JPS60116757A - セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 - Google Patents
セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体Info
- Publication number
- JPS60116757A JPS60116757A JP22369083A JP22369083A JPS60116757A JP S60116757 A JPS60116757 A JP S60116757A JP 22369083 A JP22369083 A JP 22369083A JP 22369083 A JP22369083 A JP 22369083A JP S60116757 A JPS60116757 A JP S60116757A
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- JP
- Japan
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- substrate
- plasma
- ceramic
- long
- fluoroplastic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水蒸気の多い剪囲気又は液（水又は油等）と
接する状態ｅこおいて、特に放射面の汚染の可能性があ
り又ｌり染が障筈となる環境において使用する長波長赤
外線放射体に関するものである。
接する状態ｅこおいて、特に放射面の汚染の可能性があ
り又ｌり染が障筈となる環境において使用する長波長赤
外線放射体に関するものである。
長波１長赤外線を放射するセラミックス（ジルコニア等
）を金属、素焼等にプラズマ溶着又は焼イア１けたもの
を加熱すれば、放射される長波長赤外線と被加熱物との
共振吸収現象により加熱効果か大であることはよく知ら
れており塗料の乾燥等に利用さしている。
）を金属、素焼等にプラズマ溶着又は焼イア１けたもの
を加熱すれば、放射される長波長赤外線と被加熱物との
共振吸収現象により加熱効果か大であることはよく知ら
れており塗料の乾燥等に利用さしている。
併しなから、水蒸気の多い雰囲気や液（水又は油等）と
直接に放射体か接するような状態、例えは熱交換器、食
品機器（フライヤー等〕には全く使用されていない。
直接に放射体か接するような状態、例えは熱交換器、食
品機器（フライヤー等〕には全く使用されていない。
此は、従来の技術においては次のような欠陥か有ったか
らである。
らである。
長波長赤外線を放射するセラミックスを金属又は素焼ｐ
こプラズマ溶着した場企は浴盾入ｉりに多数の気孔が存
在する。例えば、長波長赤外線を放射するために広く使
用されるジルコニアを主体とするセラミックスを溶着し
た場合は、その溶着層は容積率にて真の気孔率は１５％
（見掛けのシＣ孔率は１０％）ｔこ到する。従つ゛Ｃ，
敞規的に観察ず３％はＣｊ体（金属、素焼）に到する無
数の気孔か存在する。
こプラズマ溶着した場企は浴盾入ｉりに多数の気孔が存
在する。例えば、長波長赤外線を放射するために広く使
用されるジルコニアを主体とするセラミックスを溶着し
た場合は、その溶着層は容積率にて真の気孔率は１５％
（見掛けのシＣ孔率は１０％）ｔこ到する。従つ゛Ｃ，
敞規的に観察ず３％はＣｊ体（金属、素焼）に到する無
数の気孔か存在する。
此の状ＩＷを第１図に示す。図において、（１）は１ｉ
） Ｋ金属、（２）は溶射されたセラミックス、（３）
は気孔を７Ｊりす。
） Ｋ金属、（２）は溶射されたセラミックス、（３）
は気孔を７Ｊりす。
