JPS60132927A - 光学活性シクロペンテノンおよびその製造方法 - Google Patents
光学活性シクロペンテノンおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPS60132927A JPS60132927A JP24290583A JP24290583A JPS60132927A JP S60132927 A JPS60132927 A JP S60132927A JP 24290583 A JP24290583 A JP 24290583A JP 24290583 A JP24290583 A JP 24290583A JP S60132927 A JPS60132927 A JP S60132927A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dimethyl
- optically active
- hydroxy
- oxo
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式〔工〕
で示される光学活性なシクロベンテノンおよびその製造
法に関する。
法に関する。
上記式〔工〕のシクロベンテノンは、本発明者らによっ
て初めて得られた新規化合物であって、医薬あるいは農
薬の中間体として極めて有用である。
て初めて得られた新規化合物であって、医薬あるいは農
薬の中間体として極めて有用である。
たとえば、水酸基がR配位である4(R)−ヒドロキシ
−5,5−ジメチル−2−シクロベンテノンはプロスタ
グランディン誘導体の合成中間体として用いることがで
き、また8配位である4(8)−ヒドロキシ−5,5−
ジメチル−2−シクロベンテノンはピレスロイド中間体
として用いることができる。
−5,5−ジメチル−2−シクロベンテノンはプロスタ
グランディン誘導体の合成中間体として用いることがで
き、また8配位である4(8)−ヒドロキシ−5,5−
ジメチル−2−シクロベンテノンはピレスロイド中間体
として用いることができる。
このような4−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シ
クロベンテノンの光学活性については従来全く知られて
おらず、d/一体としてのみTetrahedron、
Vol!、26.1881〜1887(1970)に
記載されている。
クロベンテノンの光学活性については従来全く知られて
おらず、d/一体としてのみTetrahedron、
Vol!、26.1881〜1887(1970)に
記載されている。
しかしながら、その光学活性体についてのそれぞれに関
する具体的な記載、分離については全く記載されす、そ
の可能性についてすら記載されておらす、もちろん分離
された光学活性体の具体的有用性についても知°られて
いない。
する具体的な記載、分離については全く記載されす、そ
の可能性についてすら記載されておらす、もちろん分離
された光学活性体の具体的有用性についても知°られて
いない。
式CI)で示される光学活性体は、特にその水酸基の配
位により、凡配位については医薬中間体として用いられ
、又、S配位については農薬中間体として用いられる。
位により、凡配位については医薬中間体として用いられ
、又、S配位については農薬中間体として用いられる。
したがって、光学活性体を使用するということは、極め
て重要な意味をもつものである。さらにラセミ体での使
用より、光学活性体での使用の方が毒性面からも有利で
ある。
て重要な意味をもつものである。さらにラセミ体での使
用より、光学活性体での使用の方が毒性面からも有利で
ある。
かかる上記式CI)で示される光学活性なシクロベンテ
ノンは式〔l) で示されるラセミ−シクロベンテノンと(l几、58)
−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロキシ−8−オキ
サビシクロ[8,t、0]ヘキサン−2−オンを酸触媒
の存在下に縮合させて(IR,58)−6,6−シメチ
ルー8−オキサ−4(R)−[t(R)−4−オキソ−
5,5−ジメチル−2−シクロペンテニルオキシ〕ビシ
クロ(,8,1,0)ヘキサン−2−オンと(1R,5
8)−6,,6−シメチルー8−オキサ−4(几)−〔
1(8)−4−オキソ−5,5・−ジメチル−2−シク
ロペンテニルオキシ〕ビシクロ[8,1,0]へキサン
−・2−オンのジアステレオマーの混合物を得、このジ
