JPH0444923B2 - - Google Patents

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JPH0444923B2
JPH0444923B2 JP58239732A JP23973283A JPH0444923B2 JP H0444923 B2 JPH0444923 B2 JP H0444923B2 JP 58239732 A JP58239732 A JP 58239732A JP 23973283 A JP23973283 A JP 23973283A JP H0444923 B2 JPH0444923 B2 JP H0444923B2
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slider
wavelength
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Katsuyuki Tanaka
Seiichiro Terajima
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Satoko Otaka
Sukeo Saito
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は２物体間の微小な〓間を測定する装置
に関し、特に磁気デイスク装置の磁気ヘツド浮上
量を高精度に測定するのに適した測定装置に関す
る。
〔従来の技術〕
微小〓間を測定する例として、例えば磁気デイ
スク装置における磁気ヘツドの浮上量を測定する
場合について説明する。磁気デイスク装置におけ
る磁気ヘツドアセンブリは、高速回転する磁気デ
イスク（情報記録媒体）の表面に対向して流体力
学的なくさび力の作用によりサブミクロンオーダ
のすきま（これを浮上量と称する）を保つて浮上
している。この浮上量を安定にしかも小さく保持
できる磁気ヘツドアセンブリの信頼性確保のため
に浮上量の検証が不可欠の条件である。なお磁気
ヘツドはスライダに搭載されて浮上しており浮上
条件はスライダに依存する。以下では磁気ヘツド
をスライダと称する。
第１図は例えば、特開昭57−59106号公報に開
示されている光干渉法を利用した測定方法の原理
図を示したもので、この原理図により磁気デイス
ク装置の模擬ガラスデイスクとスライダとの間で
空気力によつて浮上する微小すきま（以下浮上
量）を測定する場合について説明する。
１は広帯域の波長を含む白色光源、２は白色光
源１に対設されたフイルタ、３はカメラ、４はフ
イルタ２およびカメラ３に対設されたハーフミラ
ー、５はハーフミラー４からの光束を有効に入射
させるために表面に反射防止膜をコーテイングし
たガラスデイスクで、このガラスデイスク５はハ
ーフミラー４に対設されている。６はガラスデイ
スク５と対向して設けられたスライダである。上
記フイルター２は白色光源１からの光の単色光の
光束となし、この光束の一部はハーフミラー４に
よりガラスコーテイングしたガラスデイスク５に
入射し、一部がデイスク５の裏面で反射し、残り
の一部がスライダ６により反射する。スライダ６
の表面からの反射光とガラスデイスク５の裏面か
らの反射光とにより干渉縞が発生し、この干渉縞
をハーフミラー４を介してカメラ３により観察す
る。
カメラ３は例えばポラロイドカメラ等を使用
し、撮影した写真を目視により測定して浮上量を
算出する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来は写真記録もしくは目視によりスライダ面
上の干渉縞の位置を読み取り浮上量を求めていた
がこの測定方法では、（）手間と時間がかかる。
（）干渉縞の次数判別が直接的にできない。
（）測定精度が悪いなどの欠点を有する。また
上記の次数判別は白色光を入力し、反射光の干渉
色により浮上量を決定する方法もある。しかしこ
れでは測定精度に限界がある。
また別な方法として、前記と同様な干渉光学系
を用い、スライダ上のスペーシング測定位置をあ
