JPS60125363A - セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 - Google Patents
セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体Info
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- JPS60125363A JPS60125363A JP58233810A JP23381083A JPS60125363A JP S60125363 A JPS60125363 A JP S60125363A JP 58233810 A JP58233810 A JP 58233810A JP 23381083 A JP23381083 A JP 23381083A JP S60125363 A JPS60125363 A JP S60125363A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C4/11—Oxides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水蒸気の多い雰囲気、腐蝕性ガスの雰囲気又
は液（水又は油等）と接する状態において使用する長波
長赤外線放射体に関するものである。
は液（水又は油等）と接する状態において使用する長波
長赤外線放射体に関するものである。
長波長赤外線を放射するセラミックス（ジルコニア等）
を金属、素焼等にプラズマ浴着又は焼付けたものを加熱
すれば、放射される長波長赤外線と被加熱物との共振吸
収現象により加熱効果が大であることはよく知られてお
り塗料の乾燥等に利用されている。
を金属、素焼等にプラズマ浴着又は焼付けたものを加熱
すれば、放射される長波長赤外線と被加熱物との共振吸
収現象により加熱効果が大であることはよく知られてお
り塗料の乾燥等に利用されている。
併しながら、水蒸気の多い雰囲気、腐蝕性ガスの雰囲気
又は液（水又は油等）と接するような状態、例えば乾燥
機、熱交換器、食品機械等には全く使用されていない。
又は液（水又は油等）と接するような状態、例えば乾燥
機、熱交換器、食品機械等には全く使用されていない。
此は、従来の技術においては次のような欠陥が有ったか
らである。
らである。
長波長赤外線を放射するセラミックスを金属又は素焼に
プラズマ溶着した場合は溶着層に多数の気孔が存在する
。例えば、長波長赤外線を放射するために広く使用され
るジルコニアを主体とするセラミックスを溶着した場合
は、その溶着層は容積率にて真の気孔率は、１５％（見
掛けの気孔率は１０％）に到する。従って、微視的に観
冨すれば母体（金属、素焼）に到する無数の気孔が存在
する。
プラズマ溶着した場合は溶着層に多数の気孔が存在する
。例えば、長波長赤外線を放射するために広く使用され
るジルコニアを主体とするセラミックスを溶着した場合
は、その溶着層は容積率にて真の気孔率は、１５％（見
掛けの気孔率は１０％）に到する。従って、微視的に観
冨すれば母体（金属、素焼）に到する無数の気孔が存在
する。
此の状態を第１図に示す。図において、（１）は母体金
属、（２）は溶射されたセラミックス、（３）は気孔を
示す。
属、（２）は溶射されたセラミックス、（３）は気孔を
示す。
次に第２図は、素焼にイツトリア等を固溶したジルコニ
ア粉末を特殊溶液にて混合したペーストを塗布して電気
炉で高温にて焼付けた場合を示す。図において、（４）
はジルコニアを主体とした赤外線放射ノー、６）は素焼
、（６）は素焼の中に埋込れた発熱用のニクロム線であ
る。
ア粉末を特殊溶液にて混合したペーストを塗布して電気
炉で高温にて焼付けた場合を示す。図において、（４）
はジルコニアを主体とした赤外線放射ノー、６）は素焼
、（６）は素焼の中に埋込れた発熱用のニクロム線であ
る。
又、第３図は、第２図における表面の部分を拡大したも
の、第４図は第３図の平面図である。図に示すように、
此の種の放射体は使用中に表面の赤外放射層に多数のき
裂を発生する。此の発生するき裂は細いものであるが母
体（素焼）に到している。