アステレオマーの混合物を分離し、得られたそれぞれの
ジアステレオマーを加水分解することによって製造する
ことができる。
ノンは式〔l) で示されるラセミ−シクロベンテノンと(l几、58)
−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロキシ−8−オキ
サビシクロ[8,t、0]ヘキサン−2−オンを酸触媒
の存在下に縮合させて(IR,58)−6,6−シメチ
ルー8−オキサ−4(R)−[t(R)−4−オキソ−
5,5−ジメチル−2−シクロペンテニルオキシ〕ビシ
クロ(,8,1,0)ヘキサン−2−オンと(1R,5
8)−6,,6−シメチルー8−オキサ−4(几)−〔
1(8)−4−オキソ−5,5・−ジメチル−2−シク
ロペンテニルオキシ〕ビシクロ[8,1,0]へキサン
−・2−オンのジアステレオマーの混合物を得、このジ
アステレオマーの混合物を分離し、得られたそれぞれの
ジアステレオマーを加水分解することによって製造する
ことができる。
ここで、原料として用いられる式[11)で示されるd
/ −4−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シクロ
ベンテノンは以下に示すように、フランカルビノールの
分子内転位により容易に合成することができる。
/ −4−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シクロ
ベンテノンは以下に示すように、フランカルビノールの
分子内転位により容易に合成することができる。
ま1こ、もう一方の原料である( IR,5B)−6,
6−シメチルー4(R)−ヒドロキシ−8−オキサビシ
クロ(8,1,0:lヘキサン−2−オンは、たとえば
特公昭46−24695号に記載の公知の方法により合
成することができる。
6−シメチルー4(R)−ヒドロキシ−8−オキサビシ
クロ(8,1,0:lヘキサン−2−オンは、たとえば
特公昭46−24695号に記載の公知の方法により合
成することができる。
式[■〕化合物と(’IK、58)−6,6−シメチル
ー4(R)−ヒドロキシ−8−オキサヒシプロCB、1
.0:lヘキサン−2−詞ンの縮合は、通常酸触媒の存
在下に加熱脱水することにより実施される。
ー4(R)−ヒドロキシ−8−オキサヒシプロCB、1
.0:lヘキサン−2−詞ンの縮合は、通常酸触媒の存
在下に加熱脱水することにより実施される。
この反応において、溶媒を使用する場合、その溶媒とし
てはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンセン、ク
ロルベンゼン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド等
の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲン
化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混合物
があげられる。その使用量については特に制限なく使用
することができる。
てはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンセン、ク
ロルベンゼン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド等
の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲン
化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混合物
があげられる。その使用量については特に制限なく使用
することができる。
反応に用いるd/ −4−ヒドロキシ−5,5−ジメチ
ル−2−シクロベンテノンはもう一方の原料である(
IK、58)−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロキ
シ−8−オキサビシクロし3.1.03へキサン−2−
オンに対して1当量以上、好ましくは1.2〜2当量の
範囲で用いられる。
ル−2−シクロベンテノンはもう一方の原料である(
IK、58)−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロキ
シ−8−オキサビシクロし3.1.03へキサン−2−
オンに対して1当量以上、好ましくは1.2〜2当量の
