JPS60129187A - 廃棄組成物溶液の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は銅イオン及び銅の錯化剤を含む液体廃棄組成物
の処理であってその錯化剤を破壊することに関し、具体
的には紫外線照射により廃棄組成物を処理する方法に関
する。本発明の方法は特に無電気銅めっき浴からの液体
廃棄組成物もしくは流出物を処理する際に有用である。

〔従来技術〕

銅イオン及び銅と錯化合物を形成する有機材料を含む液
体廃棄組成物の一つの源は銅添加めっきと呼ばれる無電
気銅めっき浴からの化学的廃棄物の流れもしくは流出物
である。無電気銅めっき浴は一般に第２銅イオン、還元
剤、表面活性剤及び第２銅イオンの錯化剤を含んでいる
。さらに、浴は米国特許第３８４４７９９号に開示され
ている如く、例えばシアン化物イオンの如き他の数々の
化合物を含んでいる。無電気銅めっき過程については、
米国特許第４１５２４６７号に開示されている。

この様な過程から得られる化学的廃棄物は主回収段階と
通常呼ばれる段階において銅を除去し、銅の錯化剤が回
収循環されている。一つのこの様な主回収技法では溶液
から銅を銅陰極上にめっき（逆めっき）する事によって
、めっき浴から湧出する組成物から銅を除去している。

この様な技法はエチレンジニトリロテトラ酢酸の如き組
成物中に存在する有機物の望ましくない陽極性酸化生成
物を生じている。この様な銅除去過程は実際の動作下限
として少なく共１１０−２０ｐｐの銅濃度の液体組成物
を生じている。さらに、この様な過程において、溶液中
の鉄濃度は不鋳鋼陽極で生ずる反応及び溶液中の錯化剤
の濃度が高い事によって増大する。銅を別にしても、こ
の様な処理から生ずる流出物は銅のだめの錯化剤及び溶
解された有機物及び無機塩を比較的大量に含んでいる。

銅が除去された後、溶液は他の槽中に移され、錯化剤は
硫酸を加える事によって沈澱されて、ｐＨは約２．５．
以下にされる。錯化剤が槽の底に沈澱したのち、デカン
テーションで上はみの溶液を得る。

これは添加性溶液と呼ばれる。

槽の底に残された錯化剤は脱イオン化水で２回洗浄され
、次にめっき浴に戻される。これ等の２回洗浄された溶
液もしくは上澄みは主硫酸ナトリウム及び蟻酸並びに溶
解及び懸濁した錯化剤を含んでいる。これ等の洗浄溶液
は別途残された添加性廃棄溶液と組合される。しかしな
がら、すべての場合、大部分の懸濁した錯化剤が廃棄溶
液中に移され、処理の前に微粒子性錯化剤が濾過によっ
て除去されなければならない。この結実現在のところ、
廃棄材料は現存の工場廃棄物処理システムに直接放棄す
る事は出来ない。従って結果、廃棄材料は貯蔵槽中に吸
上げられ、認可された方法によって処分されている。

さらに硫酸ナトリウム及び数１ＤＯｐｐｍの錯化剤のみ
を含む添加性廃棄溶液ですらも、錯化剤が浄化器及び導
管からの重金属を錯化する事によって溶解する傾向が、
１、これ等のものが河川の如き最終放出場所である環境
自然水源に運ばれるので、工場廃棄物処理にゆだねる事
は出来なかった。

銅が錯化金属の大部分を占めるが、他の少量の重金属も
錯化される可能性が高い。

さらに最近、米国特許第４２８９５９４号に開示されて
いる如き処理方法が開発されたが、これによると、錯化
剤のレベルが十分低くされ、廃液は浄化器及びパイプ系
の重金属を錯化して溶解する事なく浄化器を含む通常の
工場廃棄物処理システムで処理されている。

この米国特許第４２８９５９４号に開示された方法は廃
棄溶液を銅のための錯化剤と反応さして破壊するに十分
な量の含オゾン気体に接触させ、廃棄溶液を紫外線で照
射する事を含む。溶液を紫外線で照射する前に、廃棄溶
液中の銅イオンの濃度は約８ｐｐｍ以下に減少される。