次に第２図は、累β゛εにイツトリア等を固溶したジル
コニア粉末を特殊溶面にて混せしたペーストを塗イ１ｉ
’ して？ｌＪ：気炉で高温Ｑごて焼ｔ１けた場合ｌｘ
ｉＪ＜ず。図において、（４）はジルコニアを正体と
した赤外線放射層、（５） ）、！素焼、（６）は素焼
の中に卯がれな発熱用のニクロム線である。
コニア粉末を特殊溶面にて混せしたペーストを塗イ１ｉ
’ して？ｌＪ：気炉で高温Ｑごて焼ｔ１けた場合ｌｘ
ｉＪ＜ず。図において、（４）はジルコニアを正体と
した赤外線放射層、（５） ）、！素焼、（６）は素焼
の中に卯がれな発熱用のニクロム線である。
又、第３図は、第２図における表面の部分を拡大したも
の、第４図は第３図の平面図である。図にボずように、
此の種の放射体は使用中ｅこ表面の赤外放射層に多数の
きｇ！を発生する。此の発生するき裂は細いものである
が１７体（２）焼）に到している。
の、第４図は第３図の平面図である。図にボずように、
此の種の放射体は使用中ｅこ表面の赤外放射層に多数の
きｇ！を発生する。此の発生するき裂は細いものである
が１７体（２）焼）に到している。
以上に述べたごとく、現在発表さねている放射体は母体
（金属、素焼）に到する無数の気孔又はき裂を有してい
る。従って此を水蒸気の多い雰囲気又は液体と接して使
用すると次のような重大な欠陥を発生して使用は不可能
である。
（金属、素焼）に到する無数の気孔又はき裂を有してい
る。従って此を水蒸気の多い雰囲気又は液体と接して使
用すると次のような重大な欠陥を発生して使用は不可能
である。
ｌ）、液に微少な電解質（食塩、アルカリ、酸）及び水
を含むと、第５図に刀くず、ごとく極部電池を構成して
母体金１．＠にクロム線）か腐蝕される。特に温度の高
い場合は腐蝕速度か大である。此は、表面に溶着されて
いるジルコニアにはイツトリア、希土類元素等か含れて
おり導電性を示し、母体金属の方か′１１Ｌ気的に卑で
あるから母体金属が侵されることになる。
を含むと、第５図に刀くず、ごとく極部電池を構成して
母体金１．＠にクロム線）か腐蝕される。特に温度の高
い場合は腐蝕速度か大である。此は、表面に溶着されて
いるジルコニアにはイツトリア、希土類元素等か含れて
おり導電性を示し、母体金属の方か′１１Ｌ気的に卑で
あるから母体金属が侵されることになる。
２）、溶着されたセラミックス層の気孔、き裂゛ 等は
！１細であるために、没入した故は洗浄によっても排出
が不可能であり洗浄後も一ル（的１０へ蝕は進行する。
！１細であるために、没入した故は洗浄によっても排出
が不可能であり洗浄後も一ル（的１０へ蝕は進行する。
３）、特に食品機器の場合は、セラミックス層の気孔に
固ノロした物質は腐敗して食中毒のｊＪ、叫Ｎとンよる
恐れかある。
固ノロした物質は腐敗して食中毒のｊＪ、叫Ｎとンよる
恐れかある。
次に、第５図に電気的腐蝕の例をボす。図においＣ，（
川λは金ｊ萬１寸捧（づ、（１１）は溶着ざ丁したセラ
ミックス（（１）、（１２）は没入したーｆψ１質をで
；ζむ面である。此の場合、矢印の方向に電流か浣Ｊ’
ｔて９１である金属母体の（１３）の部分が腐蝕される
。
川λは金ｊ萬１寸捧（づ、（１１）は溶着ざ丁したセラ
ミックス（（１）、（１２）は没入したーｆψ１質をで
；ζむ面である。此の場合、矢印の方向に電流か浣Ｊ’
ｔて９１である金属母体の（１３）の部分が腐蝕される
。
本発明は、以」ユの欠陥を除去して水蒸気の多い雰囲気
や面中ｅこても使用しえて、放射面に物質が固着しない
長波長赤外線放射体を提供するものである。
や面中ｅこても使用しえて、放射面に物質が固着しない
長波長赤外線放射体を提供するものである。
次やこ本発明の計則を実施例欠もって説明する。
実施例１れ
第６図に、アルミニウム又はアルミニウム会金基Ｈにジ
