JPS60131521A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

液晶表示素子の製造方法

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Publication number
JPS60131521A
JPS60131521A JP24254783A JP24254783A JPS60131521A JP S60131521 A JPS60131521 A JP S60131521A JP 24254783 A JP24254783 A JP 24254783A JP 24254783 A JP24254783 A JP 24254783A JP S60131521 A JPS60131521 A JP S60131521A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spacer
substrates
crystal display
photoresist material
display element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24254783A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Shirai
白井　芳博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP24254783A priority Critical patent/JPS60131521A/ja
Publication of JPS60131521A publication Critical patent/JPS60131521A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は２枚の基板間に液晶を充填してなる液；・＆。
□。ヮゎカニに□６ｏｌ 〈従来技術〉　。
従来、液晶表示素子の２枚の基板の間隔を均一に保つ為
に、２枚の基板間にガラス繊維、アルミナ粒子、グラス
チック粒子等をスペーサとして分、　散させていた。し
かしこれらのスペー′＋ｊは高温状態での通電、静電気
等により２枚の基板間で移動・する傾向があった。これ
は従来のスペーサが物理吸着されている為である。
く目　的〉 本発明はスペーサが高温状態での通電、静電気等によシ
移動することのない、スペーサの固定状態の良好な液晶
表示素子を提供することを目的とする。
、〈実施例〉 ゛思量、本発明、にｉ係る製造方法の一実施例につい゛
て詳細に説明する。
第１図は本発明に係る製造方法の一実施例の製１造過程
を説明する為の説明図である。以下工程に、従って親御
する。
、（ａ）　フ１トレジ゛ス゛ト塗布工程□　第１図（ａ
）に示す如くガラス、フリスチックフイルムー〇基板１
上に透明電極２及び配向膜３・を形成し、更にその上の
略全面にフォトレジス上材４を塗布する。
（ｂ）　パターン化工程 上記フォトレジスト材４に対してパターン露光を行ない
、次にエツチング及び洗浄によって不要なレジスト材４
を除去してパターン化してスペーサとする。レジスト材
４をパターン化した状態を第１図（ｂ）に示す。こうし
て一方の基板の製造工程を完了する。
上記第１図（ｂ）の基板を用いて液晶表示素子を構成し
た例を第２図に示す。第２図ら）は一方の基板（７１に
第１図（ｂ）の基板を用いたもの、第２図（ｂ）は両方
の基板に第１図（ｂ）の基板、を用いたものである。
５はシール材であり、６は内部に充填された液晶物質で
ある。第２図（ａ）の構造は強誘電性液晶表示素子等の
２μｍ以下の極めて薄いセル厚を必要とする場合に適し
ている。上記フォトレジスト材４によるスペーサのパタ
ーン配列はランダム配列で下部７の範囲を規定するマス
ク（点線の外８１１１）８の範囲全面に配置してもよい
。
〈効　果〉 本発明によれば化学吸着により基板に固定されるフォト
レジスト材をスペーサとして用いたので高温状態での通
電、静電気等により移動することのない堅固なスペーサ
を得ることができる。又パターン露光によってパターン
形状を決めることができるのでスペーサパターン形状の
規則的なものや複雑なものを容易に実現できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る製造方法の一実施例の製造過程を
説明する為の説明図、第２図は本発明に係る製造方法を
用いて１得た液晶表示素子の構成説明図、第８図はフォ
トレジスト材によるスペーサのパターン例を示す説明図
を示す。 図中、ｌ：基板　２：透明電極 ３：配向膜　４ニレジスト材 ５：シール材　６：液晶物質 ７：表示部　８：マスク 代理人　弁理士　福　士　愛　彦（他２名ン参　１図 一−■ 二］ 茅３― （ｂ） ｓ２ｍ ・４

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、　２枚の基板間に液晶を゛充填してなる液晶表示素
    子の製造方法であって、 少なくとも−かの基板の表面上にフォトレジスト材を塗
    布し、該？オドレジスト材に対してパターン露光を行カ
    い、１□不要なフォトレジスト材をエツチング除去し、
    ゛残存する′７オトレジスト材を前記２枚の基板間隔を
    規定するスペーサ：としたことを特徴とする液、晶表示
    素子の製造グ□法。　、
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02131307A (ja) * 1988-11-04 1990-05-21 Kimoto & Co Ltd セルとその製造方法
US5729312A (en) * 1994-03-18 1998-03-17 Sharp Kabushiki Kaisha LCD and method for producing the same in which a larger number of substrate gap control materials is larger in the polymer walls than in the liquid crystal regions
US5861932A (en) * 1997-03-31 1999-01-19 Denso Corporation Liquid crystal cell and its manufacturing method
CN108761889A (zh) * 2018-06-13 2018-11-06 上海天马微电子有限公司 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法

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