オゾンの使用を含む他の提案は米国特許第４３３２６８
７号及び第３９２０５４７号に示されている。

例えば上記米国特許第４３３２６８７号では、有機化合
物によって錯化された重金属を含む廃棄溶液は２酸化水
素及びオゾンの混合物と接触される事によって処理され
ている。

上記米国特許第５９２０５４７号はシアン化物を含む溶
液をオゾンと接触させ、溶液を紫外線に露らす事による
シアン化物を破壊する方法を開示している。

米国特許第４０１２３２１号及び第４２９４７０３号は
廃棄組成物の処理にＨ２Ｏ２を使用する方法を開示して
いる。

例えば、上記米国特許第４０１２３２１号は有機汚染物
を含む廃棄物水の流れをＨ２０２で処理し、紫外線で照
射している。

上記米国特許第４２９４７０３号は先づ流出物に完全酸
化に必要とされるＨ２Ｏ２の計算された量の５乃至４０
％を加え、次に流出物を毛様体に吸収させて流出物のＣ
ＯＤ量を減少している。さらにこの特許はすべてのＣＯ
Ｄを除去するのに１（２０２を使用する際の問題をあげ
ている。

〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明の目的は、上述の廃棄組成物処理方法よりも安価
で、処理時間が短かくて少なく共同程度の効果を有する
廃棄組成物処理方法を与える事にある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は銅イオン及び銅イオンのための錯化剤を含む廃
棄組成物を処理するための方法に関する。

本発明の方法は上述のオゾン及び紫外線による処理方法
よシも安価で同程度に効果のある廃棄組成物処理方法で
ある。本発明の過程はオゾン−紫外線処理段階を含み、
この段階に要する時間が著しく短かく、従って遂行のコ
ストがはるかに安くなる。

本発明の方法は液体廃棄組成物の銅イオンの濃度を約８
．ｐｐｒｎ以下の値に減少させ、この結果得られた廃棄
組成物を該組成物の全有機物内容の約２０乃至６０チを
破壊するに有効な量及び濃度のＨ２Ｏ２に接触させる事
を含む。次に組成物をオゾン含有気体と接触させ、オゾ
ン含有廃棄組成物が紫外線で照射される。

本発明はＨＯ単独で達成されるよシもよシ完２ 全な酸化を生じ、Ｈ２Ｏ２を使用しないでオゾン及び紫
外線照射を使用した場合よシもより急速な酸化を生ずる
。

Ｈ２０２及び照射単独の使用は有機物内容の実質上完全
な破壊を生じ得す、有機物の内容の約６０チ以上を破壊
したい場合には過剰なＨ２Ｏ２を必要とする。他方上述
の米国特許第４２８９５９４号に開示されている紫外線
及びオゾンによる方法は廃棄物の有機物の内容の実質的
に完全な破壊を達成出来るが、大発明と比較して高価に
つき、それ程速くない。

〔実施例〕

本発明に従って処理さｎる廃棄溶液は最初かなシな量の
銅イオン及び銅のだめの錯化剤を含む。

組成物は水溶性組成物であシ、銅めっき、特に無電気銅
めっきからの流出物として得られるものである事が最も
好ましい。　！ 好ましい銅めっき組成物は米国特許第６８４４７２９号
及び第４１５２４６７号に開示されている。特にこの様
な無電気めっき浴は約６０乃至約５０　ｇ／ｌの錯化剤
、約３乃至１５ｇ／／ｌの硫酸第２銅の如き、第２銅塩
、約０．７乃至約７ｇ／Ａの７オルムアルデヒドの如き
還元剤、約０．０２乃至０．６ｇ／７１のＧａｆａｃ　
ＲＥ６１０の如き表面活性剤、約１０乃至約２５ｍｇ／
ｌｌのシアン化すトリウムの如きシアン化物及び約１１
．６乃至約１１．８のｐＨを与えるだめの水酸化ナトリ
ウムもしくは水酸化カリウムの如き塩基性化合物を含む
事が好ましい。

錯化剤の例にはロッシェル塩、エチレンジニトロテトラ
酢酸；エチレンジニトロテトラ酢酸のナトリウム（モノ
、ジ、トリ及びテトラ・ナトリウム）塩を含むアルカリ
金属塩のエチレンジニトロテトラ酢酸の金属塩；アルカ
リ塩、グルコン酸、グルコン酸化物、トリエタノール・
アミンの如きニトロｌｌ酢酸及びその金属塩ニゲルコノ
（ガンマン−ラクトン：Ｎ−ヒドロキシエチル・エチレ
ン・ジアミン・トリアセテートの如き変成エチレン・ジ
アミン・アセテートを含む。

