JPS60129920A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS60129920A
JPS60129920A JP23631883A JP23631883A JPS60129920A JP S60129920 A JPS60129920 A JP S60129920A JP 23631883 A JP23631883 A JP 23631883A JP 23631883 A JP23631883 A JP 23631883A JP S60129920 A JPS60129920 A JP S60129920A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
thermal expansion
magnetic recording
recording medium
coefft
Prior art date
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Pending
Application number
JP23631883A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuyoshi Yoshida
吉田 和悦
Tokuyuki Kaneshiro
徳幸 金城
Shunichi Numata
俊一 沼田
Norikazu Tsumita
積田 則和
Yasutaro Kamisaka
保太郎 上坂
Osamu Kitagami
修 北上
Kiyotaka Oshima
尾島 清高
Sanehiro Kudo
實弘 工藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は有機高分子フィルム上にCo−Ni。
co−cr等の強磁性金属薄膜を形成した磁気記録媒体
に係り、特にカール、しわが少ない表面平坦性のすぐれ
た磁気テープ、フレキシブルデイスりに関する。
〔発明の背景〕
磁気記録の高密度化に伴い、記録媒体は従来のr−F 
e20s に代表される磁性粉微粒子を有機バインダー
で混練し基体上に塗布したいわゆる塗布型磁気記録媒体
から、pe、 co、 Ni等を主成分とした強磁性金
属をスパッタリング法、真空蒸着法あるいはめつき法で
基体上に形成したいわゆる連続磁性薄膜媒体へと移行し
つつある。
7 特に最近においては記録密度の飛躍的向上が期待で
きる垂直磁気記録用の媒体としてQ o −Cr膜の研
究が梢力的に行なわれている。通常このCo−Cr膜で
優れた磁気特性を得るためには基体を100C以上に加
熱する必要があり、特に真空蒸着法では基体温度を20
0Uまで加熱する必要がある。したがって磁気テープあ
るいはフレキシブルディスク用としてCo−Cr膜膜体
体作製するには、その基体として真空蒸着法では耐熱性
の優れたポリイミド系フィルムが用いられており、また
基体温度が100C程度のスパッタリング法においては
、主にポリエステルテレフタレート系フィルムが用いら
れている。しかし通常市販されているポリイミドフィル
ムあるいはポリエステルテレフタレートフィルムでは、
熱膨張係数が被着金属の一熱膨張係数より大きくフィル
ムを加熱したー状態で金属を被着するとカールが発生し
記録媒体の平坦性を著しく損うとともに、フィルムを支
持する金属治具とフィルムの間での寸法ずれが起こり、
しわを発生させる大きな原因となっていた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、C0−Cr等の磁気記録媒体として用
いられる金属磁性薄膜に近い熱膨張係数をもった有装置
分子フィルムを基体として用いることにより、上記した
カールやしわのない平坦性に優れた磁気テープあるいは
フレキシブルディスクを提供することにある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成する、本発明の磁気記録媒体は金属と同
程度の温度膨張係数(0,5〜2.5X10−5/C)
を有する、低膨張有機高分子フィルムを基体として用い
ている。この有機高分子フィルムは本発明者等のうち2
名が既に特願昭58−152351において特許出願し
ているごとく次式〔I〕および〔■〕 〔I〕 、〔■〕 香族基、Arzは2価の芳香族基、Ar3は4価の芳香
