JPS60131408A - 微小隙間測定装置 - Google Patents
微小隙間測定装置Info
- Publication number
- JPS60131408A JPS60131408A JP58239732A JP23973283A JPS60131408A JP S60131408 A JPS60131408 A JP S60131408A JP 58239732 A JP58239732 A JP 58239732A JP 23973283 A JP23973283 A JP 23973283A JP S60131408 A JPS60131408 A JP S60131408A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flying height
- image
- interference
- magnetic head
- slider
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 claims description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000005549 size reduction Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B21/00—Head arrangements not specific to the method of recording or reproducing
- G11B21/16—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads
- G11B21/20—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier
- G11B21/21—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier with provision for maintaining desired spacing of head from record carrier, e.g. fluid-dynamic spacing, slider
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/10—Indicating arrangements; Warning arrangements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置の磁気ヘッド浮上量の高精度
自動測定装置に関するもので、磁気ディスクにかえてガ
ラスディスクを用い、磁気ヘッドアッセンブリの浮上量
を測定するものである。
自動測定装置に関するもので、磁気ディスクにかえてガ
ラスディスクを用い、磁気ヘッドアッセンブリの浮上量
を測定するものである。
磁気ヘッドアッセンブリは高速回転する磁気ディスク(
情報記録媒体)の表面に対向して流体力学的なくさび力
の作用によりサブミクロンオーダのすき−1(これを浮
上量と称する)を保って浮上している。この浮上量を安
定にしかも小さく保持できる磁気ヘッドアツセンタリの
信頼性確保のために浮上量の検証が不可欠の条件である
。なお磁気ヘッドはスライダに搭載されて浮上しており
浮上条件はスライダによる。以下では磁気ヘッドをスラ
イダと称する。
情報記録媒体)の表面に対向して流体力学的なくさび力
の作用によりサブミクロンオーダのすき−1(これを浮
上量と称する)を保って浮上している。この浮上量を安
定にしかも小さく保持できる磁気ヘッドアツセンタリの
信頼性確保のために浮上量の検証が不可欠の条件である
。なお磁気ヘッドはスライダに搭載されて浮上しており
浮上条件はスライダによる。以下では磁気ヘッドをスラ
イダと称する。
第1図は例えば、特開昭57−59106号公報に開示
されている光干渉法を利用した測定方法の原“理図を示
したもので、この原理図によシ磁気ディスク装置の模擬
ガラスディスクとスライダとの間で空気力によって浮上
する微小すきま(以下□゛浮上量)を測定する場合につ
いて説明する。
されている光干渉法を利用した測定方法の原“理図を示
したもので、この原理図によシ磁気ディスク装置の模擬
ガラスディスクとスライダとの間で空気力によって浮上
する微小すきま(以下□゛浮上量)を測定する場合につ
いて説明する。
1け広帯域の波長を含む白色光源、2は白色光源1に対
設されたフィルタ、3Fiカメラ、4はフィルタ2およ
びカメラ3に対設されたハーフミラ−15はハーフミラ
−4からの光束を有効に入射させるために表面に反射防
止膜をコーティングしたガラスディスクで、このガラス
ディスク5はハーフミラ−4に対設されている。6はガ
ラスディスク5と対向して設けられたスライダである。
設されたフィルタ、3Fiカメラ、4はフィルタ2およ
びカメラ3に対設されたハーフミラ−15はハーフミラ
−4からの光束を有効に入射させるために表面に反射防
止膜をコーティングしたガラスディスクで、このガラス
ディスク5はハーフミラ−4に対設されている。6はガ
ラスディスク5と対向して設けられたスライダである。
上記フィルター2は白色光源1からの光を単色光の光束
となし、この光束の一部はハーフミラ−4に、よりガラ
スディスク5に入射し、一部がディスクの裏面で反射し
、残りの一部がスライダ6によ如反射する。スライダ6
の表面からの反射光とガラスディスク5の裏面からの反
射光とによシ干渉縞が発生し、この干渉縞をハーフミラ
−4を介してカメラ3によシ観察する。
となし、この光束の一部はハーフミラ−4に、よりガラ
スディスク5に入射し、一部がディスクの裏面で反射し
、残りの一部がスライダ6によ如反射する。スライダ6
の表面からの反射光とガラスディスク5の裏面からの反
射光とによシ干渉縞が発生し、この干渉縞をハーフミラ
−4を介してカメラ3によシ観察する。
カメラ3は例えばポラロイドカメラ等を使用し、撮影し
た写真を目視により測定して浮上量を算出する。
た写真を目視により測定して浮上量を算出する。
従来は写真記録もしくは目視によりスライダ面上の干渉