好ましい錯化剤はエチレンジニトロテトラ酢酸、ニトリ
ロトリ酢酸もしくは２ヒドロキシエチレン・ジアミン・
トリアセテートもしくはその金属塩である。金属塩には
アルカリ金属塩、特にエチレンジニトリロテトラ酢酸の
モノ、ジ、トリ及びテトラ・ナトリウム塩を含む。錯化
剤の混合物も使用される。

最も好ましい錯化剤はエチレンジニトリロテトラ酢酸（
即ちＥＤＴＡ）及びそのアルカリ金属塩である。

本発明に従い処理される代表的な廃棄溶液は少なく共約
２０　ｇ／１２の錯化剤及び少なく共約１ｇ／ｌの銅イ
オンを含む。本発明に従い処理される代表的廃棄溶液は
次の如き組成、性質を有する。

第２銅１゛オン源 （例えば第２銅サルフエート・ ペンタハイトレー））　３−１５ｇ、＃還元剤（例えば
フォルムアルデ ヒド）　０．７−７ｇ／７１ 表面活性剤（ＧＡＦＡＣＲＥ ６１−０　）　０．０２−０．３ｇ／／！錯化剤（例え
ばＥＤＴＡ、即ち エチレンジニトリロテトラ酢酸）２０−５０ｇ／７１ｐ
Ｈ、１１，６−１１，８ 比重　１．０６０−１．０８０ さらに組成中には、例えばシアン化ナトリウムから生ず
る約１０乃至２５ｍｇ／１１のシアン化物イオンの如き
他の成分、さらに錯化剤と第２鉄錯化物を形成している
比較的多量の鉄、約１００乃至１０５　ｇ／ｌの硫酸ナ
トリウム、還元剤の酸化されたもの（例えば蟻酸）約２
０乃至５０ｇ／ｌを含んでいる。

本発明の実施にとって主要な事は、オゾン及び紫外線処
理階段の前に廃液の銅イオン濃度を８ｐｐｍ以下、好ま
しくは５ｐｐｍ以下、最も好ましくはｌｐｐｍ以下に減
少しなければならない点にある。

本発明を成功させるにはオゾン及び紫外線処理階段の前
に廃液中の銅イオン濃度を約８ｐｐｍ以下に減少させる
嬉が絶対に必要である。

銅イオン量を減少する好ましい方法は添加性浴の流出廃
液のバッチに純粋な銅屑及び約７−１５ｍｇ／Ｊの３０
％フォルムアルデヒド水溶液の如キ還元剤を加え、水酸
化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの如き塩基性材料
を添加する事によってｐＨを約１２に調節する事である
。この処理によって組成中の銅イオンはｌｐｐｍ以下の
レベルＫＭ少される。この目的のためには６７％フォル
ムアルデヒド水溶液及び５０％の水酸化ナトリウム水溶
液を使用する事が最も好都合である。処理は約７０乃至
８０°Ｃで遂行される。

生ずる反応は次の様に表わされる。

ＣｕＳＯ４＋２ＨＣＨＯ＋４ＮａＯＨ−Ｃｕ’＋２Ｎａ
ＯＯＣＨ十Ｈ２（気体）＋２Ｈ２０＋Ｎ・２ＳＯ４なお
、この反応式において銅イオンＣＤ（ｎ）のソースは硫
酸銅であシ、この硫酸鋼は溶液中でイオン化している。

ＥＤＴＡ錯化物はこれら銅イオンを溶液中に有する。こ
の反応による生成物の１つは金属銅であ外これは上述の
反応式においてＣｕ’として表示される。

さらに上述の過程忙よって水溶液中の残留無機シアン化
物がシアノヒドリンの形及びグリコール酸の如き無毒性
の有機材に変化する。

その上、上述のめつき一逆めっき過程で生ずることがあ
る陽極酸化生成物は本発明では存在しない、１ この処理は銅イオン濃度をｌｐｐｍ以下のレベルに減少
し得るが、他方上述の逆めっき技法は少なく共１０乃至
２０　ｐｐｍの銅イオンのみならず溶解鉄イオンを含む
組成を住する。