族基である。〕で示される化学構造単位を含むポリイミ
ドフィルムからなっている。
さらに具体的には、前記低熱膨張ポリイミドフィルムは
p−フェニレンジアミン、2.4−ジアミノトルエン、
2.4−ジアミノキシレン、ジアミノジュレン、1.5
−ジアミノナフタレン、2゜6−ジアミノナフタレン、
またはこれらのインシアナート化合物と、ビフェニルテ
トラカルボン酸またはその誘導体との反応によって得る
ことができる。ジアミンのうちp−フェニレンジアミン
は靭性、疲労特性、耐熱性の点で最もすぐれている。
また、p−フェニレンジイソシアナートも同様である。
テトラカルボン酸の誘導体としては、エステル、酸無水
物、酸塩化物があるが、酸無水物が合成上好ましい。
上記低熱膨張ポリイミドは、前記した特願昭58−15
2351に詳しく記載されているように他に許容される
範囲で他の芳香族ジアミン、芳香族ジインシアナート、
テトラカルボン酸あるいはその誘導体を導入して変性し
熱膨張係数の大きさを調整することも可能である。
合成反応は一般的にN−メチルピロリドン(NMP)、
ジメチルホルムアミド責DMF)。
ジメチルアセトアミド(1)MAC)、ジメチルスルホ
キサイ)”(DMSO)、硫酸ジメチル、スルホラン、
ブチロラクトン、クレゾール、フェノール。
ハロゲン化フェノール、シクロヘキサノン、ジオキサン
などの溶液中で、0〜200Cの範囲で行いポリアミド
酸ワニスを合成する。さらにこのワニスをガラス板にア
プリケータを用いて均一に塗布し加熱乾燥することによ
ってフィルム状樹脂を得ることができる。このような組
成をもったポリイミドフィルムの熱膨張係数は300C
の高温においても0.5X10−’〜2.5 X 10
−5/にであり、従来のポリイミドフィルムが約5.0
 X 10−’/にであったのに比較し熱膨張係数をき
わめて低くすることができる。
さらにこの低熱膨張ポリイミドフィルムを基体として用
い1.Co−Cr等の強磁性金属薄膜を真空蒸着法によ
って被着したところ、従来のポリイミドフィルムでは得
られなかったきわめて平坦性にすぐれた磁気記録媒体を
得ることができた。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を比較例をまじえ、実施例によって詳細に
説明する。
実施例1 第1表に示した組成からなる種々の熱膨張係数をもった
ポリイミドフィルムを作製した。ここでフィルムの形成
およびその熱膨張係数の測定はっぎのように行っている
。すなわち、芳香族ジアミンとテトラカルボン酸の反応
によって得られたポリアミド酸ワニスをガラス板にアプ
リケータを用いて均一に塗布し、80〜100cで30
〜60分乾燥してフィルム状にし、ガラス板からはがし
て鉄枠に固定し、200C,300c、400cにそれ
ぞれ60分間保持して、約50μm厚のポリイミドフィ
ルムを得た。これを任意の大きさに切り出し、2枚のガ
ラス板にはさんで再び400Cに加熱し、除冷して残留
歪を除去した後、熱機械試験機で、5tl’/1111
1の条件で寸法変化を測定し、ガラス転移点以下の寸法
変化量から熱膨張係数をめた。
このようにして得られたポリイミドフィルムを1100
mX70の大きさに切り出し、第1図に示したごとく両
端をステンレス製の金具2で固定し約3 Kg / c
rlの張力をかけてフィルム1を一様に延ばして真空蒸
着装置内に設置した。ベルジャ内を1 X 10−’ 
Torr の真空度にした後フィルム裏側からヒータ5
で加熱しフィルム温度を200Cに保ち電子線加熱式蒸
着源4を用いてCo−(、’r金合金蒸発させ、Cr組
成23重量多、膜厚0.35μmのco−Cr膜を作製
した。
このようにして作製したCo−0rフイルムのカールの
大きさは曲率半径を測定することによりめた。その結果
を第1表に記した。なお表中カールの極性とは、蒸着面
が凹になるカールを+、凸になるカールを−とした。
第1表から分かるようにCo−Cr膜に近い熱膨張係数
(α=1.1X10−5/K)をもつ試料屋1.7.8
のポリイミドフィルムの曲率半径がいずれも200胡以
上、また扁12のフィルムでも曲率半径が80喘以上と
なり、実用的にほとんど問題ない平坦性を有している。
なおり−ルの極性は、Co−Cr膜の熱膨張係数に対し
、ポリイミドフィルムの熱膨張係数が大きいため、通常
はC0−Cr膜の而が凸となりマイナスとなるが、Co