範囲で用いられる。
縮合にさいして用いられる酸触媒としては、たとエバパ
ラトルエンスルホン酸、バラトルエンスルホニルクロリ
ド、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸、リン酸
、塩酸、シュウ酸、酸性イオン交換樹脂なとの化合物ま
たはそのピリジン塩等があげられる。反応原料の安定性
をル 考えると、バラトメエンスルホン酸ピリジン塩、メタン
スルホン酸ピリジン塩等の弱酸性の触atが好ましい。
ラトルエンスルホン酸、バラトルエンスルホニルクロリ
ド、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸、リン酸
、塩酸、シュウ酸、酸性イオン交換樹脂なとの化合物ま
たはそのピリジン塩等があげられる。反応原料の安定性
をル 考えると、バラトメエンスルホン酸ピリジン塩、メタン
スルホン酸ピリジン塩等の弱酸性の触atが好ましい。
この反応で水が副生するが、共沸にて系外に除くか、声
るいは硫酸マグネシウム、モレキュラ→−ヴス等を共存
させ脱水させるのが好ましい。
るいは硫酸マグネシウム、モレキュラ→−ヴス等を共存
させ脱水させるのが好ましい。
かかる酸触媒の使用量は、使用する(IR。
58)−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロキシ−8
−オキサビシクロ[8,1,0:)へキサン−2−オン
に対してo、ot−を当量の範囲、好ましくは0.05
〜0.4当量の範囲である。
−オキサビシクロ[8,1,0:)へキサン−2−オン
に対してo、ot−を当量の範囲、好ましくは0.05
〜0.4当量の範囲である。
反応温度は20〜150℃、好ましくは30〜180c
の範囲である。
の範囲である。
反応時間については特に制限はない。
反応終了後、反応液から抽出、濃縮等の通常の操作を行
うことにより、ジアステレオマーの混合物を得る仁とが
できる。
うことにより、ジアステレオマーの混合物を得る仁とが
できる。
ジアステレオマーの分離は物理的手段、具体的には再結
晶やクロマトグラフィー等を利用することによって実施
される。再結晶の場合、再結晶の溶媒としては、イソプ
ロピルエーテル、石油エーテル、ヘキサン、トルエン、
リグロイン等の溶媒の単独もしくは混合物が用いられる
、カラムクロマトグラフィーについては、たとえば、シ
リカゲルクロマトグラフィーを用いて、酢酸エチル−ヘ
キサンの混合溶媒にて留出させることにより実施される
。
晶やクロマトグラフィー等を利用することによって実施
される。再結晶の場合、再結晶の溶媒としては、イソプ
ロピルエーテル、石油エーテル、ヘキサン、トルエン、
リグロイン等の溶媒の単独もしくは混合物が用いられる
、カラムクロマトグラフィーについては、たとえば、シ
リカゲルクロマトグラフィーを用いて、酢酸エチル−ヘ
キサンの混合溶媒にて留出させることにより実施される
。
このようにして分離されたジアステレオマーは、それぞ
れを弱酸性の触媒の存在、非存在下に含水系溶媒中で加
水分解す−ることにより、それぞれのジアステレオマー
に対応した配位を有する光学活性な4−ヒドロキシ−5
,5−ジメチル−2−シクロベンテノンを得る仁とがで
きる。
れを弱酸性の触媒の存在、非存在下に含水系溶媒中で加
水分解す−ることにより、それぞれのジアステレオマー
に対応した配位を有する光学活性な4−ヒドロキシ−5
,5−ジメチル−2−シクロベンテノンを得る仁とがで
きる。
加水分解反応における溶媒としては水と混合できる溶媒
であれば特に制限なく用いることができ、たとえばジオ
キサン、アセトン、メタノール、テトラヒドロフランと
水との混合溶媒があげられ、その使用量は通常式〔工〕
化合物に対して四重量〜50倍重量の範囲である。
であれば特に制限なく用いることができ、たとえばジオ
キサン、アセトン、メタノール、テトラヒドロフランと
水との混合溶媒があげられ、その使用量は通常式〔工〕
化合物に対して四重量〜50倍重量の範囲である。
触媒は必ずしも必要でなく、単に加熱するだけの条件で
も反応は進行するが、触媒を用いる場合、触媒としては
、たとえば酢酸、キ酸、シュウ酸等の弱酸性触媒が例示
され、これらは原料であるジアステレオマーに対し0.
05〜3当量の範囲で使用される。
も反応は進行するが、触媒を用いる場合、触媒としては
、たとえば酢酸、キ酸、シュウ酸等の弱酸性触媒が例示
され、これらは原料であるジアステレオマーに対し0.