本発明に従い、オゾンで処理する前に鉄イオン濃度を５
ｐｐｍ以下、好ましくはｌｐｐｍ以下に減少する事が好
ましい。

銅イオン濃度が所望のレベルに減少した後、組成は必ず
しも必要とされないが、沈澱槽中に移されて、エチレン
ジニトリロテトラ酢酸の如き大部分の錆化剤が現在性わ
れている如く硫酸の如き酸を加える事によって沈澱され
る事が好ましい。

酸は組成をｐＨ約１．５乃至３、最良の結果を得るため
には約２５もしくはそれ以下にするに十分な量だけ与え
られる。

処理さるべきめつき溶液の次のバッチのための瓢として
槽の底には若干大きくなった銅の粒子が残され、食刻の
前に脱イオン水で洗浄してもよい。

この様にして錯化剤を除去した後も組成は依然かなシな
量の錯化剤を含んでいる。ＥＤＴＡの場合には、少なく
共約５００　ｍｇ／βが存在し、通常約１０００　ｍｇ
／ｌが存在する。組成中には又一般に、多くは還元剤及
び／もしくはこれから生じた酸化化合物である約２０乃
至約３０　ｇ／Ａの有機炭素化合物及び少なく共１００
　ｇ／７Ｉの硫酸ナトリウムの如き無機塩が存在する。

オゾン−紫外線処理段階の前に廃液は全有機物の約２０
乃至約６０％、好ましくは約４０乃至約６０％及び最も
好ましくは約５０乃至約６０係を破壊する量及び濃度の
Ｈ２Ｏ２と接触される。

Ｈ２０２による処理は銅の濃度を８ｐｐｍ以下に減少す
る前に行う事も出来るが、銅の濃度を８ｐｐｍ以下に減
少した後に遂行される事が好ましい。

■０　の処理は銅のレベルが約５０ｐｐｍ迄の場合２ に遂行出来る。

Ｈ２Ｏ２の使用量を決定するために、廃液中の全有機物
の量がＤｏｈｒｍａｎ／ＥｎｖｉｒｏｔｏｈｓＭｏｄｅ
ｌ　ＤＣ”５４　Ｕｌｔｒａｆｌｏｗ　Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｃａｒｂｏｎ　Ａｎａｌｙｚｅｒ等の任意の周知の技術
によって測定され、次に破壊するのに必要とされるＨ２
Ｏ２の量が容易に計算される。例えば、本発明に従って
処理される好ましい廃液中の、破壊さるべき有機物質の
大部分（即ち約９０乃至９５重量％）は　酸であるから
、すべての有機物は　酸であると仮定し、Ｈ２Ｏ２の量
は簡単に次の反応に従って決定される。

ＨＣ０ＯＨ＋Ｈ２Ｏ２−ＣＯ２＋２Ｈ２Ｏ例えば、有機
物の５０％を破壊するためには、存在するＨＣＯＯＨの
各分子量如対して約１／２分子量のＨＯが使用される。

Ｈ２０２は約２０乃至約２ 重量５０チ、最も好ましくは約重量５０％の濃度を有す
る水溶液として加えられる事が好ましい。

Ｈ２Ｏ２の有効性を最大にするために、Ｈ２０２，は出
来るだけ効果的に廃液の組成に混合される事が好ましい
。

必ずしも必要ではないが、望まれるならば、Ｈ２０２を
含有する組成は紫外線の照射を受けてもよい。紫外線源
は通常のものでよいが、代表的な紫外線源は６６ワツト
級のＶｏｌｔ　Ａｒｃ　Ｇ３６Ｔ６６　Ｕｌｔｒａｖｉ
ｏｌｅｔ　Ｌａｍｐ　である。

この段階はｐＨ約１．５乃至６、好ましくは約２乃至２
．５並びに温度約６５．５乃至約９３°Ｃ１好ましくは
約９６°Ｃで遂行される事が好ましい。この段階は一般
に完了に約１乃至２時間を必要とする。

