JPS60115592A - ペンタメチルシクロトリシロキサンの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はペンタメチルシクロトリシロキサンの新規な製
造方法に関するものである。

ペンタメチルシクロトリシロキサンはシリコーンゴム弾
性体の累原料とされるものであり、これは分子鎖末端に
不飽和結合を有するオルガノボリヅロキサンＣ二触媒を
用いて付加反応させ、このようにして得られた分子鎖両
末端にペンタメチルトリシグロシロキサン環を有するオ
ルガノポリシロキサンは触媒を用いてこのりグロ環を開
環重合させること（二よって容易にシリコーンゴム弾性
体となる。

そして、このペンタメチルシクロトリシロキサンは通常
はジメチルジグロ口νランを加水分解することによって
得られるボリシａキサンを蒸留することによって生産さ
れているが−これ（二は反応収率が低いということから
これを直接合成する方法がめられており、これｇ二つい
てはジグミルシランと１．３−ジヒドロキシ−ジシロキ
サンとをアミン化合物などの酸受容体の存在下Ｉ：反応
させる方法←特公昭４３−１４７２０号公報診照ンが知
られている。しかし、この方法は副生する塩酸塩を除去
するための沢過が必要とされるほか、これが低温反応と
されるためＣ二冷却が必要で操作が煩雑であるという不
利があり、これにはまた反応系に残存″１−る塩酸塩や
辱料としてのクロロシランによってペンタメチルシクσ
トリジａキサンが分解されるためＣ二数率が極めて低い
という欠点がある。

本発明はこのような不利を解決したペンタメチルシグロ
トリシロキサンの製造方法に関スルモノで−これは一般
式 に冒二Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基。

Ｒ−Ｒは水素原子または炭素数１〜４のアルキル基ンで
示されるアルケニルオキシシランと式０式％ で示される１、１，３，３−テトラメチル−１゜３−ジ
ヒドロキリージリロキサンとを反応させることを特徴と
するものである。

これを説明すると１本発明者らはペンダメチルシグロト
リシロキサンの合成方法について種々検討した結果、メ
チルジアルケニルオキシシランが１．１，３，３−テト
ラメチル−１，３−ジヒドロキリ−ジシランと容易に閉
環反応してペンタメチルシクロト＋Ｊｖａキチンを与え
ることを見出すと共框二、これについては反応系が中性
であるため目■」物が分解ぜず一安定直二単離稍裂でき
ることから、公知方法にくらべて高い収率で目的物を得
ることができることを確認して本発明を完成させた。

本発明の方法で始発材とされるアルケニルオキシシラン
は一般式 で示されるものであり、このＲとしてはメチル基、エチ
ル基、グロビル基、ブチル基が−またＲ２．Ｒ３は水素
原子またはメチル基、エチル基。

グロビル基−ブチル基から選択されるものであって、こ
れｅ二は ）１−８１（０−０＝ＯＨ）　＋　Ｈ８１（０−０＝Ｏ
Ｈ）　。

２　２　２　２ ＯＨ３０Ｈ２０Ｈ３ Ｈ−８ｉ　（０−０＝　０ＨＯＨ３）２などが例示され
る。

本発明の方法はこのアルケニルオキシシランと１．１，
３．３−テトラメチル−１，３−ジヒドロキシ−ジシロ
キサンとを反応させるものであり。

これはアルケニルオキ）／シラ２１モルに対し１゜１．
３．３−テトラメチルージヒト°ロキシーｖｖロキサン
を０．８〜１．２モルの範囲で反応させることがよく、
これにはこのジシロキサンが結晶であることからこれを
溶媒中ｇ二分散あるいは溶解させて反応させることがよ
い。この溶媒としては、トルエン−キシレン−ｎ−ヘキ
サンなどの炭化水ｇ系溶媒、クロロホルムー塩化メチレ
ン、四塩化炭素などの塩素系溶媒、エチルエーテル、ブ
チルエーテルなどσ）エーテル系溶媒を使用すればよく
。

これらは当該ジシロキサン１００重量部に対し５０〜１
０００重量部、好ましくは１００〜５００重量部とすれ
ばよい。

この反応は当該ジシロキサンを上記した溶媒中に分散あ
るいは溶解させたのち、こ＼にアルケニルオキシシラン
をン゛−下することによって進行する。

この反応は一１θ℃以下では反応が極端Ｃ遅くなり、８
０℃以上とすると副生成物が多くなるので一１０℃〜８
０℃の範囲、好ましくは０〜５０℃の範囲で行なわせる
ことがよいが、この反応が発熱反応でアルケニルオキシ
シランの滴下と同時に発熱するので、これには特に加熱
、冷却をする必要はなしζ。また、この反応は本質的に
蕪触媒でも進行するので、／ｌ？に触媒を添加する必要
はないが。