の、第４図は第３図の平面図である。図に示すように、
此の種の放射体は使用中に表面の赤外放射層に多数のき
裂を発生する。此の発生するき裂は細いものであるが母
体（素焼）に到している。
以上に述べたごとく、現在発表されている放射体は母体
（金属、素焼）に到する無数の気孔又はき裂を有してい
る。従って此を水蒸気の多い雰囲気、腐蝕性ガスの雰囲
気又は液と接する状態において使用すると次のような重
大な欠陥を発生して使用は不可能である。
（金属、素焼）に到する無数の気孔又はき裂を有してい
る。従って此を水蒸気の多い雰囲気、腐蝕性ガスの雰囲
気又は液と接する状態において使用すると次のような重
大な欠陥を発生して使用は不可能である。
１）、液に微少な電解質（食塩、アルカリ、酸）及び水
を含むと、第５図に示すごとく極部電池を構成して母体
金属にクロム線）が腐蝕される。特に温度の高い場合は
腐蝕速度が大である。此は、表面に溶着されている。ジ
ルコニアにはイツトリア、希土類元素等が含れており等
電性を示し、母体金属の方が電気的に卑であるから母体
金属が侵されることになる。
を含むと、第５図に示すごとく極部電池を構成して母体
金属にクロム線）が腐蝕される。特に温度の高い場合は
腐蝕速度が大である。此は、表面に溶着されている。ジ
ルコニアにはイツトリア、希土類元素等が含れており等
電性を示し、母体金属の方が電気的に卑であるから母体
金属が侵されることになる。
２）、溶着されたナラミックス層の気孔、き裂等は微細
であるために、浸入した液は洗滌によっても排出が不可
能であり洗滌後も電気的腐蝕は進行する。
であるために、浸入した液は洗滌によっても排出が不可
能であり洗滌後も電気的腐蝕は進行する。
３）、待に食品機器の場合は、セラミックス層の気孔に
固着した物質は腐敗して食中毒の原因となる恐れがある
。
固着した物質は腐敗して食中毒の原因となる恐れがある
。
次に、第５図に電気的腐蝕の例を示す。図において、（
１０）は金属母体（ハ）、（１１）は溶着されたセラミ
ックス（ト）、（１２）は浸入した電解質を含む液であ
る８此の場合、午印の方向に電流が流れて卑である金属
母体の（１３）の部分が腐蝕される。
１０）は金属母体（ハ）、（１１）は溶着されたセラミ
ックス（ト）、（１２）は浸入した電解質を含む液であ
る８此の場合、午印の方向に電流が流れて卑である金属
母体の（１３）の部分が腐蝕される。
本発明は、以上の欠陥を除去して水蒸気の多い雰囲気や
液中にても使用しえて、特に食品機器の場合においても
物質が固着しない長波長赤外線放射体を提供するもので
ある。
液中にても使用しえて、特に食品機器の場合においても
物質が固着しない長波長赤外線放射体を提供するもので
ある。
次に本発明の詳細を実施例をも−て説°明する。
実施例１）。
Ｓ ＴＪ Ｓ ４３０（ステンレス鋼）の表面に、アル
ミバ＃、Ｏ，）を主体としてチタニア”（Ｚｒへ）を３
％添加した粒径１０μ〜２０μ程度のセラミックス微粉
末をプラズマ溶着し、ついでジルコニア（ＺｒＯ，）を
主体としてイツトリア（Ｙ−Ｏｘ）を８％添加した粒径
２０μ〜４０μ程匣のセラミックス微粉末をプラズマ溶
着し、さらに熱水又は水蒸気処理した場合の水蒸気、腐
蝕性ガス雰囲気で使用する放射体の噺面詳測を第６図に
示す。図において、 基材（ステンレスＱ）（１４）に、アルミ〉主体のすラ
ミックス（１５）をプラズマ溶着する。此の場合、溶射
材料としてのアルミナはα・Ａｐ、Ｏ，−ｃあるが溶射
により高温状態を通過するために殆どが１−Ａｌ１Ｏｓ
に変態する。（５％程度のａ−ＡＩＤ。
ミバ＃、Ｏ，）を主体としてチタニア”（Ｚｒへ）を３
％添加した粒径１０μ〜２０μ程度のセラミックス微粉
末をプラズマ溶着し、ついでジルコニア（ＺｒＯ，）を
主体としてイツトリア（Ｙ−Ｏｘ）を８％添加した粒径
２０μ〜４０μ程匣のセラミックス微粉末をプラズマ溶
着し、さらに熱水又は水蒸気処理した場合の水蒸気、腐
蝕性ガス雰囲気で使用する放射体の噺面詳測を第６図に
示す。図において、 基材（ステンレスＱ）（１４）に、アルミ〉主体のすラ
ミックス（１５）をプラズマ溶着する。此の場合、溶射
材料としてのアルミナはα・Ａｐ、Ｏ，−ｃあるが溶射