らかじめパターン位置検出手段により定めてお
き、光電変換手段により上記測定位置での干渉信
号の変化を波長を走査しながら検出し、電気信号
が極大もしくは極小になる時の波長から浮上量を
求めることも可能である。この測定方法では (1) 干渉光の極大もしくは極小領域は測定位置で
あるスポツト点に比べて広がりをもち、正確に
走査波長との対応がつけにくい。
(2) スライダの反射率、面アラサの影響をうけ易
く、測定値の再現性が乏しい。
(3) あらかじめパターン位置検出手段により測定
位置を定めるため、測定が２重となる。また測
定中の微小振動などの影響によりあらかじめ決
定した測定位置が変動すると、この補正は困難
であるため測定精度が悪い。
等の欠点がある。
最近の磁気デイスク装置の大容量化により記録
密度が向上し、磁気ヘツドと記録媒体との間のス
ペーシングはますます小さくなり（0.3〜0.45μ
ｍ）、信頼性を確保する上からスペーシング測定
の高精度化と精密化、それに測定時間の短縮と省
力化が重要な課題として切望されている。
本出願人は、光干渉原理をもとにした微小浮上
量の動的測定方法の提案（特開昭58−184504号公
報参照）をした。しかし、同公報の測定方法で
は、干渉縞の次数判別を自動的に行なうことがで
きない。また、２つの暗部ピーク位置における浮
上量から、スライダ両端の最大最小浮上量を求め
るに止まるもので、スライダ全体のわん曲形状等
を考慮した任意の位置の浮上量を自動的に求める
ことができない。
本発明は、前記の欠点を解消し、干渉縞の次数
を自動的に決定でき、スライダの浮上量を自動測
定できる微小〓間測定装置を提供することを目的
とする。
〔課題を解決するための手段〕 上記の目的を達成するために本発明は、回転す
る磁気デイスクと該磁気デイスクに対向させて保
持される磁気ヘツドスライダの少なくとも一方を
透明部材により模擬形成し、前記磁気デイスク又
はスライダの透明部分を透過して前記磁気デイス
クと前記スライダとの対向部に光を照射し、該対
向部から反射される光の干渉縞パターンから前記
スライダの浮上量を測定する微小〓間測定装置に
おいて、前記対向部に照射する光の波長を指令に
応じて異なる波長に切り換えて照射する光学系手
段と、前記対向部からの光の干渉縞パターンを受
像し該干渉縞パターン像を走査して光の強度分布
を検出する光電変換手段と、該検出された光の強
度分布データから前記浮上量を演算により求める
演算手段と、前記光学系手段に光の波長の切り換
えを指令出力するとともに該切り換え指令に係る
波長情報λを前記演算手段に出力する制御手段と
を備え、前記演算手段は、前記光電変換手段から
一の波長λに係る前記光の強度分布データを入力
し、該入力データに基づいて、光の強度が急激に
変化する位置を前記スライダの端部として検出す
るとともに、該端部を基準として光干渉縞の明部
又は暗部の少なくとも２つのピーク位置X1、X2
を検出し、該２つのピーク位置間の距離と前記波
長λから前記磁気デイスクと前記スライダの対向
面がなす角度θを求めるとともに、前記光電変換
手段から、前記制御手段の指令により切り換えら
れた少なくとも２つの異なる波長λ、λ′に係る前
記光の強度分布データを入力し、該２つの入力デ
ータに基づいて光干渉縞の対応する明部又は暗部
の少なくとも一方のピーク位置X1とX1′を検出
し、該ピーク位置のずれ量ΔXに基づいて、次式
により当該ピーク位置X1の干渉縞の次数ｉを求
め、 ｉ＝2tanθ・ΔX／λ2−λ1 前記ピーク位置X1の次数ｉを基準として前記
光の強度分布データの各ピーク位置Ｘの次数ｉを
求め、求めた次数ｉと前記波長λとから次式によ
り各ピーク位置における浮上量ｈを求め、 （暗部ピーク位置の場合） ｈ＝１／２・λ・ｉ （明部ピーク位置の場合） ｈ＝１／４・λ・（2i＋１） 該求めた各ピーク位置の浮上量ｈと各ピーク位
置Ｘとから前記スライダの所望位置の浮上量を求
める演算処理を含んでなることを特徴とする。
また、前記制御手段により前記照射光の波長λ
を順次切り替え、前記演算手段は各波長λの光の
強度分布データに基づいて、前記演算処理を実行
することにより、スライダの任意の位置の浮上量
を測定できる。
また、前記演算手段は、前記光電変換手段から
入力される光の強度分布データを平滑化処理して
ノイズを除去する演算処理を含んでなり、該ノイ
ズが除去された光強度分布データに基づいて前記
浮上量を求める演算処理を含んでなるものとする
ことにより、測定精度が向上する。
また、前記演算手段は、予め前記スライダに代
えて角形格子の基準スケールを配置したときの前
記光電変換手段の出力データに基づいて求めた角
形格子の各格子点の位置ずれの補正データを有
し、前記スライダの端部位置と前記各ピーク位置
とを求めるときに前記補正データにより補正する
演算処理を含んでなるものとすることにより、両
像歪を除去して一層精度が向上する。
〔作用〕
このように構成されることから、本発明によれ
ば次の作用により上記目的が達成される。
すなわち、まずスライダの傾きθを求め、この
θと２つの波長の光を切り替えて照射して得られ
る光干渉縞の光強度分布データのずれ量ΔXとに
基づいて、計算により次数ｉが自動的に求まる。
したがつて、各ピーク位置における浮上量を直接
測定できる。
また、波長を変えることにより、ピーク位置を
変化させることができ、これによりスライダの任
意の位置の浮上量を自動的に測定でき、その結果
スライダの表面のうねりや変形量などの表面形状
を測定でき、デイスク装置の精度向上を図ること
ができる。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を説明する。まず本発明の
第１の実施例を第２図、第３図、第４図において
説明する。第２図において、５は透明ガラスデイ
スク、６はスライダを示す。透明ガラスデイスク
５はスピンドル７で支持されてモータ（図示せ
ず）により回転される。
スライダ６は保持アーム８に保持されて、保持
アーム８はロードアンロードメカ９に固定され
る。このロードアンロードメカ９はパルスモータ
１０、リードスクリユー１１により、走行レール
１２の上をガラスデイスク５の裏面に沿つて半径
方向に移動する。この移動中、保持アーム８は押
下げアーム１３により下側に押下げられており、
スライダ６がガラスデイスク５上の所定の測定位
置に来たとき押下げアーム１３が解放状態にな
り、スライダ６はガラスデイスク５の裏面上に対
して、サブミクロンのオーダの微小〓間を有して
浮上する。
スピンドル７及びロードアンロードメカ９は定
盤１４の上に固定されている。
キセノン光源１５からの光束は、モノクロメー
タ１６に入射し、回析格子の回転角により白色光
あるいは一次回析した単色光として出射する。モ
ノクロメータ１６からの光束は光量むら除去レン
ズ１７を介し、レンズ１８により平行光束となつ
てハーフミラー４により２分割される。
分割された光束の一方は、ガラスデイスク５を
通つてスライダ６との微小〓間、すなわち浮動ス
ペーシング部に入射する。浮動スペーシング部に
入射した光束は、スライダ６の表面で反射され、
その反射光はガラスデイスク５の裏面から反射光
と共に浮上量に対応した干渉光を形成して、ハー
フミラー４に向つて反射する。
反射光はハーフミラー４を介し、ミラー１９で
光路を曲げてレンズ２０により光電変換部２１上
に干渉パターンを結像する。光電変換部２１は画
像走査部２２により任意の走査位置を走査して干
渉縞に対応した電気信号を出力する。
光電変換部２１と画像走査部２２とで光電変換
手段が構成されている。また、光電変換部２１、
走査部２２にかえてTVカメラを利用しても同様
の自動測定は可能である。すなわち固体撮像素
子、ビジコンカメラの類である。次に光電変換部
２１からの出力信号は変換部２３に入力し離散サ
ンプリング信号処理を行うための水平及び垂直の
同期分離を実施する。まず変換部２３に入力した
電気信号から同期分離回路２５により同期信号を
分離し、更に水平、垂直分離回路２６により水平
同期信号、垂直同期信号をそれぞれ分離し、垂直
系のタイミング信号、水平系のタイミング信号を
水平タイミング信号発生器２７及び垂直タイミン
グ信号発生器２８により生成する。
水平タイミング信号発生器２７は、例えば一般
的な通常のTV信号を採用する場合、水平走査の
ために使用する鋸歯状波の有効走査区間を512
（29）分割する場合を例にとると、12MHzのタイ
ミング周期で動作信号パルスを発生する。通常の
TV系のフレーム信号は有効走査線数が480本で
あり、そのタイミングは15.75KHzである。従つ
て垂直タイミング信号発生器２８は、15.75KHz
のタイミング周期で動作パルスを発生すれば良
い。上記のタイミング信号はＡ／Ｄ変換器２４の
変換レート制御用信号として入力するとともにフ
レームメモリ３０のメモリアドレス制御回路２９
に入力する。Ａ／Ｄ変換器２４はビデオ信号を水
平タイミング信号のサンプルレート（12MHz）で
Ａ／Ｄ変換される。１サンプルのビデオ信号の分
解能はＡ／Ｄ変換器の能力に左右される。ここで
は８ビツト（256階調）を使用する。９ビツト以
上のＡ／Ｄ変換器も同様に利用できる。フレーム
メモリ３０は512×480のアドレス空間をもちそれ
ぞれは８ビツトで、このアドレス空間はメモリア
ドレス制御回路２９によつてコントロールする。
デイジタル化ビデオ信号の記録はメモリアドレス
制御回路２９によつてメモリアドレス空間を制御
して順次記憶される。全アドレス空間に記憶後は
記憶を先頭番地に戻つて続行するが、そのまま停
止するかはメモリアドレス制御回路２９により実
行する。最初に光電変換／走査部がTV走査モー
ドに切換えられているので、フレームメモリ３０
には、従つて、干渉パターン像の１画面、１フレ
ームが記憶される。次に記憶後のメモリ内の情報
は外部の演算部３２にインタフエイス回路３１を
介して転送できる構成になつており、演算部３２
からみたメモリは画像データを任意の１次元のラ
インとした抽出可能な構成になつている。従つて
演算部３２では512×480のアドレス空間の８ビツ
トの輝度データを任意方向の１次元ラインのつな
がりとして抽出し、このデータからエツジ検出、
干渉縞のピーク検出を行い、アドレス番地を用い
て浮上量を演算する。
システム制御部３３は干渉縞パターンを効果的
に発生し、演算部３２に浮上量の算出に必要な情
報（波長、回転数等）を転送する。
主な動作は次の通りである。
(1) モノクロメータを制御して単色光の波長を制
御する。同時にその波長を読み取つて演算部３
２に転送する。
(2) スライダ６のロード、アンロードのコントロ
ールとスライダ押下力の解除制御を行う。
(3) ガラスデイスク５の回転数の制御を行う。
次に第３ａ図、第３ｂ図、第３ｃ図及び第４ａ
図、第４ｃ図において浮上量の算出例を示す。以
下では干渉縞の暗部に着目して説明をすすめる
が、明部に対しても全く同様である。
第３ａ図のガラスデイスク５及びスライダ６の
すきまhi、hi+1に対して第３ｂ図に示す干渉縞像
が得られ、これはそのまま512×480のアドレス空
間を有するフレームメモリ３０に８ビツトの輝度
データとして記憶されたとする。スライダ６の流
入端の浮上量をhnax、流出端の浮上量をhnioとす
る。第３ｂ図において座標をＸ、ＹにとるとＸ方
向は１〜512、Ｙ方向は１〜480となる。
今NYのアドレスを固定してＸ方向に画像走査
した場合を考える。Ｙ方向は固定できなくても直
線的に変化しても同様に扱うことができる。第３
ｃ図にメモリ上の輝度データを示す。これは、水
平走査線１本分の信号に相当し、512画素に分割
されており、それぞれは８ビツトでデイジタル化
されている。この信号に対しての次の処理を行い
スライダのエツジ検出、ピーク位置検出を行う。
() 背影の輝度データに対して、輝度が不連続
的に急激に変化する位置をエツジとしこれを
NEとする。
() 明、暗の干渉信号に対して、輝度が低いレ
ベルでかつ変化率が０になる位置をピーク位置
としこれをNhi、Nhi+1とする。
() 干渉縞の明、暗信号から流入端に至る輝度
データの変化が不連続になる位置をスライダ流
入端のエツジとしこれをNcとする。
以上からスライダのエツジ及びピーク位置が決
定する。
Xi＝Nhi−NE Xi+1＝Nhi+1−NE ……(1) NL＝Nc−NE とすると浮上量は次式で求まる。
hi＝１／２・λ・ｉ（ｉ＝０、１、２、……） hi+1−hi＝１／２λ ……(2) より hnio＝hiXi+1−hi+1Xi／Xi+1−Xi hnax＝hnio＋tanθ・NL ……(3) ここでλ：波長、ｉ：次数、θはスライダの傾
き角で次式で決定できる。
tanθ＝λ／２（Xi+1−Xi） ……(4) 次に次数ｉの決定方法を示す。第４ａ図に示す
ガラスデイスク５及びスライダ６のすきまにおい
て、２つの独立した波長に対する干渉縞の暗部の
ピーク位置のずれ量から決定する。第４ｂ図にそ
の方法を示す。この決定方法において、λ1＜λ2と
する。例えばλ1＝0.40μｍ、λ2＝0.444μｍの場合
を例にとる。スライダの傾きθの変動量は小さ
く、一定であるため、波長λ1と波長λ2との間には
次式が成立する。なお、ＮはＸに相当する量であ
る。
波長λ2の測定結果に「′」を付加して表わすと （Ni+1−Ni）tanθ＝１／２λ1 （Ni+1′−Ni′）tanθ＝１／２λ2 ……(5) ここで ΔNi＝Ni′−Ni ΔNi+1＝Ni+1′−Ni+1 ……(6) とおくと ΔNi+1−ΔNi＝１／２・tanθ（λ2−λ1） ……(7) (7)式はλ1→λ2に波長を変化したとき、干渉縞の
暗部のピーク位置のずれ量は、スライダの傾き
θ、波長λ1、λ2が与えられると一意的に決定され
ることを示している。すなわちｉ＝０のとき浮上
量は零であるから(7)式は ΔNi＝１／tanθ・（λ2−λ1）／２・ｉ ……(8) となる。すなわち２波長による干渉縞の暗部のピ
ーク位置を測定して、その変化量を検出したとき 2tanθ・ΔNi／（λ2−λ1）＝ｉ ……(9) として次数を決定できる。第４ｃ図は各次数ごと
のずれ量：λ2−λ1／２の増加の様子を示している。
次数ｉによりずれ量はλ2−λ1／２の次数倍で増加し ていることが分る。
次数が例えばｉ＝１と決定すれば(2)式及び(3)式
よりhnio、hnaxは外挿法により次式で求めること
ができる。
hnio＝h1X2−h2X1／X2−X1 hnax＝hnio＋NL・tanθ ……(10) 次に明部と暗部のピーク位置を併用すれば情報
量、すなわちピーク位置の点数とその点の浮上量
が得られるから、２点から外挿するよりも高精度
化を図ることができる。また、明部と暗部の各１
つのピーク位置によつても、浮上量を求めること
ができる。第５ａ図、第５ｂ図、第５ｃ図はその
算出例を示す。第５ａ図のガラスデイスク５及び
スライダ６のすきま部において、第５ｂ図及び第
５ｃ図に示すようにエツジからの暗部のピーク位
置をX1、エツジからの明部のピーク位置をX3と
すれば次式が成立する。
h3−hnio／h1−hnio＝X3／X1 より hnio＝X3h1−X1h3／X3−X1 hnax＝hnio＋NLtanθ ……〓 但し tanθ＝λ／４（X3−X1） となる。従つて明部、暗部の干渉縞が最低で１つ
発生していればスライダの浮上量は測定可能であ
る。波長λを用いた場合、λ／4NLの傾き角であれ ば良く又測定できる浮上量の最低値は１／４λ（０次 の明部）となる（第５ｃ図参照）。
また、明部の浮上量hiの算出式は、前記(2)式に
代えて、次式を用いればよい。
hi＝１／４・λ・（2i＋１） 上記第２図に示す例において、画像走査後の電
気信号に対しては次のいずれかのノイズ処理を施
すことが可能である。
(1) スムーシング： Ｉ（ｎ−２）＋Ｉ（ｎ−１）＋Ｉ(n)＋Ｉ
（ｎ＋１）＋Ｉ（ｎ＋２）／５ (2) 重み付スムージング： Ｉ（ｎ−２）＋2I（ｎ−１）＋3I(n)＋2I
（ｎ＋１）＋Ｉ（ｎ＋２）／９ (3) FFT（高速フーリエ変換） これらは、演算部３２において実施する。こ
のノイズ処理は、エツジ検出、ピーク位置検出
の前処理として実施すれば良い。
以上説明した例においては、波長λ1、λ2に対し
て次数が決定されるとそれぞれの干渉縞の明部と
暗部のピーク位置はスライダ面上に対して一意的
に決定する。これに対して第６図に示すようにガ
ラスデイスク５とスライダ６において、λ1の波長
に対してそれぞれのピーク位置での浮上量は□で
決定できる。同様にλ2は◎、λ3は△、λ4は○と決
定される。これらの浮上量は干渉縞のピーク位置
で示される浮上量でスライダ６やガラスデイスク
５の反射率の変化の影響を受けない。
第６図に示すように波長を変化した時の浮上量
はスライダ６の表面形状の分布曲線を示すことに
なることが分る。したがつて、複数の波長により
干渉縞の明部、暗部のピーク位置における浮上量
を検出することにより、スライダ６の表面形状が
把握でき、各点を連ねた曲線が走査位置での断面
曲線を与える。他の走査位置を順次連ねることに
より、３次元の表面形状を測定することも可能で
ある。
このことは、本発明の測定装置を用いて被測定
物体の表面上のキズ、凹み等の有無を検出できる
ことを意味する。
次に第４の実施例を第７図に示す。スライダ６
にかえて基準スケール３４を光電変換部２１に結
像したときの各格子点の座標を測定して、それぞ
れを表にして補正表を作成する。補正表での値
は、光電変換部２１のシエーデイング、光学系の
ひずみ等をすべて含んだ形で測定されている。従
つて光電変換部２１に結像した１画面はフレーム
メモリ（図示せず）の512×480のアドレス空間の
各点に対してひずみ量に対応した位置に存在す
る。本来正方格子の持つ精度を実用上十分にとれ
ば、基準スケール３４からひずみ量を補正するこ
とができる。スライダのエツジ位置、干渉縞のピ
ーク位置を補正表により補正して浮上量を演算す
れば高精度測定が可能となる。
以上の実施例を自動測定を行う場合、次の順序
で実施すれば良い。
(1) あらかじめ光学ひずみ、画像ひずみを測定し
て補正表を演算部に準備する。
(2) 画像走査位置（例えば第３ｂ図のNr）をあ
らかじめ定めるか、もしくはこれをＹ方向画像
走査により求める。
(3) 干渉縞の電気信号から自動的にエツジ検出、
明部のピーク位置を行う。これを波長をかえて
行う。
(4) 次数判別及び浮上量の演算を実施する。
(5) 結果を出力する。
なお、上述の実施例では、模擬デイスクとして
透明部材のガラスで構成し、このガラスデイスク
を通して光束をスライダの表面に入射している
が、スライダを透明部材で構成し、スライダの側
を通過して模擬デイスクの表面に入射することに
より、干渉光を得るようにしてもよい。即ち、微
小〓間を構成する２つの物体のうち、少なくとも
一方が透明部材であればよい。また、上述の実施
例では、２物体間の微小〓間量を測定している
が、潤滑油膜の厚さ等のような流体の微小膜厚の
測定にも、本発明の測定装置は適用可能である。
更に、歯車と歯車の噛み合わせ部分の微小〓間の
測定、回転軸の偏心度合の測定にも本発明の測定
装置は適用可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、スライ
ダの浮上量を高精度に測定することができ、ま
た、被測定物体の表面形状を測定することができ
る。また、全ての測定は自動的に行うことができ
るので、測定時間を大幅に短縮でき、微小〓間量
測定の高速化に大きな効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のスライダの浮上量の測定方法を
示す図、第２図は本発明の一実施例の全体構成を
説明する図、第３ａ図、第３ｂ図、第３ｃ図及び
第４ａ図、第４ｂ図、第４ｃ図は浮上量の算出及
び次数判別を説明する図、第５ａ図、第５ｂ図及
び第５ｃ図は浮上量の測定範囲の下限を説明する
図、第６図は本発明の他の例を説明する図、第７
図は本発明の更に他の例を説明する要部構成図で
ある。 ５……ガラスデイスク、６……スライダ、１６
……モノクロメータ、２１……光電変換部、２２
……画像走査部、２９……メモリアドレス制御回
路、３０……フレームメモリ、３２……演算部、
３３……システム制御部、３４……基準スケー
ル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 回転する磁気デイスクと該磁気デイスクに対
    向させて保持される磁気ヘツドスライダの少なく
    とも一方を透明部材により模擬形成し、前記磁気
    デイスク又はスライダの透明部分を透過して前記
    磁気デイスクと前記スライダとの対向部に光を照
    射し、該対向部から反射される光の干渉縞パター
    ンから前記スライダの浮上量を測定する微小〓間
    測定装置において、前記対向部に照射する光の波
    長を指令に応じて異なる波長に切り換えて照射す
    る光学系手段と、前記対向部からの光の干渉縞パ
    ターンを受像し該干渉縞パターン像を走査して光
    の強度分布を検出する光電変換手段と、該検出さ
    れた光の強度分布データから前記浮上量を演算に
    より求める演算手段と、前記光学系手段に光の波
    長の切り換えを指令出力するとともに該切り換え
    指令に係る波長情報λを前記演算手段に出力する
    制御手段とを備え、前記演算手段は、前記光電変
    換手段から一の波長λに係る前記光の強度分布デ
    ータを入力し、該入力データに基づいて、光の強
    度が急激に変化する位置を前記スライダの端部と
    して検出するとともに、該端部を基準として光干
    渉縞の明部又は暗部の少なくとも２つのピーク位
    置X1、X2を検出し、該２つのピーク位置間の距
    離と前記波長λから前記磁気デイスクと前記スラ
    イダの対向面がなす角度θを求めるとともに、前
    記光電変換手段から、前記制御手段の指令により
    切り換えられた少なくとも２つの異なる波長λ、
    λ′に係る前記光の強度分布データを入力し、該２
    つの入力データに基づいて光干渉縞の対応する明
    部又は暗部の少なくとも一方のピーク位置X1と
    X1′を検出し、該ピーク位置のずれ量ΔXに基づ
    いて、次式により当該ピーク位置X1の干渉縞の
    次数ｉを求め、 ｉ＝2tanθ・ΔX／λ2−λ1 前記ピーク位置X1の次数ｉを基準として前記
    光の強度分布データの各ピーク位置Ｘの次数ｉを
    求め、求めた次数ｉと前記波長λとから次式によ
    り各ピーク位置における浮上量ｈを求め、 （暗部ピーク位置の場合） ｈ＝１／２・λ・ｉ （明部ピーク位置の場合） ｈ＝１／４・λ・（2i＋１） 該求めた各ピーク位置の浮上量ｈと各ピーク位
    置Ｘとから前記スライダの所望位置の浮上量を求
    める演算処理を含んでなることを特徴とする微小
    〓間測定装置。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載の微小〓間測定
    装置において、前記制御手段により前記照射光の
    波長λを順次切り替え、前記演算手段は各波長λ
    の光の強度分布データに基づいて、前記演算処理
    を実行することを特徴とする微小〓間測定装置。 ３ 特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の微
    小〓間測定装置において、前記演算手段は、前記
    光電変換手段から入力される光の強度分布データ
    を平滑化処理してノイズを除去する演算処理を含
    んでなり、該ノイズが除去された光強度分布デー
    タに基づいて前記浮上量を求める演算処理を含ん
    でなることを特徴とする微小〓間測定装置。 ４ 特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項の
    いずれかに記載の微小〓間測定装置において、前
    記演算手段は、予め前記スライダに代えて角形格
    子の基準スケールを配置したときの前記光電変換
    手段の出力データに基づいて求めた角形格子の各
    格子点の位置ずれの補正データを有し、前記スラ
    イダの端部位置と前記各ピーク位置とを求めると
    きに前記補正データにより補正する演算処理を含
    んでなることを特徴とする微小〓間測定装置。
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