この段階によって廃棄組成物中に存在する有機化合物が
破壊及び分解される。還元剤の酸化形の代表的な例とし
て　酸を使用すると、主なる反応は次の通りとなる。

ＨＣＯＯＨ（溶液）　十Ｈ２０２（溶液）−００２（気
体）　＋　２　Ｈ２０（溶液）本発明の好ましい態様で
は、Ｈ２０２のすべてはこの段階で消費される。この段
階の組成はＨ２Ｏ２及び紫外線によってもＣＯ２及びＨ
２Ｏに変化されないＥＤＴＡの如き錯化剤を望ましくな
い量含んでいる。

次に廃棄物組成の水溶液はオゾンを含む気体に露らされ
、紫外線で照射される。この処理によって廃棄物組成中
に存在する有機化合物が破壊及び分解される。還元剤の
酸化した形の代表的な例として　酸を使用すると、含ま
れる主反応は次の通シである。

ＨＣＯＯＨ（溶液）＋０３（Ｇ２気体）→Ｃ０２（気体
）　＋０２　（気体）＋Ｈ２ｏ（溶液）この処理段階は
ｐ）（約４乃至６で遂行される事が好ましい。ｐＨはオ
ゾン処理前のｐＨに依存して、希釈水酸化ナトリウム水
溶液もしくはＨＳ。

４ 水溶液を添加する事によって約４乃至乙の値に調節され
る。これはＨ２Ｏ２処理の前もしくは後に銅イオン濃度
が８ｐｐｍ以下に減少されているかどうかに依存する。

上述の範囲のｐＨの使用は存在する　酸の酸化率を増大
する。さらに、この反応段階中の鉄イオン濃度は５ｐｐ
ｍ以下及び好ましくは約ｌｐｐｍ以下である事が好まし
い。なんとなれば、この様なレベルの鉄イオンはさらに
錯化剤の破壊を促進するからである。さらに上述の如く
、本発明の実施においてはオゾン、紫外線処理前の４１
１１イオン濃度は８ｐｐｍ以下である事が絶対重要であ
る。

溶液中の銅イオンの濃度を減少さＪる事によって黒いＣ
ｕＯの微細粉末の形成が著しく減少きれる。

この処理段階の主反応生成物はＣＯ２及びＨ２Ｏである
。さらにこの段階によって約１０　ｍｇ／β以下の、好
ましくは約５ｍｇ／Ａの錯化剤を含む生成物を与える事
が出来る。これによって浄化システム及びパイプ系統内
の重金属の錯化に関して問題を生ずる事なく、廃棄組成
物が通常の工場浄化システムを通して放出され得る。

使用されるオゾンの量は分解されるべき組成物中の有機
物質の量に依存する。一般に存在する有機炭素原子１ｇ
当シ少なく共８ｇのオゾンが使用される。組成物中を流
れるオゾンの質量流率は溶液１．４リツトル当シ約５７
　ｍｇ／分である。オゾンは有機物のほとんどと反応し
、破壊する量使用される事が好ましい。オゾンと有機物
質の接触面積を最大にするためにオゾン含有気体は組成
物水溶液中を発泡しながら通過される。オゾン含有気体
はオゾン及び酸素の混合物である事が好ましく、約６乃
至約６．５重量％のオゾンを含む事が好ましい。処理中
の温度は一般に約２５°Ｃ（通常の室温）乃至約５０°
Ｃである。もし望まれるならば、ＨＯ７２、 による処理段階及びオゾンによる段階は同−反応容器中
で遂行出来る。

本発明に従い通常使用されているオゾン発生器が使用さ
れる。一つの代表的なオゾン発生器は約２０乃至約９９
ｉ量チの酸素及び約重量８０チ迄の窒素、２酸化炭素、
アルゴン等の如き空気中に通常存在する他の少量の気体
を含む気体から約１乃至約８重ｔ％のオゾンを含む気体
を発生する。

本明細簀で使用される“オゾン含有量°なる用語はオゾ
ン発生器によって発生される任意の及びすべての気体を
含み、オゾン及び他の成分の址は本発明のプロセスに有
用である限シ、広い範囲内で変化出来る。代表的オゾン
発生器は米国アリシナ州フェエックス市の０ｚｏｎｅ　
Ｒｅ５ｅａｒｃｈ　ａｎｄ’　Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　Ｃ
ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎＫよって販売されているＭｏｄｅ
ｌ　０３　Ｂ２−０　０ｚｏｎａｔｏｒである。