により高温状態を通過するために殆どが１−Ａｌ１Ｏｓ
に変態する。（５％程度のａ−ＡＩＤ。
も混在する）。次にジルコニアを主体とするセラミック
ス（１６）を溶着し、熱水又は水蒸気処理を行う。アル
ミナ、ジルコニアの溶着層には最初は気孔（１７）や基
材に達するピンホール（１８）が多数存在するが、アル
ミナ層はｒＡＪ＋ｏｘに変帽しているために次の熱水、
水蒸気処理により水と反応してｙ Ａｐｔ ０３・Ｈ，
０となり膨張して気孔を塞ぐと共に、ピンホール中を上
昇して表面のジルコニア層を釘で壮めたようになり密着
性が増大すると共に気孔が減少する。
ス（１６）を溶着し、熱水又は水蒸気処理を行う。アル
ミナ、ジルコニアの溶着層には最初は気孔（１７）や基
材に達するピンホール（１８）が多数存在するが、アル
ミナ層はｒＡＪ＋ｏｘに変帽しているために次の熱水、
水蒸気処理により水と反応してｙ Ａｐｔ ０３・Ｈ，
０となり膨張して気孔を塞ぐと共に、ピンホール中を上
昇して表面のジルコニア層を釘で壮めたようになり密着
性が増大すると共に気孔が減少する。
又、ｒ−ＡＪＩＯ３、ｒ−ＡＪ−Ｏａ ・ＩＬ Ｏは共
に線膨張係数が６〜９ ＸＩＯ／（１（Ｉｇでありジル
コニアの線膨張係数７〜１０ ｘ １０／ｄｅｇと近似
している。基材として５ＵＳ４３０を撰択すれば此の線
膨張係数が１０〜１１ Ｘ ＩＱ／ｄｅｇであることと
合わせて熱ＷＪＷに対しては極めて安定している。
に線膨張係数が６〜９ ＸＩＯ／（１（Ｉｇでありジル
コニアの線膨張係数７〜１０ ｘ １０／ｄｅｇと近似
している。基材として５ＵＳ４３０を撰択すれば此の線
膨張係数が１０〜１１ Ｘ ＩＱ／ｄｅｇであることと
合わせて熱ＷＪＷに対しては極めて安定している。
かくして、水蒸気、腐蝕性ガス雰囲気にて使用しても電
気的腐蝕、表面の深い気孔がなく耐蝕性、耐熱衝撃性を
有する安定した長波長赤外線放射体を提供する。
気的腐蝕、表面の深い気孔がなく耐蝕性、耐熱衝撃性を
有する安定した長波長赤外線放射体を提供する。
実施例２）。
実施例１）と同様にして、５ＵＳ４３０の表面にアルミ
ナ主体、ジルコニア主体のセラミックス微粉体を２回に
わたってプラズマ溶着し、その上にフッ素樹脂又はシリ
コン樹脂を全表面に焼付けした調理用鍋の場合を第７図
に示す。
ナ主体、ジルコニア主体のセラミックス微粉体を２回に
わたってプラズマ溶着し、その上にフッ素樹脂又はシリ
コン樹脂を全表面に焼付けした調理用鍋の場合を第７図
に示す。
図において、（２０）は鍋本体、（２１）は長波長赤外
線放射！、（２２）は鋳込まれたンーズヒーター 、（
２３）はバイメタルを示す。次に、第７図におけるＡ部
断面の詳細を第８図に示す。
線放射！、（２２）は鋳込まれたンーズヒーター 、（
２３）はバイメタルを示す。次に、第７図におけるＡ部
断面の詳細を第８図に示す。
鍋本体（２４）にまずアルミナ主体のセラミックス（２
５）、ジルコニア主体のセラミックス（２６）をプラズ
マ溶着し、次にフッ素樹脂又はシリコン樹脂（２７）を
焼付、けする。此の場合、樹脂はセラミックス層の気孔
（２８）−、ピンホール（２９）に浸入すると共に１．
−Ａｌｔｏ３ の微孔に吸着されて二重の投錨効果によ
り極めて強固な皮膜を構成する。かくして、水、油等と
接して塩、Ｉ１１油等の過酷な使用条件においても、電
気的腐蝕がなく、耐蝕性、耐熱衝撃性を有し而も有機物
の付着もなく常に清潔を保ち、而も長波長赤外線による
加熱効果の大なる調理用鍋を提供する。
５）、ジルコニア主体のセラミックス（２６）をプラズ
マ溶着し、次にフッ素樹脂又はシリコン樹脂（２７）を
焼付、けする。此の場合、樹脂はセラミックス層の気孔
（２８）−、ピンホール（２９）に浸入すると共に１．
−Ａｌｔｏ３ の微孔に吸着されて二重の投錨効果によ
り極めて強固な皮膜を構成する。かくして、水、油等と
接して塩、Ｉ１１油等の過酷な使用条件においても、電
気的腐蝕がなく、耐蝕性、耐熱衝撃性を有し而も有機物
の付着もなく常に清潔を保ち、而も長波長赤外線による
加熱効果の大なる調理用鍋を提供する。
実用例３）。
８Ｕ８４３０の表面に、アルミナ（ＡＪ（、０３）を主
体としてチタニア（Ｚ、Ｏ，＞４ｉ−３％添加した粒径
１０μ〜２０μ程度のセラミックス微粉末とジルコニア