ルコニア（Ｚｒ０２）’ａ？ ９ Ｕ沙、ナタニア（’
Ｉ’１（Ｊ２檜１０％混合した粒径ｌＯμ〜３０μ程度
のセラミックス微粉体をプラズマ溶着し此を陽極として
電解することにより基ＪＪに痒するピンホール部分に酸
化液ｊ庚（γ・Ａｌ２（Ｊ８）を生成し、さらにフッ素
樹１財ディスパーンョン俗故を全面に塗布し乾燥、焼イ
ー１け後さらに仕」二層としてフッ素樹脂ディスパージ
ョンを塗布、焼イー１けた場合の断■詳細なボ丁。図に
おいて基材（１４）にセラミックス微粉末（１５）ｋ’
プラズマ溶着した場合は溶射被膜には無数の気孔が有り
その中には基材に遅するピンホール（１６）も多数存在
する。此に陽極酸化を行うとピンホールな通して電解液
か基材にＪ童し、その部分は酸化されてｒ−Ａｌ２Ｏ２
の被膜（１７１生する。
ルコニア（Ｚｒ０２）’ａ？ ９ Ｕ沙、ナタニア（’
Ｉ’１（Ｊ２檜１０％混合した粒径ｌＯμ〜３０μ程度
のセラミックス微粉体をプラズマ溶着し此を陽極として
電解することにより基ＪＪに痒するピンホール部分に酸
化液ｊ庚（γ・Ａｌ２（Ｊ８）を生成し、さらにフッ素
樹１財ディスパーンョン俗故を全面に塗布し乾燥、焼イ
ー１け後さらに仕」二層としてフッ素樹脂ディスパージ
ョンを塗布、焼イー１けた場合の断■詳細なボ丁。図に
おいて基材（１４）にセラミックス微粉末（１５）ｋ’
プラズマ溶着した場合は溶射被膜には無数の気孔が有り
その中には基材に遅するピンホール（１６）も多数存在
する。此に陽極酸化を行うとピンホールな通して電解液
か基材にＪ童し、その部分は酸化されてｒ−Ａｌ２Ｏ２
の被膜（１７１生する。
生成する酸化皮膜の厚さは２０ ｐ程度となるように電
流密艮、電解時間を制御する。この酸化被膜は極で硬く
、電気的絶縁性も良く無数の微孔を有している。次にフ
ッ素樹ｊ指の微粉末を適当な液体中に懸濁させたディス
パーンョン溶Ｉ＆を基イ′Ａｅこ塗イ１］′１−る。ｒ
？Ｊ面ばナラミックス浴着によるピンホール（１６八酸
化仮膜の微孔（＋８）ｔこよく浸透して焼（：Ｉけ後、
投錨効果により７）素樹脂被膜を強固に基材に固着させ
る。次いて仕−」二層を伏在、焼（＝１けする。
流密艮、電解時間を制御する。この酸化被膜は極で硬く
、電気的絶縁性も良く無数の微孔を有している。次にフ
ッ素樹ｊ指の微粉末を適当な液体中に懸濁させたディス
パーンョン溶Ｉ＆を基イ′Ａｅこ塗イ１］′１−る。ｒ
？Ｊ面ばナラミックス浴着によるピンホール（１６八酸
化仮膜の微孔（＋８）ｔこよく浸透して焼（：Ｉけ後、
投錨効果により７）素樹脂被膜を強固に基材に固着させ
る。次いて仕−」二層を伏在、焼（＝１けする。
かくして、１０ｇ程度のフン素樹脂板膜（１９）ｔこて
全１川を被覆する。
全１川を被覆する。
実施１り］２）。
第７図に、アルミニウム又はアルミニウム行金糸拐を１
易極として電解することにより２０ ／Ｉ程度のｊνさ
の酸化被膜（γ・Ａｌ２０８）を生成し、此の上にジル
コニア（Ｚｒ（υ２）’ｒ９０％、チタニア（ｌｌｌｊ
０２）を１０％混片した粒住１０μ〜３０ｐ稈１１のセ
ラミックス鰍粉をプラズマ溶着しさらにフッ素樹脂をプ
ライマー、仕上けと２回に分けて焼仁１けしだ場合の断
面計則を示す。
易極として電解することにより２０ ／Ｉ程度のｊνさ
の酸化被膜（γ・Ａｌ２０８）を生成し、此の上にジル
コニア（Ｚｒ（υ２）’ｒ９０％、チタニア（ｌｌｌｊ
０２）を１０％混片した粒住１０μ〜３０ｐ稈１１のセ
ラミックス鰍粉をプラズマ溶着しさらにフッ素樹脂をプ
ライマー、仕上けと２回に分けて焼仁１けしだ場合の断
面計則を示す。
基材（２０）に陽極酸化してｒ−Ａ１２０ｇの無数の気
孔（２１）を有する酸化被膜（乙ンを生成せしめ、次い
でセラミックス（β）をプラズマ溶着させる。