上述の米国特許第４２８９５９４号に開示されている方
法においては表面活性剤が存在するために、最初極めて
低い供給率たとえば廃液９４当り毎分約０．　ＯＯ２８
ｍ”以下の供給率で組成物中を流れるオゾン含有気体を
最初発泡させる事が好ましい。これは組成物中に泡が生
じるのを最小限にするためである。通常この低い流率は
表面活性剤の存在による発泡か十分低くなって、酸素の
流率が廃液の９１当り毎分０．０１４ｍ３に増大し、処
理容器の上部で泡を生じなくなる迄保持される。米国特
許第４２８９５９４号の方法に従う泡の破壊は通常約３
０分を要する。この時間中一般に気泡を取巻く液体の薄
膜として集中している表面活性剤は一般にオゾンによっ
て破壊される。

しかしながら、本発明に従えば極めて低い供給率で組成
物中を流れるオゾン含有気体を最初に発泡させる必要が
ない。なんとなればＨ２Ｏ２の処理によって、表面活性
剤に影響を与え、泡が形成されないからである。

紫外線及びオゾン処理の開始時には、還元剤及び／もし
くは　酸の如きその酸化形は依然廃液中の有機成分の約
９９ｉ量チ以上を構成しているので、この様な酸化は送
られるオゾンの大部分を消費して次の反応式に従う組成
物を生ずる。

ＨＣ００Ｈ＋Ｏろ　−ＣＯ２＋０２＋Ｈ２０この結果、
送られる最初のオゾンの小部分だけが、廃液中のエチレ
ンジニトロテトラ酢酸の如き錯化剤及び他の有機成分の
酸化に使用される。勿論処理が進行するにつれ、オゾン
の大部分が錯化剤の酸化に使用される様になる。しかし
ながら、例えば　酸及び種々の他の成分が存在する中で
の錯化剤の酸化の全体的過程は比較的緩慢である。

例エバ、エチレンジニトロテトラ酢酸の如き錯化剤の初
期濃度が同じで、他の有機化合物を含まない組成の場合
には、酸化処理はわずか２もしくは６時間でよい。

米国特許第４２８９５’９４号に開示されている如く、
ｌｐｐｍ以下に第２銅イオンの濃度を減少する事によっ
て、錯化剤の量を５ｍｇ／＃以下に減少するのに必要と
される時間はより多くの第２銅イオ／が存在する場合に
必要な時間の半分以下による。具体的にはこの米国特許
第４２８９５９４号に開示された過程に従う必要時間は
約８乃至約１０時間である。

しかしながら、廃液がオゾン−紫外線処理の前結果を達
成するためにＨｏ　の前処理がない場合２ に必要とされる時間の約１／２に減少される。

実験例 無電気銅めっき槽から廃液約９５４がステンレス鋼の反
応室中に導入された。

代表的な廃棄物の組成は次の通りである。

硫酸ナトリウム　１００−１０５ｇ／ＡＥＤＴＡ　（錯
化剤）　１００１０００ｐｐ″−＋（ＥＤＴＡと錯化）
　１０ｐｐｍ十干十 Ｆｅ　（ＥＤＴＡと錯化）１０−２０ｐｐｍｐＨ’１．
８−２ 全有機物内容　約６５００ｍｇ／ｊ＋ ＧＡＦＡＣＲＥ　６１０　５０−１００ｍｇ／Ａ（陽イ
オン性表面活性剤） 有機炭素の９０チ以上は　酸から得られる。ＧＡＦＡＣ
ＲＥ［１０はリン酸ポリオキシエチレン・アルキル・フ
ェノール及びその金属塩である。

廃棄組成物を約９０°Ｃに加熱し、２７１の分液ロート
によって１時間当シ約９５１得られる廃棄組成物に対し
約２５００　：ｄの３０チのＨ２Ｏ２水溶液が加えられ
た。反応室の底にある拡散器を通して気体の０２を通す
事によってＨ２Ｏ２が廃液組成物中に混合された。Ｈ２
０２処理は約２時間続けられた。次の表はこの処理によ
って得られる代表的な結果を示す。

表 ＴＯＣｐＨ 出発時のＴＯＣ＜５ＯＯＯ１，８５ １時間後（６０％ＨＯ４０５０２，０２２ による第１回目の処理） ２時間後（６０％ＨＯ’　３０００．　１．８５２ による第２回目の処理） 次にＨ２０２で処理された廃棄組成物が冷却された。