05〜3当量の範囲で使用される。
反応温度は一10〜120℃、好ましくは10〜90℃
の範囲である。
の範囲である。
反応時間については特に制限はない。
かくして得られた加水分解反応混合物からの光学活性な
4−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シクロベンテ
ノン(I)の分離は、通常の操作、たとえば、抽出、濃
縮、クロマトグラフィー、再結晶等により容易に実施す
ることができる。
4−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シクロベンテ
ノン(I)の分離は、通常の操作、たとえば、抽出、濃
縮、クロマトグラフィー、再結晶等により容易に実施す
ることができる。
このようにして、極めて光学純度の高い目的化合物〔工
〕かえられ、これはプロスタグランディンの中間体、あ
るいはピレスロイドの原料として使用される。
〕かえられ、これはプロスタグランディンの中間体、あ
るいはピレスロイドの原料として使用される。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
(IR,58)−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロ
キシ−8−オキサビシクロ〔8、L、0)ヘキサン−2
−オン14.25’および4−ヒドロキシ−5,5−ジ
メチル−2−シクロベンテノン18.9y−をベンゼン
200νV −に溶解し、ビリジニウムパラトlエンスル/Iホネ−
)551’を加えて8時間加熱する。副生ずる水は共沸
にて除く。反応終了後、反応液に水5O−を加え、分液
する。有機層はさらにlチ■C工水40+d、2%重ソ
ウ水40−1水50−2回にて順次洗浄する。有機層°
から減圧下に溶媒を餉去すれば(lR,58)−6,6
−ジメ゛チル−゛8−オキサー4(R)(−1(=8)
−4−オキソ−5,5−ジメチル−2−シクロペンテニ
ルオキシフビシクロ〔8゜1.0〕へキサン−2−オン
と(IR,58)−6,6−シメチルー3−オキサ−4
(R)〔1(fL)−4−オキソ−5,5−ジメチル−
2−シクロペンテニルオキシ〕ヒシクロ〔a、t、O)
ヘキサン−2−オンの混合物24、2 Fを得る。 n
D 1.4989次に、ここで得られた混合物209
−をn−ヘキサン;酢酸エチル=65:85の混合溶媒
を用い、シリカゲルクロマトグラフィーにτ分離、精製
する・ この操作によって、ジアステレオマーR配位の結晶、(
IR,58)−6,6−シメチルー8−オキサ−4R(
1(R)−4−オキソ−5,5−ジメチル−2−シクロ
ペンテニルオキシフビシクロ[8,1,0]へキサン−
2−オン8.9Pおよびジアステレオマー゛8配位の結
晶、(lK、58)−6,6−シメチルー3−オキサ−
4(R)〔1(S)−’4−オキソ−6,5−ジメチル
−2−シクロペンテニルオキシフビシクロ[8,1,0
]ヘキサン−2−オン8,2?を得た。
キシ−8−オキサビシクロ〔8、L、0)ヘキサン−2
−オン14.25’および4−ヒドロキシ−5,5−ジ
メチル−2−シクロベンテノン18.9y−をベンゼン
200νV −に溶解し、ビリジニウムパラトlエンスル/Iホネ−
)551’を加えて8時間加熱する。副生ずる水は共沸
にて除く。反応終了後、反応液に水5O−を加え、分液
する。有機層はさらにlチ■C工水40+d、2%重ソ
ウ水40−1水50−2回にて順次洗浄する。有機層°
から減圧下に溶媒を餉去すれば(lR,58)−6,6
−ジメ゛チル−゛8−オキサー4(R)(−1(=8)
−4−オキソ−5,5−ジメチル−2−シクロペンテニ
ルオキシフビシクロ〔8゜1.0〕へキサン−2−オン
と(IR,58)−6,6−シメチルー3−オキサ−4
(R)〔1(fL)−4−オキソ−5,5−ジメチル−
2−シクロペンテニルオキシ〕ヒシクロ〔a、t、O)
ヘキサン−2−オンの混合物24、2 Fを得る。 n
D 1.4989次に、ここで得られた混合物209
−をn−ヘキサン;酢酸エチル=65:85の混合溶媒
を用い、シリカゲルクロマトグラフィーにτ分離、精製
する・ この操作によって、ジアステレオマーR配位の結晶、(
IR,58)−6,6−シメチルー8−オキサ−4R(
1(R)−4−オキソ−5,5−ジメチル−2−シクロ
ペンテニルオキシフビシクロ[8,1,0]へキサン−
2−オン8.9Pおよびジアステレオマー゛8配位の結
晶、(lK、58)−6,6−シメチルー3−オキサ−
4(R)〔1(S)−’4−オキソ−6,5−ジメチル
−2−シクロペンテニルオキシフビシクロ[8,1,0
]ヘキサン−2−オン8,2?を得た。
’(IR,68)−6,6−シメチルー8−オキサ−4
(R)(t(R)−4−オキソ−5,5−ジメf ノk
”−2−シクロペンテニルオキシフビシクロ(8,1,
0]ヘキサン−2−オン α)i;0 −27.1’ (0=1.メタノール)(
l R,58)−6,6−シメチルー8−オキサ−4R
[1(8)−オキソ−5,5−ジメチ□ルー2−シクロ
ペンテニルオキシ〕ヒシクロ[8,1,’0]へキサン
−2−オンα〕己0 −201.7°(C= 1 、メ
タノール)次に、上でえた(IK、58ン−6,6−′
ジメ□チルー8−−キサ−41[1(R)−4−オキ