縞の位置を読み取シ浮上量をめていたがこの測定方法で
は中手間と時間がかかる(11)干渉縞の次数判別が直
接的にできないQ1D測定測定水悪いなどの欠点を有す
る。また上記の次数判別は白色光を入力し、反射光の干
渉色によシ浮上量を決定する方法ゞもある。しかしこれ
では測定精度に限界がある。
縞の位置を読み取シ浮上量をめていたがこの測定方法で
は中手間と時間がかかる(11)干渉縞の次数判別が直
接的にできないQ1D測定測定水悪いなどの欠点を有す
る。また上記の次数判別は白色光を入力し、反射光の干
渉色によシ浮上量を決定する方法ゞもある。しかしこれ
では測定精度に限界がある。
また別な方法として、前記と同様々干渉光学系を用い、
スライダ上のスペーシング測定位置をあらかじめパター
ン位置検出手段によシ定めておき、光電変換手段により
上記測定位置での干渉信号の変化を波長を走査しながら
検出し、電気信号が極大もしくは極小になる時の波長か
ら浮上量をめることも可能である。この測定方法では(
1)干渉光の極大もしくは極小領域は測定位置であるス
ポット点に比べて広がりをもち、正確に走査波長との対
応がつけにくい。
スライダ上のスペーシング測定位置をあらかじめパター
ン位置検出手段によシ定めておき、光電変換手段により
上記測定位置での干渉信号の変化を波長を走査しながら
検出し、電気信号が極大もしくは極小になる時の波長か
ら浮上量をめることも可能である。この測定方法では(
1)干渉光の極大もしくは極小領域は測定位置であるス
ポット点に比べて広がりをもち、正確に走査波長との対
応がつけにくい。
(2)スライダの反射率、面アラサの影響をうけ易(3
)アらかじめパターン位置検出手段により測定位置を定
めるため、測定が2重となる。また測定中の微小振動な
どの影響によりあらかじめ決定し九mIIm位置が変動
するとこの補正は困難であるため測定精度が悪い。
)アらかじめパターン位置検出手段により測定位置を定
めるため、測定が2重となる。また測定中の微小振動な
どの影響によりあらかじめ決定し九mIIm位置が変動
するとこの補正は困難であるため測定精度が悪い。
最近の磁気ディスク装置の大谷量化により記録密度が向
上し、磁門ヘッドと記録媒体との間のスペーシングは増
々小さくなシ(0,3〜0.45μm)、信頼性を確保
する上からスペーシング測定の高精度化と精゛密化それ
に測定時間の短縮と省力化が重要な課−として切望され
ている。
上し、磁門ヘッドと記録媒体との間のスペーシングは増
々小さくなシ(0,3〜0.45μm)、信頼性を確保
する上からスペーシング測定の高精度化と精゛密化それ
に測定時間の短縮と省力化が重要な課−として切望され
ている。
〔発明の目的〕
本発明は前記の欠点を解消し、スライダ浮上量を迅速か
つ高精度に測定する画像走査式浮上量自動測定装置を提
供することを目的゛とする。
つ高精度に測定する画像走査式浮上量自動測定装置を提
供することを目的゛とする。
〔発明の概要〕 □
本発明の第1の実施例によればスライダ浮上量に対応し
た干渉パターンからスライダのエツジ検出、干渉縞のピ
ーク検出9次数判別を符号化したディジタル信号によシ
実施して電算機によりスライダ表面の浮上量を高精度に
自動測定できる。
た干渉パターンからスライダのエツジ検出、干渉縞のピ
ーク検出9次数判別を符号化したディジタル信号によシ
実施して電算機によりスライダ表面の浮上量を高精度に
自動測定できる。
次に第2の実施例によれば測定精度を低下する雑音除去
を有効に実施でき更に高精度自動測定が実現できる。次
に第3の実施例によれば干渉縞を発生する光源波長を変
化することにより、スライダの浮上量が高精細にまシス
ライダ表面の浮上量分布からスライダ表面形状が判別で
きる。
を有効に実施でき更に高精度自動測定が実現できる。次
に第3の実施例によれば干渉縞を発生する光源波長を変
化することにより、スライダの浮上量が高精細にまシス
ライダ表面の浮上量分布からスライダ表面形状が判別で
きる。
以下本発明の詳細な説明する。まず本発明の第1の実施
例を第2図、第3図、第4図において説明する。第2図
において、5は透明ガラスディスク、6はスライダを示
す。透明ガラスディスク5はスピンドル7で支持されて
モータ(図示せず)により回転される。
例を第2図、第3図、第4図において説明する。第2図
において、5は透明ガラスディスク、6はスライダを示
す。透明ガラスディスク5はスピンドル7で支持されて
モータ(図示せず)により回転される。
スライダ6は保持アーム8に保持され、保持アーム8は
ロードアンロードメカ9に固定される。
ロードアンロードメカ9に固定される。
このロードアンロードメカ9はパルスモータ10、リー
ドスクリュー11により、走行レール12の上をガラス
ディスク5の半径方向に移動する。この移動中、保持ア
ーム8は押下げアーム13によシ下側に押下げられてお
り、スライダ6がガラスディスク5上の所定の測定位置
に来たとき押下げアーム13が解放状態になり、スライ
ダ6はガラスディスク5上を浮上する。
ドスクリュー11により、走行レール12の上をガラス
ディスク5の半径方向に移動する。この移動中、保持ア
ーム8は押下げアーム13によシ下側に押下げられてお
り、スライダ6がガラスディスク5上の所定の測定位置
に来たとき押下げアーム13が解放状態になり、スライ
ダ6はガラスディスク5上を浮上する。
スピンドル7及びロードアンロードメカ9は定盤14の
上に固定されている。
上に固定されている。
キセノン光源15からの光束は、モノクロメータ16に
入射し、回折格子の回転角によシ白色光あるいは一次回
折した単色光として出射する。モノクロメータ16から
の光束は光量むら除去レンズ17を介し、レンズ18に
よシ平行光束となってハーフミラ−4により2分割され
る。
入射し、回折格子の回転角によシ白色光あるいは一次回
折した単色光として出射する。モノクロメータ16から
の光束は光量むら除去レンズ17を介し、レンズ18に
よシ平行光束となってハーフミラ−4により2分割され
る。
一方はガラスディスク5を通って、スライダ6との間の
浮動スペーシング部に入射する。浮動スペーシング部に
入射した光束は浮上量に対応した干渉光として反射する
。 ( 反射光はハーフミラ−4を介し、ミラー19で光路を曲