孔（２１）を有する酸化被膜（乙ンを生成せしめ、次い
でセラミックス（β）をプラズマ溶着させる。
さらにフッ素樹脂を２回に分けて焼付けて、鼓膜（次）
ｅこて全１川を被覆する。
ｅこて全１川を被覆する。
次に第８図ｔこ、陽極酸化による被膜の詳練１について
説明する。酸化被膜は（２７）と（２８）の２層に分れ
る。（２７）は活性層でありｒ−Ａ、Ｉ２Ｏ３より成り
０．１層程度の厚さであり緻密で極めて硬く電気的絶縁
性が大であり孔は無く基材との結合は強固である。（２
８ンは多孔層でありυ］μ程度の無数の微孔刀）はぼｊ
ｆｌＪ ｉ’こ直角に明いている。此の層の硬さは、ア
ルミニウムの硬度を８０とすると表面では１層０位であ
るか内側に進むに従って使くなり（２７）層においては
５０００位と７よる。（１）、（昂）層共にその線Ｉｈ
＃ ’ｊｅｔイ糸数は６〜９×ｌＯ／ｄｅｇであり、ｍ
ｊＭ セラミックスの７〜１ ｇ ｘ １ （Ｊ、／
’ ｄ留と近似してい乞此は溶着セラミックスの熱衝撃
ｅこよる剥離（・こ列しては極で有利である。アルミニ
ウム及Ｏ・会合基材の線膨張係数は２８Ｘ１０Ａｃｇで
ある。
説明する。酸化被膜は（２７）と（２８）の２層に分れ
る。（２７）は活性層でありｒ−Ａ、Ｉ２Ｏ３より成り
０．１層程度の厚さであり緻密で極めて硬く電気的絶縁
性が大であり孔は無く基材との結合は強固である。（２
８ンは多孔層でありυ］μ程度の無数の微孔刀）はぼｊ
ｆｌＪ ｉ’こ直角に明いている。此の層の硬さは、ア
ルミニウムの硬度を８０とすると表面では１層０位であ
るか内側に進むに従って使くなり（２７）層においては
５０００位と７よる。（１）、（昂）層共にその線Ｉｈ
＃ ’ｊｅｔイ糸数は６〜９×ｌＯ／ｄｅｇであり、ｍ
ｊＭ セラミックスの７〜１ ｇ ｘ １ （Ｊ、／
’ ｄ留と近似してい乞此は溶着セラミックスの熱衝撃
ｅこよる剥離（・こ列しては極で有利である。アルミニ
ウム及Ｏ・会合基材の線膨張係数は２８Ｘ１０Ａｃｇで
ある。
次に、セラミックス溶着層に７〕Ｘ ｈｌ ｌｌａを焼
伺けた理由を説明する。
伺けた理由を説明する。
セラミックス溶Ｍ層には、陽極酸化により基材に達する
気孔は存在し７よいわけであるかその表面には無数の凹
凸があり此に液又は液中物質か固着する傾向がある。故
に有機物がイτｊノａせす非混和性であるフッ素樹脂を
被覆して常にＩＷ潔に保つようにした。７ノ累樹脂ｅこ
４７ノ化エチレンを撰ひ、プライマーとしてリン酸又は
クロム酸水浴液を添加した７ノ累樹１１ｔＭディスパー
ジョンＷ＝ふと、連続使用にて２６０“Ｃの１１１１；
ｊ熱性を有する。
気孔は存在し７よいわけであるかその表面には無数の凹
凸があり此に液又は液中物質か固着する傾向がある。故
に有機物がイτｊノａせす非混和性であるフッ素樹脂を
被覆して常にＩＷ潔に保つようにした。７ノ累樹脂ｅこ
４７ノ化エチレンを撰ひ、プライマーとしてリン酸又は
クロム酸水浴液を添加した７ノ累樹１１ｔＭディスパー
ジョンＷ＝ふと、連続使用にて２６０“Ｃの１１１１；
ｊ熱性を有する。
次に最も重要なことは、本発明は長波長赤外線放射か目
的であるからセラミックス而より放射された長波長赤外
線を吸収ぜず良く透過する物質を被膜として撰定するこ
とである。
的であるからセラミックス而より放射された長波長赤外
線を吸収ぜず良く透過する物質を被膜として撰定するこ
とである。
コ（１） タｄ）に、フッ素樹脂（４フツ化エチレン）
を撰定した。
を撰定した。
第９図に各種の被覆物質について赤外線吸収スペクトル
をボす。図において斜線部分に相尚した赤外線は１汲収
される。故をこフッ素樹脂（４７）化エチレン）以外は
被覆イＡとしては不適当である。
をボす。図において斜線部分に相尚した赤外線は１汲収
される。故をこフッ素樹脂（４７）化エチレン）以外は