ソ−5,5−ジメチル−2−シクロペンテニルオキシフ
ビシクロ[8,1,01へよび水40Pを60〜70℃
にて5時間攪拌する。
(R)(t(R)−4−オキソ−5,5−ジメf ノk
”−2−シクロペンテニルオキシフビシクロ(8,1,
0]ヘキサン−2−オン α)i;0 −27.1’ (0=1.メタノール)(
l R,58)−6,6−シメチルー8−オキサ−4R
[1(8)−オキソ−5,5−ジメチ□ルー2−シクロ
ペンテニルオキシ〕ヒシクロ[8,1,’0]へキサン
−2−オンα〕己0 −201.7°(C= 1 、メ
タノール)次に、上でえた(IK、58ン−6,6−′
ジメ□チルー8−−キサ−41[1(R)−4−オキ
ソ−5,5−ジメチル−2−シクロペンテニルオキシフ
ビシクロ[8,1,01へよび水40Pを60〜70℃
にて5時間攪拌する。
反応終了後、減圧にて溶媒を留去する。
濃縮残渣にメチルイソブチルケトン40m1を1加え、
4(R)−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シクロ
ベンテノンおよび(IR。
4(R)−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−シクロ
ベンテノンおよび(IR。
58)−6,6−シメチルー4(R)−ヒドロキシ−8
−オキサビシクロ[8、’1 、0”)ヘキサン−2−
オンを抽出する。有機層は、水20−にて洗浄する。有
機層は□、乾燥後、溶媒を留去する。濃縮残渣を酢酸エ
チル:トルエン=8:5の混合溶媒でカラムクロマトグ
ラフィー精製して4(R)−ヒドロキシ−5,5−ジメ
チル−2−シクロベンテノン2、297を得る。
−オキサビシクロ[8、’1 、0”)ヘキサン−2−
オンを抽出する。有機層は、水20−にて洗浄する。有
機層は□、乾燥後、溶媒を留去する。濃縮残渣を酢酸エ
チル:トルエン=8:5の混合溶媒でカラムクロマトグ
ラフィー精製して4(R)−ヒドロキシ−5,5−ジメ
チル−2−シクロベンテノン2、297を得る。
α已0+85.1’ (0=0.5.メタノール)m、
P、68〜65℃ また、(lR,58)−6,6−シメチルー8−オキサ
−4(RJ[L(S)−4−オキソ−5,5−ジメチル
−2−シクロペンテニルオキシフビシクロ[8,1’、
0)へキサシー2−オン5F、ジオキサン25?および
水40tを60〜70℃にて5時間反応させる。
P、68〜65℃ また、(lR,58)−6,6−シメチルー8−オキサ
−4(RJ[L(S)−4−オキソ−5,5−ジメチル
−2−シクロペンテニルオキシフビシクロ[8,1’、
0)へキサシー2−オン5F、ジオキサン25?および
水40tを60〜70℃にて5時間反応させる。
反応終了後、先と同様に彼処環、精製して4(S)−ヒ
ドロキ゛シー5,5−ジメチル−2−シクロベンテノン
2.27 Pを得る。
ドロキ゛シー5,5−ジメチル−2−シクロベンテノン
2.27 Pを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (])式 で示される光学活性シクロベンテノン (2)式 で示されるう十ミーシクロベンテノン と(IR,58)−6,6−シメチルー4(R)−ヒド
ロキシ−8−オキサビシクロ(8,t、(lヘキサン−
2−オンを酸触媒の存在下に縮合させて(1K、58)
−6゜6−シメチルー3−オキサ−4(R)−[:1(
R)−4−オキソ−5,5−ジメチル−2−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔3゜1.0〕ヘキサン−2−
オンと(IR,58)−6,6−シメチルー8−オキサ
−4(R)−C1(S)−4−オキソ−5,5−ジメチ
ル−2−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロC8,1,
0)へキサン−2−オンのジアステレオマーの混合物を
得、この混合物を分離し、得られたそれぞれのジアステ
レオマーを加水分解することを特徴とする式 で示される光学活性なシクロベンテノンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24290583A JPS60132927A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 光学活性シクロペンテノンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24290583A JPS60132927A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 光学活性シクロペンテノンおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60132927A true JPS60132927A (ja) | 1985-07-16 |
Family