げてレンズ20によ多光電変換部2゛1上に干渉パター
ンを結像する。光電変換部21は画像走査部22によシ
任意の走査位置を走査して干渉縞に対応した電気信号を
出力する。また光電変換部21、走査部22にかえてT
V左カメラ利用しても同様の自動測定は可能である。す
なわち固体撮像素子、ビジョンカメラの類である。次に
光電変換部21からの出力信号は変換部23に入力し離
散サンプリング信号処理を行うための水平及び垂直の同
期分離を実施する。まず変換部23に入力した電気信号
から同期分離回路25によシ同期信号を分離し、更に水
平、垂直分M回路26により水平同期信号、垂直同期信
号をそれぞれ分離し、垂直系のタイミング信号、水平系
のタイミング信号を水平タイミング信号発生器27及び
垂直タイミング信号発生器28によシ生成する。水平タ
イミング信号発生器27は例えば一般的な通常のTV信
号を採用する場合、水平走査のために使蜆慢 用するキ=≠状波の有効走査区間を512(29)分割
する場合を例にとると、12M)IFのタイミング周期
で動作信号パルスを発生する。通常のTV系のフレーム
信号は有効走査線数が480本であシ、そのタイミング
は15.75[Hxである。
浮動スペーシング部に入射する。浮動スペーシング部に
入射した光束は浮上量に対応した干渉光として反射する
。 ( 反射光はハーフミラ−4を介し、ミラー19で光路を曲
げてレンズ20によ多光電変換部2゛1上に干渉パター
ンを結像する。光電変換部21は画像走査部22によシ
任意の走査位置を走査して干渉縞に対応した電気信号を
出力する。また光電変換部21、走査部22にかえてT
V左カメラ利用しても同様の自動測定は可能である。す
なわち固体撮像素子、ビジョンカメラの類である。次に
光電変換部21からの出力信号は変換部23に入力し離
散サンプリング信号処理を行うための水平及び垂直の同
期分離を実施する。まず変換部23に入力した電気信号
から同期分離回路25によシ同期信号を分離し、更に水
平、垂直分M回路26により水平同期信号、垂直同期信
号をそれぞれ分離し、垂直系のタイミング信号、水平系
のタイミング信号を水平タイミング信号発生器27及び
垂直タイミング信号発生器28によシ生成する。水平タ
イミング信号発生器27は例えば一般的な通常のTV信
号を採用する場合、水平走査のために使蜆慢 用するキ=≠状波の有効走査区間を512(29)分割
する場合を例にとると、12M)IFのタイミング周期
で動作信号パルスを発生する。通常のTV系のフレーム
信号は有効走査線数が480本であシ、そのタイミング
は15.75[Hxである。
従って垂直タイミング信号発生器28Fi、 15.7
5KH2のタイミング周期で動作パルスを発生すれば良
い。上記のタイミング信号はA/D変換器24の変換レ
ート制御用信号として入力するとともにフレームメモリ
30のメモリアドレス制御回路29に入力する。A/D
変換器24はビデオ信号を水平タイミング信号のサンプ
ルレート(12MH2)でA/D変換される。1サンプ
ルのビデオ信号の分解能はA/1)変換器の能力に左右
される。ここでは8ビツト(256階調)を使用する。
5KH2のタイミング周期で動作パルスを発生すれば良
い。上記のタイミング信号はA/D変換器24の変換レ
ート制御用信号として入力するとともにフレームメモリ
30のメモリアドレス制御回路29に入力する。A/D
変換器24はビデオ信号を水平タイミング信号のサンプ
ルレート(12MH2)でA/D変換される。1サンプ
ルのビデオ信号の分解能はA/1)変換器の能力に左右
される。ここでは8ビツト(256階調)を使用する。
9ビツト以上のA/D変換器も同様に利用できる。
フレームメモリ3oけ512X480のアドレス空間を
もちそれぞれは8ビツトで、このアドレス空間はメモリ
アドレス制御回路29によってコントロールする。ディ
ジタル化ビデオ信号の記録はメモリアドレス制御回路2
9によってメモリアドレス空間を制御して順次記憶され
る。全アドレス空間に記憶後は記憶を先頭番地に戻って
続行するか、そのまま停止するかはメモリアドレス制御
回路29により実行する。フレームメモリ30には、従
って、干渉パターン像の1画面、1フレームが記憶され
る。次に記憶後のメモリ内の情報は外部の演算部32に
インタフェイス回路31を介して転送できる構成になっ
てお如、演算部32からみたメモリは画像データを任意
の1次元のラインとして抽出可能な構成になっている。
もちそれぞれは8ビツトで、このアドレス空間はメモリ
アドレス制御回路29によってコントロールする。ディ
ジタル化ビデオ信号の記録はメモリアドレス制御回路2
9によってメモリアドレス空間を制御して順次記憶され
る。全アドレス空間に記憶後は記憶を先頭番地に戻って
続行するか、そのまま停止するかはメモリアドレス制御
回路29により実行する。フレームメモリ30には、従
って、干渉パターン像の1画面、1フレームが記憶され
る。次に記憶後のメモリ内の情報は外部の演算部32に
インタフェイス回路31を介して転送できる構成になっ
てお如、演算部32からみたメモリは画像データを任意
の1次元のラインとして抽出可能な構成になっている。
従って演算部32では512X480のアドレス空間の
8ビツトの輝度データを任意方向の1次元ラインのつな
がりとして抽出し、このデータからエツジ検出。
8ビツトの輝度データを任意方向の1次元ラインのつな
がりとして抽出し、このデータからエツジ検出。
干渉縞のピーク検出を行い、アドレス番地を用いて浮上
量を演算する。
量を演算する。
システム制御部33は干渉縞パターンを効果的に発生し
、演算部32に浮上量の算出に必要な情報(波長9回転
数等)を転送する。
、演算部32に浮上量の算出に必要な情報(波長9回転
数等)を転送する。
主な動作は次の通りである。
(1)モノクロメータを制御して単色光の波長を制御す
る。同時にその波長を読み取って演算部32に転送する
。
る。同時にその波長を読み取って演算部32に転送する
。
(2) スライダ6のロード、アンロードのコントロー
ルとスライダ押下刃の解除制御を行う。
ルとスライダ押下刃の解除制御を行う。
(3)ガラスディスク5の回転数の制御を行う。
次に第3(a)図、第3(b)図、第3(c)図及び第
4(a)図、第4(b)図、第4(c)図において浮上