（ＺｒＯ，）を主体としてイノトリア（Ｙ、０３）を８
％添加した粒径２０μ〜４０μ程度のセラミックス微粉
末とを重量比にて４：６の割合にて混合したものをプラ
ズマ溶着し、さらに熱水又は水蒸気処理をした場合の水
蒸気、腐蝕性ガス雰囲気で使用する放射体の断面詳細を
第９図に示す。図において、 Ｊｔ Ｍ （”Ｊｌ’ｌ負γ マ市マ斗士ｌ十小七らマ
２１．ｈマ（３１）とジルコニア主体のセラミックス（
３２）との混合したものをプラズマ溶射する。此の湯気
処理を行うと気孔、ピンホールより内部に浸入した水は
、溶射によりｒ・ＡｌＯ２に変態した（３１）と結合し
てｒ−ＡＪ＊０３・ＨｔＯ（３５）となり膨張して気孔
、ピンホールを基ぐと共に、上昇してセラミックス粒子
を同定し釘打ち効果を発揮する。ｒ−ＡＪＩ Ｏｘ・１
１．０の全放射率は約５０％であり、Ｚｒαの全放射率
は約７４％である。
体としてチタニア（Ｚ、Ｏ，＞４ｉ−３％添加した粒径
１０μ〜２０μ程度のセラミックス微粉末とジルコニア
（ＺｒＯ，）を主体としてイノトリア（Ｙ、０３）を８
％添加した粒径２０μ〜４０μ程度のセラミックス微粉
末とを重量比にて４：６の割合にて混合したものをプラ
ズマ溶着し、さらに熱水又は水蒸気処理をした場合の水
蒸気、腐蝕性ガス雰囲気で使用する放射体の断面詳細を
第９図に示す。図において、 Ｊｔ Ｍ （”Ｊｌ’ｌ負γ マ市マ斗士ｌ十小七らマ
２１．ｈマ（３１）とジルコニア主体のセラミックス（
３２）との混合したものをプラズマ溶射する。此の湯気
処理を行うと気孔、ピンホールより内部に浸入した水は
、溶射によりｒ・ＡｌＯ２に変態した（３１）と結合し
てｒ−ＡＪ＊０３・ＨｔＯ（３５）となり膨張して気孔
、ピンホールを基ぐと共に、上昇してセラミックス粒子
を同定し釘打ち効果を発揮する。ｒ−ＡＪＩ Ｏｘ・１
１．０の全放射率は約５０％であり、Ｚｒαの全放射率
は約７４％である。
かくして、水蒸気、腐蝕性ガス雰囲気にて使用しても電
気的腐蝕、表面の深い気孔がなく耐蝕性、耐熱衝撃性を
有する安定した長波長赤外線放射体を提供する。
気的腐蝕、表面の深い気孔がなく耐蝕性、耐熱衝撃性を
有する安定した長波長赤外線放射体を提供する。
実施例４）。
実施例３）と同様にして、５ＵＳ４３０の表面にアルミ
ナ主体、ジルコニア主体のセラミックス微粉末の混合物
をＭｍ比にて４＝６の割合にて混合したものをプラズマ
溶射し、その上にフッ素樹脂又はシリコン樹脂を全表面
に焼付けし、さらに熱水又は水蒸気処理したホットプレ
ートの場合を第１０内に示す。
ナ主体、ジルコニア主体のセラミックス微粉末の混合物
をＭｍ比にて４＝６の割合にて混合したものをプラズマ
溶射し、その上にフッ素樹脂又はシリコン樹脂を全表面
に焼付けし、さらに熱水又は水蒸気処理したホットプレ
ートの場合を第１０内に示す。
図において、（３６）は本体、（３７）は長波長赤外線
放射層、（３８）は鋳込まれたシーズヒーター、（３９
）はバイメタルを示す。次に、第１０図における１３部
断面の詳細を第１１図に示す。
放射層、（３８）は鋳込まれたシーズヒーター、（３９
）はバイメタルを示す。次に、第１０図における１３部
断面の詳細を第１１図に示す。
本体（４０）にまずアルミナ主体のセラミックス（４１
）とジルコニア主体のセラミックス（４２）の混合微粉
末をプラズマ溶着する。ついで、フッ素樹脂又はシリコ
ン樹脂（４３）を全面に焼付けし、熱水又は水蒸気処理
する。
）とジルコニア主体のセラミックス（４２）の混合微粉
末をプラズマ溶着する。ついで、フッ素樹脂又はシリコ
ン樹脂（４３）を全面に焼付けし、熱水又は水蒸気処理
する。
カくシて、焼付けられた樹脂はセラミックスだ着層の気
孔、ピンホール、さらにｙＡＪ＋０３の微孔に浸入して
二重段Ｑ効果により強固に固定される。併しながら、焼
付けした樹脂層には多数の微孔が存在するため、此より
浸入した水がｒ−Ａ７１１０３に到すると反応して、−
Ａム０３．Ｈ，０となり膨張して微孔を上昇して樹脂層
を釘打ち効果によりさらに強固に固定する。
孔、ピンホール、さらにｙＡＪ＋０３の微孔に浸入して
二重段Ｑ効果により強固に固定される。併しながら、焼
付けした樹脂層には多数の微孔が存在するため、此より
