、該欠陥情報を前記書込みレーザにフィト
バックして欠陥情報を記録したプリグループ原盤を製造
することにより達成１−ることかできる。
（ｆ） 発明の実施例
本発明はグリクループ原盤の製造に使用される通常のレ
ジストが波長６３２８［＾〕のヘリウム・ネオン（Ｈｅ
−Ｎｅ ）レーザには感光しないのを利用して、この
Ｈｅ−Ｎｅレーザを用いて欠陥検査全行い、この結果を
アルゴン（Ａｒ ）レーザ或はヘリウム・カドミウム（
Ｈｅ−ｃｄ）レーザによ９行われる書込みにフィトバッ
クしてアドレス情報と共に欠陥情報を書込むようにした
ものである。
ジストが波長６３２８［＾〕のヘリウム・ネオン（Ｈｅ
−Ｎｅ ）レーザには感光しないのを利用して、この
Ｈｅ−Ｎｅレーザを用いて欠陥検査全行い、この結果を
アルゴン（Ａｒ ）レーザ或はヘリウム・カドミウム（
Ｈｅ−ｃｄ）レーザによ９行われる書込みにフィトバッ
クしてアドレス情報と共に欠陥情報を書込むようにした
ものである。
図は本発明を実施するフォトレジスト露光装置のブロッ
ク図である。すなわち、フォトレジストを塗布したガラ
ス円板１はスピンドルモータ２によ夕回転している。
ク図である。すなわち、フォトレジストを塗布したガラ
ス円板１はスピンドルモータ２によ夕回転している。
と＼で、プリグループの形成およびアドレス情報の書込
み用として、従来はＡｒレーザ元温源３らのレーザ光４
を変調イｇ号作成回路５と回路接続された光変調器６を
用いて変調した後、コリメートレンズ７を用いて平行光
としミラー８で反射させ、その後対物レンズ９でレーザ
光をガラス円板１の上のフォトレジスト膜に集光して書
込み操作を行っていた。
み用として、従来はＡｒレーザ元温源３らのレーザ光４
を変調イｇ号作成回路５と回路接続された光変調器６を
用いて変調した後、コリメートレンズ７を用いて平行光
としミラー８で反射させ、その後対物レンズ９でレーザ
光をガラス円板１の上のフォトレジスト膜に集光して書
込み操作を行っていた。
然し、本発明に係る方法は欠陥検査用のＨｅ−Ｎｅレー
ザ光源１Ｏからの長波長のＨｅ−Ｎｅレーザ光１１をミ
ラー１２で反射し、Ａｒレーザ光４の反射に使用するミ
ラー８を通って従来と同じ方法でガラス円板１の上の７
オトレジスト膜を照射して欠陥検査を行う。こ＼で欠陥
検出は、ガラス円板１からの反射光が欠陥の存在により
散乱度が異ることを利用して光検知器１３ｆ：用いて行
い、検知した信号は欠陥検出回路１４で処理し変調信号
作成回路５と合成して光変調器６に加えればよい。
ザ光源１Ｏからの長波長のＨｅ−Ｎｅレーザ光１１をミ
ラー１２で反射し、Ａｒレーザ光４の反射に使用するミ
ラー８を通って従来と同じ方法でガラス円板１の上の７
オトレジスト膜を照射して欠陥検査を行う。こ＼で欠陥
検出は、ガラス円板１からの反射光が欠陥の存在により
散乱度が異ることを利用して光検知器１３ｆ：用いて行
い、検知した信号は欠陥検出回路１４で処理し変調信号
作成回路５と合成して光変調器６に加えればよい。
すなわち、Ａｒレーザ光４による誉込みに先立ってレジ
ストに感光しない波長のＨｅ−Ｎｅレーザ光１１ｔ−用
いて先行走査を行う。こ＼でミラー８゜対物レンズ９な
どの光学系は共用されて配置されている。
ストに感光しない波長のＨｅ−Ｎｅレーザ光１１ｔ−用
いて先行走査を行う。こ＼でミラー８゜対物レンズ９な
どの光学系は共用されて配置されている。
そして先行走査したＨｅ−Ｎｅレーザ光１１の反射光量
値から欠陥の存在が光検知器１３と欠陥検出回路１４と
で検出されると変調信号作成回路５からの信号と合成し
てＡｒレーザ光４で書込みを行う。例えばトラック番号
などのアドレス情報の書込み倉行ってゆく途中で成るセ
クタ内に欠陥が検出されると、セクタ番号の書込みに続
いて欠陥表示を行えばよい。
値から欠陥の存在が光検知器１３と欠陥検出回路１４と
で検出されると変調信号作成回路５からの信号と合成し
てＡｒレーザ光４で書込みを行う。例えばトラック番号
などのアドレス情報の書込み倉行ってゆく途中で成るセ
クタ内に欠陥が検出されると、セクタ番号の書込みに続
いて欠陥表示を行えばよい。
（ｇ） 発明の効果
従来の元ディスクは情報の書込みに先立って欠陥検査が
必要であったが、本発明に係るようにンリグループ原盤
の製造に際しての検査で検出された欠陥をそのま＼書込
み表示しておけば、光ディスクの使用に当って欠陥検査
が不要となり、これによる省力化と信頼度の向上が可能
となる。
必要であったが、本発明に係るようにンリグループ原盤
の製造に際しての検査で検出された欠陥をそのま＼書込
み表示しておけば、光ディスクの使用に当って欠陥検査
が不要となり、これによる省力化と信頼度の向上が可能
となる。
図は本発明に係るフォトレジスト露光装置の配置図であ
る。 図において、１ｌ−１ｒ、ガラス円板、３はアルゴンレ
ーザ光源、４はアルゴンレーザ光、５に変調信号作成回
路、６は光変調器、１０はヘリウム・ネオンレーザ光源
、１１はヘリウム・ネオンレーザ光１３は光検知器、１
４は欠陥検出回路。
る。 図において、１ｌ−１ｒ、ガラス円板、３はアルゴンレ
ーザ光源、４はアルゴンレーザ光、５に変調信号作成回
路、６は光変調器、１０はヘリウム・ネオンレーザ光源
、１１はヘリウム・ネオンレーザ光１３は光検知器、１
４は欠陥検出回路。
Claims (1)
- フォトレジストを塗布したガラス円板にレーザビーム金
照射して必要とする情報の書込を行ったのち、該円板を
現偉してプリグループ原盤を製造する工程の書込み工程
において、フォトレジストに感光しない波長のレーザビ
ームで先行走査して前記円板上の欠陥検出を行い、該欠
陥情報を前記書込みレーザにフィトパックして欠陥情報
を記録したプリグループ原盤を製造すること１＊徴とす
る光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24342083A JPS60136044A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | 光デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24342083A JPS60136044A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | 光デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136044A true JPS60136044A (ja) | 1985-07-19 |
Family
ID=17103601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24342083A Pending JPS60136044A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | 光デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60136044A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8472020B2 (en) * | 2005-02-15 | 2013-06-25 | Cinram Group, Inc. | Process for enhancing dye polymer recording yields by pre-scanning coated substrate for defects |
-
1983
- 1983-12-23 JP JP24342083A patent/JPS60136044A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8472020B2 (en) * | 2005-02-15 | 2013-06-25 | Cinram Group, Inc. | Process for enhancing dye polymer recording yields by pre-scanning coated substrate for defects |
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