量の算出例を示す。以下では干渉縞の暗部に着目して説
明をすすめるが、明部に対しても全く同様である。
4(a)図、第4(b)図、第4(c)図において浮上
量の算出例を示す。以下では干渉縞の暗部に着目して説
明をすすめるが、明部に対しても全く同様である。
第3(a)図のガラスディスク5及びスライダ6のすき
まht 、 h、、、に対して第3(b)図に示す干渉
縞像が得られ、これはそのまま512X480のアドレ
ス空間を有するフレ、−ムメモリ3oに8ビツトの輝度
データとして記憶されたとする。スライダ6の流入端の
浮上量をり、8、流出端の浮上量を)Inl++ とす
る。第3(b)図において座標をX。
まht 、 h、、、に対して第3(b)図に示す干渉
縞像が得られ、これはそのまま512X480のアドレ
ス空間を有するフレ、−ムメモリ3oに8ビツトの輝度
データとして記憶されたとする。スライダ6の流入端の
浮上量をり、8、流出端の浮上量を)Inl++ とす
る。第3(b)図において座標をX。
YKとるとX方向は1〜512、Y方向け1〜480と
なる。
なる。
今Nyのアドレスを固定してX方向に画像走査した場合
を考える。Y方向は固定でなくても直線的に変化しても
同様に扱うことができる。第3(c)図にメモリ上の輝
度データを示す。これは512画素に分割されており、
それぞれは8ビツトでディジタル化されている。この信
号に対して次の処理を行いスライダのエツジ検出、ピー
ク位置検出を行う。
を考える。Y方向は固定でなくても直線的に変化しても
同様に扱うことができる。第3(c)図にメモリ上の輝
度データを示す。これは512画素に分割されており、
それぞれは8ビツトでディジタル化されている。この信
号に対して次の処理を行いスライダのエツジ検出、ピー
ク位置検出を行う。
(1) 背影の輝度データに対して、輝度変化が最大に
なる位置をエツジとしこれをNzとする。
なる位置をエツジとしこれをNzとする。
(11)明、暗の干渉信号に対して、変化率がφになる
位置をピーク位置としこれをNb I、 Nh l 4
1とする。
位置をピーク位置としこれをNb I、 Nh l 4
1とする。
011)干渉縞の明、暗信号から流入端に至る輝度デー
タの変化率が最大になる位置をスライダ流入端のエツジ
としこれをNcとする。
タの変化率が最大になる位置をスライダ流入端のエツジ
としこれをNcとする。
以上からスライダのエツジ及びピーク位置が決定する。
とすると浮上量は次式でまる。
・・・・・・・・・・・・(2)
よシ
ここでλ:波長、47次数、θはスライダの傾き角で次
式で決定できる。 ゛ 次に次数1の決定方−を示す。第4(a)図に示すガラ
スディスク5及びスライダ6のすきまにおいて、2つの
独立また波長に対する干渉縞の暗部のピーク位置のずれ
量から決定する。第4(b)図にそめ方法を余す。この
決定方法にbbて、λ、〈λ2とする。例えげλ1=0
.40μm、λ−,= 0.444μmの場合を例にと
る。スライダの傾きθの変動量は小さく、一定であるた
め、波長λlと波長λ2との間には次式が成立する。
式で決定できる。 ゛ 次に次数1の決定方−を示す。第4(a)図に示すガラ
スディスク5及びスライダ6のすきまにおいて、2つの
独立また波長に対する干渉縞の暗部のピーク位置のずれ
量から決定する。第4(b)図にそめ方法を余す。この
決定方法にbbて、λ、〈λ2とする。例えげλ1=0
.40μm、λ−,= 0.444μmの場合を例にと
る。スライダの傾きθの変動量は小さく、一定であるた
め、波長λlと波長λ2との間には次式が成立する。
波長λ2の測定結果に1を付加して表わすとここで
とおくと
ΔN++t−ΔN+ 72. tan 、 (λ2−λ
1)・・・・・・(7)(7)式はλ1→λ2に波長を
変化したとき、干渉縞の暗部のピーク位置のずれ量は、
結像倍率m1スライダの傾きθ、波長λ!、λ2が与え
られると一意的に決定されることを示している。すなわ
ちi=Qのとき浮上誓は零であるから(7)式けとなる
。すなわち2波長による干渉縞の暗部のビーj位置を測
定して、その変化量を検出したときΔN+ 2 tanθ−−−−=i・−・・−−−−(9)(λ
2−λl) として次数を決定できる。第4(C)図は各次数ごとで
増加していることが分る。
1)・・・・・・(7)(7)式はλ1→λ2に波長を
変化したとき、干渉縞の暗部のピーク位置のずれ量は、
結像倍率m1スライダの傾きθ、波長λ!、λ2が与え
られると一意的に決定されることを示している。すなわ
ちi=Qのとき浮上誓は零であるから(7)式けとなる
。すなわち2波長による干渉縞の暗部のビーj位置を測
定して、その変化量を検出したときΔN+ 2 tanθ−−−−=i・−・・−−−−(9)(λ
2−λl) として次数を決定できる。第4(C)図は各次数ごとで
増加していることが分る。
次数が例えば1==lと決定すれば(2)式及び(3)
式よF) )llalll 1 hwm**は外挿法に
より次式でめることができる。
式よF) )llalll 1 hwm**は外挿法に
より次式でめることができる。
次に明部と暗部のピーク位置を併用すれば情報量は更に
増加しより高精度化を図ることができる。
増加しより高精度化を図ることができる。
浮上量の測定範囲の下限も明らかにできる。第5(a)
図、第5(b)図、第5(C)図はその算出例を示す。
図、第5(b)図、第5(C)図はその算出例を示す。
第5(a)図のガラスディスク5及びスライダ6のすき
ま部において、第5(b)図及び第5(C)図に示すよ
うに暗部のエツジからの画素の位置をX1%明部のエツ
ジからの画素の位置をXsとすれば次式が成立する。
ま部において、第5(b)図及び第5(C)図に示すよ
うに暗部のエツジからの画素の位置をX1%明部のエツ
ジからの画素の位置をXsとすれば次式が成立する。
より
但し
λ
tanθ=
4 (Xs XI )
となる。従って外挿法では明部、暗部の干渉縞が最低で
1つ発生していればスライダの浮上量は測ン 部)となる(第5(C)図参照)。
1つ発生していればスライダの浮上量は測ン 部)となる(第5(C)図参照)。
上記第2図に示す例において、画像走査後の電気信号に
対しては次のいずれかのノズル処理を施すことが可能で
ある。