被覆イＡとしては不適当である。
次に第１ ＋）図は、セラミックスの表面１Ｍ度が２６
０ ”Ｃの場８ｔこおける長波長赤外線の放射 ４゜エ
ネルギー分布を示す。図において、 ピーク波長にＡ４ｎ原ンは５，４メＩであり、波長７８
μ以上の赤外線はフッ累樹脂被膜層ｔこ吸収さｚ′シて
熱となる。（Ｅ２の部分） 波長７８μより短い赤外線
は透過して長波長赤外線として有効に作用する。（Ｅｌ
の部分） 此の場合、 ＋３ｉ収される放射エネルギー（句は全放
射エネルギー（ＥＩ＋Ｅ２＋の約３４％であり、”＋（
６６％ンは透過する。従って実用」二は全く問題はない
。吸収された放射工不ル、キー（均は熱に変換されて被
加熱物をは接伝導により加熱することとなる。
０ ”Ｃの場８ｔこおける長波長赤外線の放射 ４゜エ
ネルギー分布を示す。図において、 ピーク波長にＡ４ｎ原ンは５，４メＩであり、波長７８
μ以上の赤外線はフッ累樹脂被膜層ｔこ吸収さｚ′シて
熱となる。（Ｅ２の部分） 波長７８μより短い赤外線
は透過して長波長赤外線として有効に作用する。（Ｅｌ
の部分） 此の場合、 ＋３ｉ収される放射エネルギー（句は全放
射エネルギー（ＥＩ＋Ｅ２＋の約３４％であり、”＋（
６６％ンは透過する。従って実用」二は全く問題はない
。吸収された放射工不ル、キー（均は熱に変換されて被
加熱物をは接伝導により加熱することとなる。
かくして本発明は、従来全く不＝１能であった水蒸気の
多い算囲気又は面（水又は油等）と接する状態において
長波長赤外線の放ＩＡ、Ｉを’Ｎｆ ｒｉｌとしただけ
でなく、放射面のｌＩｊ染を取り除いて熱交換器、食品
機器（フライヤー、 天ブラ鍋、ホットプレート等）に
広く利用の途をＪイ」＜ものである。
多い算囲気又は面（水又は油等）と接する状態において
長波長赤外線の放ＩＡ、Ｉを’Ｎｆ ｒｉｌとしただけ
でなく、放射面のｌＩｊ染を取り除いて熱交換器、食品
機器（フライヤー、 天ブラ鍋、ホットプレート等）に
広く利用の途をＪイ」＜ものである。
第１図は、従来の長波畏赤外線を放射するセラミックス
を金属又は素焼にプラズマ溶射した＋２．ｊ行の断面を
ノＪ（１−０ 第２図は、糸焼にイツトリア等をＩＩ！１１浴したンル
コニア粉末を特殊溶液にて混合したベーストをブイ１）
して７江気〃１で高ＩＭｌこて焼（；Ｉけた従来の放射
体の断ｉ、ｆｌ＋を示す。 第３図は、第２図ｔこおける表１川の部分を拡大してｊ
トす。 ７・・Ｉ」体の表１ｎ目こ焼仁１けりれた放射層８・・
放射層に発生したき裂 ９・・素わム痔の母悸 第４図は、第３図の平面図である。 第５図は、電気的腐蝕の例を示す。 第６図は、不発明ｔこよる実施例１）をボす。 第７図は、本発明による実施例２）ラボす。 第８図は、陽極酸化による被膜の計則な示す。 乙・・母捧金属 あ・・溶着したセラミックス 四・・
微孔 第９図は、各種の被膜物質の赤外線吸収スペクトルを示
す。図において、斜線の部分は吸収される放射エネルギ
ーをボず。 ａ・・７ノ素樹脂 ｂ・・ナイロン−６０・・メラミン
槓Ｊ’１ｌｔｆ （１・・エポキシｇＪ ｌｌ＝Ｃ・・
３χカラス板とアクリル（及 第１０図は、セラミックスの表面温良が２６０°Ｃの場
合の長波長赤外線エネルギー分布と、７〕素樹脂被膜に
よる放射エネルギーの透過部分（１！４）と吸収部分（
１ωとをボす。 Ｅｌ・・透過する放射エネルギー Ｅ２・・１吸収される放射エネルギー 第 Ｆ 辺 １１□ 〜顧″“°− ←破裁（ｃり一 ０−１− 手続補正書 昭和５９年３月８１ヨ 特許庁長官 若杉和夫 殿 １６巾件の表示 昭和５８年特許願第２２３６９０号２
、発明の名称 セラミックスをブラスマ溶射した長波長