−0r膜自身に引っ張り応力が存在するため、カール量
の少ない試料1.8においては、Co−Cr膜の内部応
力に支配されカールの極性はプラスとなっている。した
かってこのような場合には内部応力によるカールを打消
すため、co−Cr膜の熱膨張係数より少し大きめの熱
膨張係数をもつポリイミドフィルムを用いれば、より平
坦性に優れた試料を得ることができる。
実施例2 熱膨張係数を1.1 X 1 Q−’/Kから4.9X
10−5/Kまで変化させfc第1表記載のAI、2,
3゜4.5.6のフィルムを用いて、蒸着時のフィルム
温度を1001:、150c、200U、25゜Cと変
えてCo−Qrの蒸着を行った。実験条件はフィルム温
度を除いて実施例1と同じである。
各試料の曲率半径を測定した結果を第2表に示した。
第 2 表 第2表から分かるように、熱膨張係数がco−Cr膜を
ほぼ等しいAIのポリイミドフィルムの曲率半径は蒸着
温度が250Cと高くなっても320traaと非常に
大きく、広い温度範囲で一′P坦性にすぐれたC o 
−Cr蒸着膜を得ることができる。
また熱膨張係数が1.7 x 10−5/にとCo −
Cr膜より少し大きな瓜2のポリイミドフィルムでも、
蒸着時のフィルム温度が150t;’以下であれば、曲
率半径が110咽となりかなり良い平坦性をもったC 
o −Cr蒸着膜を得ることができる。これに対して熱
膨張係数が3.0 X 10−’/にとなる屋3から屋
6のポリイミドフィルムでは150c以上ではカールが
大き過ぎることが分かる。また屋5と&6のポリイミド
フィルムでは、フィルム温度250Cになると熱膨張係
数の不一致が大きくなるだめCo−Cr膜にひび割れが
生じていた。
実施例3 第1表記載のAI、2,3.6のポリイミドフィルムを
用いて、蒸着時のフィルム温度を2000とし、真空蒸
着法で膜厚0.5μmのパーマロイ(NI−20wt%
pe)膜を形成した後、ソノ上に厚さ0.2μmのCo
−Cr膜を形成し二層膜媒体を作製し、それぞれの試料
の曲率半径を測定した。その結果を第3表に示す。
第3表 第3表から、熱膨張係数が1.4X10″″/にのパー
マロイ膜を蒸着したため、その熱膨張係数に近い特性を
もつ應1,2のポリイミドフィルム試料ではカールの曲
率半径け150謔以上となり平坦性にすぐれた二層膜媒
体を得ることができた。
一方熱膨張係数の大きな屋3.6のポリイミドフィルム
では曲率半径が35wn以下となり平坦性のよい二層膜
媒体を得ることができなかった。
実施例4 第1表記載のAl、2,3.6のポリイミドフイルムを
用いて、蒸着時のフィルム温度を200Cとし、真空蒸
着法で厚さ0.1μmのチタン下地層を形成した後、厚
さ0.35μmのCo−Cr膜を形成した。このチタン
下地層はhcp構造をもつCo Q rOC軸を面に垂
直方向に配向させる役割をもっており、Co−Cr膜の
磁気特性を向上させる手段として用いられるものである
このようにして作製した試料のカールの大きさを測定し
た結果を第3表に記載したが、実施例3と同様に熱膨張
係数の小さなポリイミドフィルム屋1と2を用いるとカ
ールが小さくなり表面平坦性にすぐれていることが分か
る。
実施例5 第1表記載のAl、2,3.6のポリイミドフィルムの
表と裏の両面に順次真空蒸着法で厚さ0.35μmのC
o−Cr膜を形成した。蒸着時のフィルム温度は表面、
裏面とも200Cとなるようにした。
フィルムは実施例1と同様に両端がステンレス製の荷重
をかける治具で固定されており、約3初/ critの
張力をかけてフィルムが一様に延びるようになっている
このような条件で両面蒸着を行うと、片面蒸着時に比較
しカールは減少するが、片面蒸着では生じなかったしわ
の発生することがあった。
上記した方法で両面蒸着した試料のカールの大きさと、
しわの有無を第4表にまとめた。
第 4 表 米 最初に蒸着した面が凹となっている状態を十とする
第4表から分かるように、カールの大きさは片面蒸着時
に比較し大巾に減少しているものの、熱膨張係数の大き
なポリイミドフィルムA3と6を用いた試料では、しわ
が発生している。それに対して、熱膨張係数の小さなポ
リイミドフィルム屋1と2を用いた試料ではしわの発生
が認められず、しわの発生をおさえるためにも、低熱膨
張係数のポリイミドフィルムを使用することが有効であ
る。
〔発明の効果〕