対しては次のいずれかのノズル処理を施すことが可能で
ある。
(1) スムージング:
I(n−2)+I(n−1)+I(n)+I(n+1)
+I(n+2)(2)重み付スムージングニ I (n−2) +2I (n−1)+3I (n)+
2I (n+1 )十I (n+2 )(3)FFT これらは、演算部32において実施する。このノイズ処
理は、エツジ検出、ピーク位置検出の前処理として実施
すれば良い。
+I(n+2)(2)重み付スムージングニ I (n−2) +2I (n−1)+3I (n)+
2I (n+1 )十I (n+2 )(3)FFT これらは、演算部32において実施する。このノイズ処
理は、エツジ検出、ピーク位置検出の前処理として実施
すれば良い。
以上説明した側においては、波長λ!、λ2に対して次
数が決定されるとそれぞれの干渉縞の明部と暗部のピー
ク位置はスライダ面上に対し−4一意的に決定する。こ
れに対して第6図に示すようにガラスディスク5とスラ
イダ6において、λ1の波長に対してそれぞれのピーク
位置での浮上量は口で決定できる。同様にλ2は◎、λ
3はΔ、λ4は○と決定される。也れらの浮上量は干渉
縞のピーク位置で示される浮上量でスライダ6やガラス
ディスク5の反射率の変化の影響を受けない。
数が決定されるとそれぞれの干渉縞の明部と暗部のピー
ク位置はスライダ面上に対し−4一意的に決定する。こ
れに対して第6図に示すようにガラスディスク5とスラ
イダ6において、λ1の波長に対してそれぞれのピーク
位置での浮上量は口で決定できる。同様にλ2は◎、λ
3はΔ、λ4は○と決定される。也れらの浮上量は干渉
縞のピーク位置で示される浮上量でスライダ6やガラス
ディスク5の反射率の変化の影響を受けない。
第6図に示すように各波長を変化した時の浮上量はスラ
イダ60表面形状の分布曲線を示している゛ことが分る
。多波長による干渉縞の明部、暗部のピーク位置を検出
することにより、スライダ60表面形状が把握できる。
イダ60表面形状の分布曲線を示している゛ことが分る
。多波長による干渉縞の明部、暗部のピーク位置を検出
することにより、スライダ60表面形状が把握できる。
各点を連ねた曲線が走査位置での断面曲線を与える。他
の走査位置を順次連ねることによシ、3次元の表面形状
を測定することも可能である。
の走査位置を順次連ねることによシ、3次元の表面形状
を測定することも可能である。
次に第4の実施例を示す。第7図忙実施例を示す。スラ
イダ6にかえて基準スケール34を光電変換部21に結
像したときの各格子点の座標を測定して、それぞれを表
にして補正表を作成する。
イダ6にかえて基準スケール34を光電変換部21に結
像したときの各格子点の座標を測定して、それぞれを表
にして補正表を作成する。
補正表での値は、光電変換部21のシェーディング、光
学系のひずみ等をすべて含んだ形で測定されてbる。従
って光電変換部21に結像した1画面はフレームメモリ
(図示せず)の512X480のアドレス空間の各点に
対してひずみ量に対応した位置に存在する。本来正方格
子の持つ精度を実用上十分にとれば、基準スケール34
からひずみ量を補正することができる。スライダのエツ
ジ位置、干渉縞のピーク位置を補正表により補正して浮
上量を演算すれば高精度測定が可能となる。
学系のひずみ等をすべて含んだ形で測定されてbる。従
って光電変換部21に結像した1画面はフレームメモリ
(図示せず)の512X480のアドレス空間の各点に
対してひずみ量に対応した位置に存在する。本来正方格
子の持つ精度を実用上十分にとれば、基準スケール34
からひずみ量を補正することができる。スライダのエツ
ジ位置、干渉縞のピーク位置を補正表により補正して浮
上量を演算すれば高精度測定が可能となる。
以上の実施例を自動測定を行う場合、次の順序で実施す
れば良い。
れば良い。
(1) あらかじめ光学ひずみ1画像ひずみを測定して
補正表を演算部に準備する。
補正表を演算部に準備する。
(2)画像走査位置(例えば第3(b)図のNY)をあ
らかじめ定めるか、もしくはこれをY方向画像走査によ
請求める。
らかじめ定めるか、もしくはこれをY方向画像走査によ
請求める。
(3)干渉縞の電気信号から自動的にエツジ検出。
明部のピーク検出を行う。これを波長をかえて行う。
(4) 次数判別及び浮上量の演算を実施する。
(5)結果を出力する。
以上説明したように、本発明によれば、ガラスディスク
とスライダの浮上蓋を昼精度に測定することができ、ま
たスライダの表面形状を測定することができる。またす
べての測定は自動的に測定できるので測定時間を大幅に
短縮でき浮上量測定の高速化に大きな効果を有する。
とスライダの浮上蓋を昼精度に測定することができ、ま
たスライダの表面形状を測定することができる。またす
べての測定は自動的に測定できるので測定時間を大幅に
短縮でき浮上量測定の高速化に大きな効果を有する。
第1図は従来のスライダの浮上量の測定方法を示す回、
第2図は本発明の第一の実施例の全体構成を説明する図
、第3(a)図、第3缶)図、第3(C)図、及び第4
(a)図、第4(b)図、第4(C)図は浮上量の算出
及び次数判別を説明する図、第5(a)図、第5(b)
図及び第5(C)図は浮上量の測定範囲の下限を説明す
る図、第6図は本発明の詳細な説明する図、第7図は本
発明の更に他の例を説明する要部構成図である。 5・・・ガラスディスク、6・・・スライダ、16・・
・モノクロメータ、21・・・光電変換部、22・・・
画像走査部、29・・・メモリアドレス制御回路、3O
・・・フレームメモリ、32・・・演算部、33・・・
システム制御部、34・・・基準スケール。 fJ 1 図 % 3(0図 ″¥1 3 (b、)口 第36)図 猶 4 (幻 国 M 5 ど久ノ 図 第5(b)図 1FJ5(C)図 ¥J K 図 佳置
第2図は本発明の第一の実施例の全体構成を説明する図
、第3(a)図、第3缶)図、第3(C)図、及び第4
(a)図、第4(b)図、第4(C)図は浮上量の算出
及び次数判別を説明する図、第5(a)図、第5(b)
図及び第5(C)図は浮上量の測定範囲の下限を説明す
る図、第6図は本発明の詳細な説明する図、第7図は本
発明の更に他の例を説明する要部構成図である。 5・・・ガラスディスク、6・・・スライダ、16・・