浸入した水がｒ−Ａ７１１０３に到すると反応して、−
Ａム０３．Ｈ，０となり膨張して微孔を上昇して樹脂層
を釘打ち効果によりさらに強固に固定する。
カくシて、水、油等と接して塩、ソース等の過酷な使用
条件においても、電気的腐蝕がなく、耐蝕性、耐熱衝撃
性を有し而も有機物の付着もなく常に清潔を保ち、而も
長波長赤外線による加熱効果の大なるホットプレートを
提供する。
条件においても、電気的腐蝕がなく、耐蝕性、耐熱衝撃
性を有し而も有機物の付着もなく常に清潔を保ち、而も
長波長赤外線による加熱効果の大なるホットプレートを
提供する。
次に、セラミックス層にフッ素樹脂及びシリコン樹脂を
焼付けた理由を説明する。
焼付けた理由を説明する。
セラミックス溶着層には表面に無数の凹凸があり此に液
又は液中物質が固着する傾向がある。故に有機物に非混
和性で離型作用の強いフッ素樹脂及びシリコン樹脂を被
覆して常に清潔に保つようにした。フッ素樹脂は連続使
用耐熱温度は２６０ｕ、シリコンＭｈＨは３００℃であ
り耐熱性にも優れている。次に最も重要なことは、本発
明は長波長赤外線の放射が目的であるからセラミックス
面より放射された長波長赤外線を吸収せず良く透過する
物質を選定することである。このためにフッ素樹脂及び
シリコン樹脂を選定した。
又は液中物質が固着する傾向がある。故に有機物に非混
和性で離型作用の強いフッ素樹脂及びシリコン樹脂を被
覆して常に清潔に保つようにした。フッ素樹脂は連続使
用耐熱温度は２６０ｕ、シリコンＭｈＨは３００℃であ
り耐熱性にも優れている。次に最も重要なことは、本発
明は長波長赤外線の放射が目的であるからセラミックス
面より放射された長波長赤外線を吸収せず良く透過する
物質を選定することである。このためにフッ素樹脂及び
シリコン樹脂を選定した。
第１２図に各種被覆材料の赤外吸収スペクトルを示す。
図において斜線の部分に相当した赤外線は吸収される。
故に、フッ素樹脂とシリコン樹脂以外は被覆材料として
は不適当である。
は不適当である。
又、セラミックスより放射された全放射エネルギーのう
ち、透過するエネルギーとイ耐脂に吸収されるエネルギ
ーとの関係を、フッ素樹脂ニついては第１３図、シリコ
ン樹脂については第１４図に示す。
ち、透過するエネルギーとイ耐脂に吸収されるエネルギ
ーとの関係を、フッ素樹脂ニついては第１３図、シリコ
ン樹脂については第１４図に示す。
第１３図は、セラミックスの表面温度が２６０℃の場合
におけるフッ素樹脂被膜を施した場合の放射エネルギー
分布を示す。
におけるフッ素樹脂被膜を施した場合の放射エネルギー
分布を示す。
図において、ピーク波［２μｍｘ）は５．４μであり、
波長７．８μ以上の赤外線はフッ素”Ｊ’ｆＪ脂被膜層
に吸収されて熱となる。（Ｅ、の部分）波長７．８μよ
り短い赤外線は透過して長波長赤外線として有効に作用
する。（Ｅ、の部分）此の場合、吸収される放射エネル
ギー（Ｅ、 ）は全放射エネルギー（Ｅ、 −１−Ｅ、
）の約３４Ｌ）／ａであｈ −Ｅ、（６ｇ’ ％）Ｉ
ｆ 遺；晶する。従って実用上は全く問題はない。吸収
された放射エネルギー（Ｅりは熱に変換され被加熱物を
直接伝導により加熱する。
波長７．８μ以上の赤外線はフッ素”Ｊ’ｆＪ脂被膜層
に吸収されて熱となる。（Ｅ、の部分）波長７．８μよ
り短い赤外線は透過して長波長赤外線として有効に作用
する。（Ｅ、の部分）此の場合、吸収される放射エネル
ギー（Ｅ、 ）は全放射エネルギー（Ｅ、 −１−Ｅ、
）の約３４Ｌ）／ａであｈ −Ｅ、（６ｇ’ ％）Ｉ
ｆ 遺；晶する。従って実用上は全く問題はない。吸収
された放射エネルギー（Ｅりは熱に変換され被加熱物を
直接伝導により加熱する。
第１４図は、セラミックスの表面温度が３００ｔ：の場
合におけるシリコン樹脂被膜を施した一合の放射エネル
ギー分布を示す。
合におけるシリコン樹脂被膜を施した一合の放射エネル
ギー分布を示す。
図において、ピーク波長（λｍａｘ）は５．１μであり
波長８μ以上の赤外線はシリコン樹脂被膜層に吸収され
て熱となる。（Ｅ、の部分）波長（８μ）より短い赤外
線は透過して長波長赤外線として有効に作用す４（Ｅ３
の部分）此の場合、吸収される放射エネルギー（Ｅ４）