以上詳述した実施例から明らかなように、有機高分子フ
ィルムを基体とし、その表面に加熱状態でC0−Cr膜
、Ni−1’i’e膜、TI膜等の金属膜を形成させた
磁気記録媒体において、熱膨張係数が1.0〜2.0 
X 10”6/にの範囲にある低熱膨張ポリイミドフィ
ルムを用いればカールが少なく、また両面蒸着時におい
てもしわの発生しない表面平坦性に優れた媒体を得るこ
とができる。
また上記した低熱膨張係数を有するポリイミドフィルム
としては第1表に記されだp−フェニレンジアミン、4
.4’ −ジアミノジフェニルエーテルおよび3.3’
 、4.4’−テトラヵルボキフルビフェニルニ無水物
から合成されたフィルム、あるいは2.4−ジアミノト
ルエンと3.3’ 。
4.4′−テトラカルポキシルビフェニルニ無水物から
合成されたフィルム、あるいは1,5−ジアミノナフタ
レンと3.3’ 、4.4’−テトラカルポキシルビフ
ェニルニ無水物から合成されたフィルム、あるいは2.
4−ジアミノベンシトリフルオライドと3.3’ 、4
.4’−テトラカルボキシルビフェニルニ無水物から合
成されたフィルム等があり、これらのフィルムから被着
する金属膜や被着条件に応じて適当な熱膨張係数を有す
る膨張制料を選びだすことにより本発明の目的を達成す
ることができる。
なお本発明の実施例においては、被着金属としてCo 
−Cr膜、Ni−、pe(パーマロイ)膜。
Ill i膜のみをとりあげたが、それ以外のCo膜。
Co−Ni膜、Co−Pt膜、pe膜、pe窒化物膜 
p e酸化物膜あるいはCo−Nb−Mo等の非晶質膜
についてもまったく同様に成立することは言うまでもな
い。また金属膜の形成法とじてつたく同様に成立するも
のであり、本発明は金属膜の形成法に制限を受けるもの
ではない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例において用いた電子線加熱型
真空蒸着装置の説明図である。 1・・・ベースフィルム、2・・・フイルムニ荷重ヲカ
ケるための治具、3・・・フィルムの支持具、4・・・
電子線加熱型蒸着源、5・・・ベースフィルムを加熱す
る第 1 目 第1頁の続き @発明者 上坂 保太部 口 り 0発 明 者 北 上 修 め [相]発明者尾島 清高b ■発明者 工藤 實弘 0 タ コ分寺市東恋ケ窪1丁目28幡地 株式会社日立製作所
中5研究所内 ミ木市丑寅1丁目1番羽号 日立マクセル株式会社内己
木市丑寅1丁目1番関号 日立マクセル株式会社内1分
寺市東恋ケ窪1丁目28幡地 株式会社日立製作所中5
研究所内

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、長尺状あるいは円板等の所定の形状を有した有機高
    分子フィルムの表面に、一層あるいは複数層の金属薄膜
    を形成した磁気記録媒体において、有機高分子フィルム
    の熱膨張係数が(1,5〜2、5 X 10’−’/C
    であることを特徴とした磁気記録媒体。 2、特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体において
    、前記有機高分子フィルムが、次式[I)およびtil
    l) 〔■〕 〔■〕 芳香族基、Ar21d2価の芳香族基、A r sは4
    価の芳香族基である。〕で示される化学構成単位を含む
    ポリイミドフィルムであることを特徴とした磁気記録媒
    体。
JP23631883A 1983-12-16 1983-12-16 磁気記録媒体 Pending JPS60129920A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61158025A (ja) * 1984-12-28 1986-07-17 Canon Inc 磁気記録媒体
JPS62202315A (ja) * 1986-02-28 1987-09-07 Toshiba Corp 垂直磁気記録媒体
JPH04119845A (ja) * 1990-09-10 1992-04-21 Toray Ind Inc 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム

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