・モノクロメータ、21・・・光電変換部、22・・・
画像走査部、29・・・メモリアドレス制御回路、3O
・・・フレームメモリ、32・・・演算部、33・・・
システム制御部、34・・・基準スケール。 fJ 1 図 % 3(0図 ″¥1 3 (b、)口 第36)図 猶 4 (幻 国 M 5 ど久ノ 図 第5(b)図 1FJ5(C)図 ¥J K 図 佳置
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、情報記憶装置における磁気ヘッドと情報記録媒体0
一方ぎ光学的透明体′置きかえ1光干渉法により干渉縞
を創生じて浮上量を2次元の干渉縞パターンの位置情報
として検出し測定する装置において、多波長を有する光
源部出力光束の波長可変手段と光量むら平滑化手段を有
し、2物体間の浮上量発生部に入力光束を照射する光学
系手段と浮上量発生部からの反射光を結像する結像手段
と、結像面下の光の強度を検出する光電変換手段と光電
変換面上の干渉像を画像走査する手段と走査後得られた
電気信号を離散サンプル後ディジタル信号憾変換する手
段とこれを記憶する記憶する手段とこれを演算する演算
処理手段を有し、単色波長照射時の光電面上の干渉画像
を走査したときの検出信号から磁気ヘッドの輪郭形状検
出、干渉縞の明部、暗部ピーク発生位置検出、次数判別
によシ磁気へラド浮上量を自動測定することを特徴とす
る画像走査式浮上量自動測定装置。 2 光電変換面上の光干渉像を画像走査す゛る手段によ
り画像走査後得られる電気信号に対して、雑音除去平滑
化手段と、この雑音除去平滑化手段によシミ気信号を整
形する手段を付加し、この手段からの隼号を演算手段に
よ如演算した磁気ヘッドの輪郭形状検出、干渉縞の明部
、暗部ピーク発生位置検出によ如浮上量を測定すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の画像走査式浮
上量自動測定装置。 3、光源部の出力光束を単色光の波長する手段と、この
単色光の波長を順次可変にする手段と、各波長に対する
光干渉像を光電変換部に結像する手段と、画像走査後得
られる電気信号から磁気ヘッドの輪郭形状検出、干渉縞
の明部、暗部ピーク位置検出する手段と、この検出信号
によシ磁気ヘッドの浮上量と磁気ヘッドの表面形状を同
時自動測定する手段とを備えたことを特徴とする特許請
求の範囲第1項または第2項に記載の画像走査式浮上量
自動測定装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58239732A JPS60131408A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 微小隙間測定装置 |
US06/633,274 US4630926A (en) | 1983-12-21 | 1984-07-23 | Fine clearance measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58239732A JPS60131408A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 微小隙間測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60131408A true JPS60131408A (ja) | 1985-07-13 |
JPH0444923B2 JPH0444923B2 (ja) | 1992-07-23 |
Family
ID=17049102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58239732A Granted JPS60131408A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 微小隙間測定装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4630926A (ja) |
JP (1) | JPS60131408A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62118203A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-29 | Sony Corp | ヘツド浮上量測定方法 |
JPS62174212U (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-05 | ||
JP2010060385A (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Shibaura Mechatronics Corp | 液膜厚の測定装置及び測定方法 |
CN114383522A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-04-22 | 易思维(杭州)科技有限公司 | 一种测量反光差异工件表面间隙、面差的方法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0654221B2 (ja) * | 1985-04-12 | 1994-07-20 | 株式会社日立製作所 | 段差測定装置およびその方法 |
US5042949A (en) * | 1989-03-17 | 1991-08-27 | Greenberg Jeffrey S | Optical profiler for films and substrates |
JPH04161832A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-05 | Olympus Optical Co Ltd | 光位相差測定法 |
US5280340A (en) * | 1991-10-23 | 1994-01-18 | Phase Metrics | Method and apparatus to calibrate intensity and determine fringe order for interferometric measurement of small spacings |