ID=17095956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24290583A Pending JPS60132927A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 光学活性シクロペンテノンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60132927A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56123932A (en) * | 1980-03-06 | 1981-09-29 | Teijin Ltd | Preparation of 4-hydroxycyclopentenone |
JPS58157742A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | l(−)−2−置換−3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノンの製造方法 |
-
1983
- 1983-12-21 JP JP24290583A patent/JPS60132927A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56123932A (en) * | 1980-03-06 | 1981-09-29 | Teijin Ltd | Preparation of 4-hydroxycyclopentenone |
JPS58157742A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | l(−)−2−置換−3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノンの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0285273A (ja) | キラル原子を有機残基中に含む新規なエーテルを使用するアルコール類、フェノール類又はラクトン構造を持つ化合物の分割方法 | |
JPH03173880A (ja) | 新規な置換テトラヒドロフラン誘導体 | |
JPS60132927A (ja) | 光学活性シクロペンテノンおよびその製造方法 | |
US3910958A (en) | Process for preparing arylacetic acids and esters thereof | |
CN114085161B (zh) | 一种制备5-ALA·HCl的中间体及5-ALA·HCl制备方法 | |
US4769478A (en) | Preparation of (1,5) 6,6-dimethyl-4-hydroxy-3-oxabicyclo (3,1,0) hexan-2-one and its ethers | |
CN109096047B (zh) | 一种(1r)-1,3-二苯基-1-丙醇的制备方法 | |
SU408948A1 (ru) | Ан ссср | |
JPH0413659A (ja) | 光学活性1―ベンジル―3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 | |
CN112624953A (zh) | 胆绿素或其衍生物的制备方法 | |
CN116496201A (zh) | 一种氮杂螺环酮类化合物和二羟基氢化吲哚类化合物的制备方法 | |
SU585151A1 (ru) | Способ получени -хлоркетонов | |
JPS63211264A (ja) | インドリン類の製造法 | |
JPH0559912B2 (ja) | ||
JPS59130832A (ja) | 4−ハロゲノ−2−クロロ−3−フエニルクロトンアルデヒド | |
SU464107A3 (ru) | Способ получени -третбутиламинометил -4-оксиметасилен- -диола | |
JPS60132975A (ja) | シクロペンテノンエ−テル誘導体およびその製造法 | |
SU806672A1 (ru) | Способ получени 2-(6-карбалкоксигек-Сил) циКлОпЕНТЕН-2-OHOB-1 | |
EP0101003B2 (en) | Process for preparing 4-oxo-4,5,6,7-tetrahydrobenzofuran derivative | |
JPH08277256A (ja) | 光学活性な(s)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)エタノール、およびその製造方法 | |
JPH1087536A (ja) | 光学活性脂環式アルコール誘導体の製造法 | |
JPH0570630B2 (ja) | ||
JPS60231671A (ja) | 光学的対掌体的に純粋な、アセタールによりモノー保護されたジオール、その製造方法およびその用途 | |
JPH0621097B2 (ja) | 光学活性4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノンの製造法 | |
JPS63222162A (ja) | プテノライド誘導体とその製造法 |