赤外線放射体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 愛知県名古屋市千種区高見 ５、補正の対象 図面の第８図、第９図 ６、補正の内容 図面の第８図、６１吾９図を別紙の通り袖Ｊ−Ｅする第
３０
を金属又は素焼にプラズマ溶射した＋２．ｊ行の断面を
ノＪ（１−０ 第２図は、糸焼にイツトリア等をＩＩ！１１浴したンル
コニア粉末を特殊溶液にて混合したベーストをブイ１）
して７江気〃１で高ＩＭｌこて焼（；Ｉけた従来の放射
体の断ｉ、ｆｌ＋を示す。 第３図は、第２図ｔこおける表１川の部分を拡大してｊ
トす。 ７・・Ｉ」体の表１ｎ目こ焼仁１けりれた放射層８・・
放射層に発生したき裂 ９・・素わム痔の母悸 第４図は、第３図の平面図である。 第５図は、電気的腐蝕の例を示す。 第６図は、不発明ｔこよる実施例１）をボす。 第７図は、本発明による実施例２）ラボす。 第８図は、陽極酸化による被膜の計則な示す。 乙・・母捧金属 あ・・溶着したセラミックス 四・・
微孔 第９図は、各種の被膜物質の赤外線吸収スペクトルを示
す。図において、斜線の部分は吸収される放射エネルギ
ーをボず。 ａ・・７ノ素樹脂 ｂ・・ナイロン−６０・・メラミン
槓Ｊ’１ｌｔｆ （１・・エポキシｇＪ ｌｌ＝Ｃ・・
３χカラス板とアクリル（及 第１０図は、セラミックスの表面温良が２６０°Ｃの場
合の長波長赤外線エネルギー分布と、７〕素樹脂被膜に
よる放射エネルギーの透過部分（１！４）と吸収部分（
１ωとをボす。 Ｅｌ・・透過する放射エネルギー Ｅ２・・１吸収される放射エネルギー 第 Ｆ 辺 １１□ 〜顧″“°− ←破裁（ｃり一 ０−１− 手続補正書 昭和５９年３月８１ヨ 特許庁長官 若杉和夫 殿 １６巾件の表示 昭和５８年特許願第２２３６９０号２
、発明の名称 セラミックスをブラスマ溶射した長波長
赤外線放射体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 愛知県名古屋市千種区高見 ５、補正の対象 図面の第８図、第９図 ６、補正の内容 図面の第８図、６１吾９図を別紙の通り袖Ｊ−Ｅする第
３０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＩＪ、アルミニクム又ｔよアルミニウム合金基材にジル
コニア（ＺｒＯ２）ヲ王１本としたセラミックス微粉末
をプラズマ溶着し、此を陽極として電解することにより
プラズマ溶着により発生した」ｌ（イわ・こ判するピン
ホール部分に酸化被膜（１′・Ａ１２（’、）ａ）を生
成させ、さらｅこフッ素樹脂を全表面（・こ焼付けする
ことを特徴とするセラミックスをプラズマ溶着した長波
長赤外線放射体。 ２）、アルミニウム又はアルミニウム合金基材を陽極と
して電解することにより酸化被膜（ｊ−Ａｌ２Ｏ２）を
生成せしめ、此の上にジルコニア（Ｚｒ（ｋ）を主体と
したセラミックス微粉末をプラズマ溶着し、さらｔこフ
ッ素樹脂を全表面に焼イ１けすることを特徴とするセラ
ミックスをプラズマ溶着した長波長赤外線放射体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22369083A JPS60116757A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22369083A JPS60116757A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60116757A true JPS60116757A (ja) | 1985-06-24 |
Family