US5457534A (en) * | 1991-10-23 | 1995-10-10 | Phase Metrics | Method and apparatus to calibrate intensity and determine fringe order for interferometric measurement of small spacings |
JPH0827178B2 (ja) * | 1992-11-06 | 1996-03-21 | 日本アイ・ビー・エム株式会社 | ヘッド浮上量測定装置 |
US5673110A (en) * | 1993-01-26 | 1997-09-30 | Phase Metrics, Inc. | Multiplexed laser interferometer for non-dispersed spectrum detection in a dynamic flying height tester |
US5675463A (en) * | 1995-12-07 | 1997-10-07 | Samsung Electronics, Inc. | Slider with a transparent coating on a rail and a reflective material within a recess of the rail |
US5781299A (en) * | 1996-09-24 | 1998-07-14 | Phase Metrics | Determining the complex refractive index phase offset in interferometric flying height testing |
US6704161B1 (en) | 1998-11-06 | 2004-03-09 | Samsung Electronics Co. Ltd. | Shock protection skin bumper for a hard disk drive |
US6417986B1 (en) | 1998-11-16 | 2002-07-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Impact guard for limiting hard disk movement |
US6549372B1 (en) | 1998-12-15 | 2003-04-15 | Samsung Electronics Co., Ltd | Device for limiting head movement within a hard disk drive |
US6417994B1 (en) | 1999-04-22 | 2002-07-09 | Samsung Electronics, Co., Ltd. | Swage plate with protruded walls to increase retention torque in hard disk applications |
US6501614B1 (en) | 1999-08-19 | 2002-12-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Acoustic insulator for controlling noise generated in a mass storage device |
US6744597B2 (en) | 1999-10-29 | 2004-06-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Dynamic absorber for an actuator arm in a disk drive |
US6947252B2 (en) | 2000-05-10 | 2005-09-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Wave stringer for controlling acoustic noise and shock vibration in a storage device |
US6687008B1 (en) | 2000-10-19 | 2004-02-03 | Kla-Tencor Corporation | Waveguide based parallel multi-phaseshift interferometry for high speed metrology, optical inspection, and non-contact sensing |
US6446517B1 (en) | 2000-11-20 | 2002-09-10 | Samsung Electronics Company | Controlled particle deposition in drives and on media for thermal asperity studies |
US6590738B2 (en) | 2001-03-01 | 2003-07-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Particle removal device in a hard disk drive |
US6762908B2 (en) | 2001-06-18 | 2004-07-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Air razor and disk limiter for a hard disk drive |