純粋な銅屑の約１５　ｇ／ｌ　２１バツチ、６７％のフ
ォルムアルデヒド及び水酸化ナトリウム水溶成約９０ｒ
ｎｌを加える事によって廃棄組成物中の銅イオン濃度及
び鉄イオン濃度の各々がｌｐｐｍに減少され、ｐＨは約
１２になシ、次に約７０’Ｃに加熱された。

Ｈ２ＳＯ４を加える事によってｐＨが４−６に調節され
た。テストはＵｌｔｒｏｘ、Ｉｒｒａｄ、ＭｏｄｅｌＢ
−８０３ｂｅｎｃｈ　５ｃａｌｅ　ＵＶ−０ｚｏｎｅシ
ステムによって実施された。反応容器には各６６ワツト
級の複数の３ボルト・アーク紫外線灯（Ｇ３６Ｔ６６）
が装備された。約９０　ｃｍ長の紫外線灯が容器の内側
に置かれた。紫外線灯は保護のために石英保持器内に存
在する。

酸素の泡が６個の多孔性重合体フルオロカーボン拡散器
を通して底から反応器に導入された。紫外線灯及びオゾ
ン発生器の両方がオンに転ぜられた。オゾン発生器とし
ては米国アリシナ−州フェエックス市の０ｚｏｎｅ　Ｒ
ｅ５ｅａｒｃｈ　ａｎｄ　Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　Ｃｏｒ
ｐｏｒａｔｉｏｎによって製造されている０ｒｅｃ　Ｍ
ｏｄｅｌ　０３　Ｂ２　００ｚｏ、ｎａｔｏｒが使用さ
れた。酸素は低温貯蔵容器からオゾン発生器に供給され
た。酸素中のオゾンの濃度は約６乃至約６．５重量係で
ある。毎分約０．０１３乃至００１４ｍ３の気体流率が
使用された。処理中のオゾンの質量流率は毎分約６６０
乃至約６９０　ｍｇ／ｌである。オゾン発生器は１日に
約９０７ｇ乃至９９８ｇのオゾンを発生出来る。

過程の進行中にサンプルが一時間毎に採取され、全有機
炭素（ＴＯＣ）の分析及びｐＨ測定がなされた。ｐＨは
約４乃至乙に保持された。

全有機炭素分析はＤｏｈｒｍａｎ／Ｅｎｖｉｒｏｔｅｃ
ｈ。

Ｍｏｄｅｌ　ＤＣ−５４Ｕｌｔｒａｌｏｗ　Ｏｒｇａｎ
ｉｃＣａｒｂｏ、ｎ　Ａｎａｌｚｅｒ　によって行われ
た。分析の前に純粋な脱イオン水を使用し、必要とされ
る廃棄物サンプルの希釈が行われた。溶液のｐＨの測定
の制御は問題にしているｐＨの範囲を得るための適切な
緩衝溶液に対して照合されたＣｏｒｎｉｎｇＭｏｄｅｌ
　１２研究室型ｐＨ計によって行われた。

オゾン及び紫外線による処理は約６乃至４時間〔発明の
効果〕 本発明に従い、従来に比し安価で処理時間が短く少なく
共同程度の効果を与える廃棄組成物処理方法が与えられ
る。

第１頁の続き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、４　識別記号　庁内整理番号＠発明者
　ジエームズ・エドワー　アメリカ合衆国ド・シャーク
ネス　ド３０５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 銅イオン及び該銅イオンのだめの有機錯化剤を含む廃棄
   組成物溶液を処理する方法であって、（１）上記廃棄組
   成物溶液中の銅イオンの濃度を８ｐｐｍ以下の値に減少
   させる段階と、 （２）上記段階１）で得られた廃棄組成物溶液をＨ２Ｏ
   ２と接触させて、全有機物の２０乃至６０重量係を破壊
   する段階と、 （３）　Ｊ、：、記段階（１）及び（２）で部分的に処
   理された廃棄組成物溶液をオゾン含有気体と接触させ、
   上記錯化剤及び有機物と反応させて破壊し、さらにこの
   様にして得られたオゾン含有廃棄組成物を紫外線で照射
   する段階とよシ成る、 廃棄組成物溶液の処理方法。