は全放射エネルギー（Ｅｓ＋Ｅ４）の約３０％であり、
Ｅコ（７０％）は透過する。従って実用上は全く問題は
ない。吸収された放射エネルギー（Ｅ４）は熱に変換さ
れて被加熱物を直接伝導により加熱する。
波長８μ以上の赤外線はシリコン樹脂被膜層に吸収され
て熱となる。（Ｅ、の部分）波長（８μ）より短い赤外
線は透過して長波長赤外線として有効に作用す４（Ｅ３
の部分）此の場合、吸収される放射エネルギー（Ｅ４）
は全放射エネルギー（Ｅｓ＋Ｅ４）の約３０％であり、
Ｅコ（７０％）は透過する。従って実用上は全く問題は
ない。吸収された放射エネルギー（Ｅ４）は熱に変換さ
れて被加熱物を直接伝導により加熱する。
かくして本発明は、従来全く不可能であった水蒸気の多
い雰囲気又は液（水又は油等）と接する状１態において
長波長赤外線の放射を可能としただけでなく、放射面の
汚染を取り除いて、極めて加熱効率の良い長波長赤外線
放射体を提供するものである。
い雰囲気又は液（水又は油等）と接する状１態において
長波長赤外線の放射を可能としただけでなく、放射面の
汚染を取り除いて、極めて加熱効率の良い長波長赤外線
放射体を提供するものである。
第１図は、従来の長波長赤外線を放射するセラミックス
を金属又は素焼にプラズマ溶射した場合の断面を示す。 第２図は、素焼にイツトリア等を固溶したジルコニア粉
末を特殊溶液にて混合したペーストを塗布して電気炉で
高温にて焼付けた従来の放射体の断面を示す。 第３図は、第２図における表面の部分を拡大して示す。 ７・・母体の表面に焼付けられた放射層８・・放射層に
発生したき裂 ９・・素焼等の基材 第４図は、第３図の表面図である。 第５図は、電気的腐蝕の例を示す。 第６図は、本発明による実施例１）を示す。 第７図は、本発明による実施例２）を示す。 第８図は、第７図におけるＡ断面面の詳細を示す。 第９図は、本発明による実施例３）を示す。 ＠１０図は、本発明による実施例４）を示す。 第１１図は、第１Ｏ図におけるＢ部所面の詳細を示す。 ４６・・ｒ−Ａム０３・Ｈ，０による釘打ち状態を示す
。 第１２図は、各種被覆材料の赤外吸収スペクトルを示す
。 ａ・・フッ素樹脂 ｂ・・シリコン、樹脂Ｃ・・ナイロ
ン−６ｄ・・メラミンｍ脂−ｅ・・エポキシ樹脂 ｆ・
・３χガラス板とアクリル板 第１３図は、セラミックスの表面温度が２６０℃の場合
におけるフッ素副脂被膜を施した場合の放射エネルギー
分布を示す。 第１４図は、セラミックスの表面温度が３００℃の場合
におけるシリコンイ、χ（脂被膜を施した場合の放射エ
ネルギー分布を示す。 第１Ｏ風− １ＩＩの浄ＩＦ（内容に変更なし） 図面の浄書（内容に変更なし） ｍ園の浄書（内容に変更なし） 一−５膚！＆（ｃｉり一 ／ ／Ｉｆｆ− 図面の浄書（内容に変凪なし） 一１ヨー、！−βＬ− 手続補正書 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２３３８１０号２
、発明の名称 セラミックスをプラズマ溶射した長波長
赤外線射体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 愛知県名古屋市千種区高見２丁目４、補正命令の
日付 昭和５９年３月７日５、補正の対象 明細書４、図面の簡単な説明の欄及び、図面の第１２図
より第１４図 ６、補正の内容 明細書の４、図面の簡単な説明の欄の第１２図より第１
４図に関する内容を全文、 図面の第１２図より第１４図の企図を別紙の通り補正す
る。 を示す。 第９図は、本発明による実施例３）を示す。 第１０図は、本発明による実施例４）を示す。 第１１図は、第１−０図におけるＢ部断面の詳細を示す
。 ４６ ・・ｒ−ＡＩ＊ｏｓ−１ｈＯによる釘打ち状態を
示す。 第１２図より第１７図は、各種被覆材料の赤外線吸収ス
ペクトル分布を示す。 第１２図は、フッ累樹脂 第１３因は、シリコン樹脂 第１４図は、ナイロン−６ 第１５図は、メラミン樹脂 第１６図は、エポキシ樹脂 第１７肉は、３％ガラス板とアクリル板第１８図は、セ
ラミックスの表ｉ渥度が２６０℃の場合におけるフッ素
樹脂被膜を施した場合の放射エネルギー分布を示す。 第１９図は、セラミックスの表面温度が３００℃の場合