US7817286B2 (en) * | 2006-12-22 | 2010-10-19 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Iteration method to improve the fly height measurement accuracy by optical interference method and theoretical pitch and roll effect |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58184504A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-28 | Hitachi Ltd | 微小すきまの光学的測定方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4159522A (en) * | 1977-05-12 | 1979-06-26 | Zanoni Carl A | Apparatus and method for measuring interference patterns and interferograms |
-
1983
- 1983-12-21 JP JP58239732A patent/JPS60131408A/ja active Granted
-
1984
- 1984-07-23 US US06/633,274 patent/US4630926A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58184504A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-28 | Hitachi Ltd | 微小すきまの光学的測定方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62118203A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-29 | Sony Corp | ヘツド浮上量測定方法 |
JPS62174212U (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-05 | ||
JP2010060385A (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Shibaura Mechatronics Corp | 液膜厚の測定装置及び測定方法 |
CN114383522A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-04-22 | 易思维(杭州)科技有限公司 | 一种测量反光差异工件表面间隙、面差的方法 |
CN114383522B (zh) * | 2021-12-29 | 2024-04-05 | 易思维(杭州)科技股份有限公司 | 一种测量反光差异工件表面间隙、面差的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0444923B2 (ja) | 1992-07-23 |
US4630926A (en) | 1986-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60131408A (ja) | 微小隙間測定装置 | |
US5546189A (en) | Triangulation-based 3D imaging and processing method and system | |
US20100195114A1 (en) | Three-dimensional shape measuring apparatus, three-dimensional shape measuring method, three-dimensional shape measuring program, and recording medium | |
US20090046543A1 (en) | Image processing system and method for silhouette rendering and display of images during interventional procedures | |
GB2059057A (en) | Photo-electric focussing error detection | |
JPH0117523B2 (ja) | ||
JPS58208946A (ja) | フォーカシングエラー検出装置及び情報記録再生装置 | |
JP3494964B2 (ja) | 表面形状測定装置 | |
US4079421A (en) | Image scanning system | |
JP3727758B2 (ja) | 映り込み防止形撮像装置 | |
TWI851819B (zh) | 半導體檢測的系統及方法,以及非暫時性電腦可讀媒體 | |
JPS5856972B2 (ja) | 位置検出装置 | |
JP2005227246A (ja) | 3次元計測装置、3次元計測方法及び3次元計測プログラム | |
JP2830462B2 (ja) | 位置合わせ装置、露光装置、及びそれらを用いた半導体素子の製造方法 | |
JP2787928B2 (ja) | 画像信号処理方法 | |
WO1999008066A1 (en) | Interference method and system for measuring the thickness of an optically-transmissive thin layer formed on a relatively planar, optically-reflective surface | |
JPH11295051A (ja) | 共焦点顕微鏡装置及びその方法 | |
JPH01130333A (ja) | 焦点誤差検出装置 | |
JPS6319001B2 (ja) | ||
JPH0373803B2 (ja) | ||
JPS6287804A (ja) | 磁気ヘツド浮上量測定装置 | |
JP4125563B2 (ja) | 光学素子位置計測方法及び装置、導波路調整方法及び装置ならびに光モジュール製造方法 | |
JPH0338522B2 (ja) | ||
JPH0467124B2 (ja) | ||
JPH0157885B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |