JPS60130633U - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS60130633U JPS60130633U JP1681184U JP1681184U JPS60130633U JP S60130633 U JPS60130633 U JP S60130633U JP 1681184 U JP1681184 U JP 1681184U JP 1681184 U JP1681184 U JP 1681184U JP S60130633 U JPS60130633 U JP S60130633U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- electrode
- vacuum processing
- processing equipment
- transfer means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は、本考案による真空処理装置の一実施例の構成
を示すブロック図、第2区は、第1図A部の拡大縦断面
図、第3図aは、第2図B部の拡大縦断面図、第3図す
は、第2図のC−C親図、第4図aないしCは、被処理
物固定爪による被処理物の電極への固定並びに該固定解
除の推移状態図である。 1・・・真空処理室、2・・・電極、5・・・ウェーハ
、10・・・被処理物受渡手段、11・・・被処理物支
持具、20・・・被処理物固定手段、21・・・被処理
物固定用爪。
を示すブロック図、第2区は、第1図A部の拡大縦断面
図、第3図aは、第2図B部の拡大縦断面図、第3図す
は、第2図のC−C親図、第4図aないしCは、被処理
物固定爪による被処理物の電極への固定並びに該固定解
除の推移状態図である。 1・・・真空処理室、2・・・電極、5・・・ウェーハ
、10・・・被処理物受渡手段、11・・・被処理物支
持具、20・・・被処理物固定手段、21・・・被処理
物固定用爪。
Claims (1)
- 真空処理室に内設された電極上の被処理物をプラズマを
利用して処理する装置において、前記電極の被処理物載
置位置に下降して前記被処理物を載置し、かつ、上昇し
て該被処理物を電極より除去する被処理物支持具を有す
る被処理物受渡手段と′、被処理物支持具の下降により
被処理物を電極に固定し、被処理物支持具の上昇により
該固定を解除する被処理物固定爪を有し被処理物受渡手
段の上下動と連動する被処理物固定手段とを具備したこ
とを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1681184U JPS60130633U (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1681184U JPS60130633U (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 真空処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60130633U true JPS60130633U (ja) | 1985-09-02 |
Family
ID=30503928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1681184U Pending JPS60130633U (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60130633U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0215623A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-01-19 | Applied Materials Inc | 磁場エンハンス型プラズマエッチ反応器 |
JPH06204179A (ja) * | 1992-10-27 | 1994-07-22 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法 |
-
1984
- 1984-02-10 JP JP1681184U patent/JPS60130633U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0215623A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-01-19 | Applied Materials Inc | 磁場エンハンス型プラズマエッチ反応器 |
JPH06204179A (ja) * | 1992-10-27 | 1994-07-22 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法 |
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