ID=16802116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22369083A Pending JPS60116757A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | セラミックスをプラズマ溶射した長波長赤外線放射体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60116757A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0269049A2 (de) * | 1986-11-24 | 1988-06-01 | Plasmainvent AG | Verfahren zum Glätten einer Spritzschicht und geglättete Spritzschicht |
| JPH02155186A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-14 | Fujikura Ltd | 遠赤外線放射体 |
| JPH02177286A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Fujikura Ltd | 遠赤外線放射材の製造方法 |
| CN103074660A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-01 | 长安大学 | 铝及铝合金表面ZrO2/Al2O3复合膜的制备方法 |
| CN103911567A (zh) * | 2014-04-16 | 2014-07-09 | 山东理工大学 | 一种抛丸—阳极氧化复合法制备铝合金抗粘附表面的方法 |
-
1983
- 1983-11-28 JP JP22369083A patent/JPS60116757A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0269049A2 (de) * | 1986-11-24 | 1988-06-01 | Plasmainvent AG | Verfahren zum Glätten einer Spritzschicht und geglättete Spritzschicht |
| EP0269049A3 (de) * | 1986-11-24 | 1989-10-18 | Plasmainvent AG | Verfahren zum Glätten einer Spritzschicht und geglättete Spritzschicht |
| JPH02155186A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-14 | Fujikura Ltd | 遠赤外線放射体 |
| JPH02177286A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Fujikura Ltd | 遠赤外線放射材の製造方法 |
| CN103074660A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-01 | 长安大学 | 铝及铝合金表面ZrO2/Al2O3复合膜的制备方法 |
| CN103074660B (zh) * | 2013-01-30 | 2015-08-19 | 长安大学 | 铝及铝合金表面ZrO2/Al2O3复合膜的制备方法 |
| CN103911567A (zh) * | 2014-04-16 | 2014-07-09 | 山东理工大学 | 一种抛丸—阳极氧化复合法制备铝合金抗粘附表面的方法 |
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