におけるシリコン樹脂ＭＩＭ８ｐ施した場合の放射エネ
ルギー分布を示す。
を金属又は素焼にプラズマ溶射した場合の断面を示す。 第２図は、素焼にイツトリア等を固溶したジルコニア粉
末を特殊溶液にて混合したペーストを塗布して電気炉で
高温にて焼付けた従来の放射体の断面を示す。 第３図は、第２図における表面の部分を拡大して示す。 ７・・母体の表面に焼付けられた放射層８・・放射層に
発生したき裂 ９・・素焼等の基材 第４図は、第３図の表面図である。 第５図は、電気的腐蝕の例を示す。 第６図は、本発明による実施例１）を示す。 第７図は、本発明による実施例２）を示す。 第８図は、第７図におけるＡ断面面の詳細を示す。 第９図は、本発明による実施例３）を示す。 ＠１０図は、本発明による実施例４）を示す。 第１１図は、第１Ｏ図におけるＢ部所面の詳細を示す。 ４６・・ｒ−Ａム０３・Ｈ，０による釘打ち状態を示す
。 第１２図は、各種被覆材料の赤外吸収スペクトルを示す
。 ａ・・フッ素樹脂 ｂ・・シリコン、樹脂Ｃ・・ナイロ
ン−６ｄ・・メラミンｍ脂−ｅ・・エポキシ樹脂 ｆ・
・３χガラス板とアクリル板 第１３図は、セラミックスの表面温度が２６０℃の場合
におけるフッ素副脂被膜を施した場合の放射エネルギー
分布を示す。 第１４図は、セラミックスの表面温度が３００℃の場合
におけるシリコンイ、χ（脂被膜を施した場合の放射エ
ネルギー分布を示す。 第１Ｏ風− １ＩＩの浄ＩＦ（内容に変更なし） 図面の浄書（内容に変更なし） ｍ園の浄書（内容に変更なし） 一−５膚！＆（ｃｉり一 ／ ／Ｉｆｆ− 図面の浄書（内容に変凪なし） 一１ヨー、！−βＬ− 手続補正書 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２３３８１０号２
、発明の名称 セラミックスをプラズマ溶射した長波長
赤外線射体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 愛知県名古屋市千種区高見２丁目４、補正命令の
日付 昭和５９年３月７日５、補正の対象 明細書４、図面の簡単な説明の欄及び、図面の第１２図
より第１４図 ６、補正の内容 明細書の４、図面の簡単な説明の欄の第１２図より第１
４図に関する内容を全文、 図面の第１２図より第１４図の企図を別紙の通り補正す
る。 を示す。 第９図は、本発明による実施例３）を示す。 第１０図は、本発明による実施例４）を示す。 第１１図は、第１−０図におけるＢ部断面の詳細を示す
。 ４６ ・・ｒ−ＡＩ＊ｏｓ−１ｈＯによる釘打ち状態を
示す。 第１２図より第１７図は、各種被覆材料の赤外線吸収ス
ペクトル分布を示す。 第１２図は、フッ累樹脂 第１３因は、シリコン樹脂 第１４図は、ナイロン−６ 第１５図は、メラミン樹脂 第１６図は、エポキシ樹脂 第１７肉は、３％ガラス板とアクリル板第１８図は、セ
ラミックスの表ｉ渥度が２６０℃の場合におけるフッ素
樹脂被膜を施した場合の放射エネルギー分布を示す。 第１９図は、セラミックスの表面温度が３００℃の場合
におけるシリコン樹脂ＭＩＭ８ｐ施した場合の放射エネ
ルギー分布を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）、金属の表面にアルミナ（ＡＪ、 ０３ ＞を主体
とした微粉末をプラズマ溶着し、その上にジルコニア（
ＺｒＯ！房主体とした微粉末をプラズマ溶着し、さらに
熱水又は水蒸気処理することを特徴とするセラミックス
をプラズマ溶射した長波長赤外線放射体。 ２）、金属の表面にアルミナ（Ａｚ、Ｏｉ ）を主体と
した微粉末をプラズマ溶着し、その上にジルコニア（Ｚ
ｒＯ，舟主体とした微粉末をプ ３゜ラズマ溶着し、そ
の上にフッ素耐脂又はシリコン樹脂を全表面に焼付けす
ることを特徴とするセラミックスをプラズマ溶射した長
波長赤外線放射体。 ３）、金属の表面に−アルミナ（ＡｊｔｓＯａ）を主体
とした微粉末とジルコニア（ＺｒＯ，”ｌｆｐ主体とし
た微粉末とを適当な割合にて混合したものをプラズマ溶
着し、さらに熱水又は水蒸気処理することを特徴とする
セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体。 ４）、金属の表面にアルミナ（ＡＪ、Ｏ，）を主体とし
た微粉末とジルコニア（Ｚｒへ）を主体とした微粉末と
を適当な割合にて混合したものをプラズマ溶着し、その
上にフッ素樹脂又はシリコン樹脂を全表面に焼付けしさ
らに熱水又は水蒸気処理することを特徴とするセラミッ
クスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58233810A JPS60125363A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58233810A JPS60125363A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60125363A true JPS60125363A (ja) | 1985-07-04 |
Family
ID=16960932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58233810A Pending JPS60125363A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60125363A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0989199A1 (en) * | 1998-08-28 | 2000-03-29 | Pyrolux A/S | A method for coating kitchen utensils |
| EP1083244A1 (de) * | 1999-09-08 | 2001-03-14 | Sulzer Metco AG | Durch Plasmaspritzen erzeugte dicke Schichten auf Aluminiumoxid-Basis |
| JP2006045674A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-16 | United Technol Corp <Utc> | 被膜物形成プロセス、被膜物形成組成物および被膜物含有物品 |
| CN106567028A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-04-19 | 扬州大学 | 一种在聚合物基体表面制备纳米陶瓷涂层的方法 |
-
1983
- 1983-12-12 JP JP58233810A patent/JPS60125363A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0989199A1 (en) * | 1998-08-28 | 2000-03-29 | Pyrolux A/S | A method for coating kitchen utensils |
| EP0989198A1 (en) * | 1998-08-28 | 2000-03-29 | Pyrolux A/S | A method for coating kitchen utensils |
| EP1083244A1 (de) * | 1999-09-08 | 2001-03-14 | Sulzer Metco AG | Durch Plasmaspritzen erzeugte dicke Schichten auf Aluminiumoxid-Basis |
| JP2006045674A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-16 | United Technol Corp <Utc> | 被膜物形成プロセス、被膜物形成組成物および被膜物含有物品 |
| CN106567028A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-04-19 | 扬州大学 | 一种在聚合物基体表面制备纳米陶瓷涂层的方法 |
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