反応を早めるためには１，１，３．３−テトラメチル−
ジヒドロキリ−ジシロキサンと溶媒との混合物中ｇ二鉛
−２−エチルオグトエート、ジブチルすずジオクトエー
トージブチルすずジアセテート−ジブチルすずジラウレ
ート、鉄−２エチル−ヘキソエート、コバルト−２−エ
チルヘキソエート。

カグリル酸第１すす、ナフテン酸すず、ブチル酸すず、
ナフテン酸チタン、ナフテン酸コバルト−ステアリン酸
亜鉛などの有機カルボン酸の金鵬塩。

テトラブチルチタネート−テトラ−２−エチルへキシル
チタネート−トリーメタノールアミンチタネートなどの
有機チタン酸エステル、オルガノシロキシチタン、β−
カルボニルチタンなどの有機チタン化合物−アルコキシ
アルミニウム化合物。

３−アミノグロビルトリエトキシシランーへキシルアミ
ン−リン酸ドデシルアミンなどのアミン化合物およびそ
の塩、ベンジルトリエチルアンモニウムアセテートなど
の第４級アンモニウム堝、酢酸カリウム、酢酸ナトリウ
ム−しゅう酸リチウム口キリアミン、ジエチルヒドロキ
リアミンなどのＯＢ。

一８ｉ−ＯＨ３ 夏 　Ｈ３ などのグアニジン化合物およびグアニジン基含有シラン
もしくはりロキサンなどで例示される触媒を添加しても
よい。なお、この反応は次式で進行するものと推足され
るが、こ＼ｌ二副生するケトン化合物は目的物であるペ
ンダメチルジグａトリシロキチンとは反応しないので、
これは反応後減圧下または常圧下で蒸溜除去し、ついで
目的物を蒸溜で単離すればよい。

つぎｔ二本発明方法の実施例をあげる。

実施例工。

攪拌装＃一温度計を収りつけた２　０００．０．の硝子
與反応器に、１，１，３．３−テトラメチル−１，３−
ジヒドａキシ−ジシロキサン３０９を仕込み、塩化メチ
レン３０．９を加えてこれを塩化メチレン中区二分散さ
せたのち、攪拌しながらそれにメチルジイソグ口ペニル
オキシνラン２８．６．Ｖを３０分間で滴下したところ
一分散状態（二あった１、１，３．３−テトラメチル−
１，３−ジヒドロキシ−ジシロキサンは部下終了時ｇ二
は反応浴解し１反応性は透明な液体となり１滴士前１８
℃であった反応性の温度は３５℃にまで上昇した。

滴下終了後−３５℃で１時間熟成させ、ついでこび）反
応で副生じたアセトンと塩化メチレンを減圧下でストリ
ップして除去してから減圧下で蒸溜したところ、ペンタ
メチルシクロトリｖｃ１キチン１６．０ｇが得らＫた。

なお、この収率は４２．６％であり−このものは沸点が
３２℃／　２５　ｍｎ　Ｈ、ｌｉｔ　−屈折率は１．３
８０７であった。

実施例２゜ 実施例１におけるメチルジイソプロペニルオキシシラン
σ】代わりに式 ％式％ して実施例１と同様に処理したところ一ペンタメチルシ
クロトリシロキサン１４．５ｇが得られた。

実施例３゜ 実施例１におけるメチルジイソプロペニルオキシシラン
σ）代わりに式 ％式％ 使用し、塩化メチレンの代わりにエチルエーテル３（ｌ
を使用したほかは実施例１と同様（二処理しタトコロ、
ヘンタメチルシクロトリシａキサン１５．３ｇが得られ
た。

比較例１゜ 実施例１で使用した反応器にトリエチルアミン１９．３
．ｌｉｔとエチルエーテル１２９．ｌｉｔを仕込み、こ
れ２ニ工チルエーテル３９ｇに１．１，３，３−テトラ
メチル−１，３−ジヒドロキリ−ジシロキサン１６．６
ｇを溶解した溶液と、エチルエーテル３９Ｉとメチルジ
クロロシラン１１．、５　ｇとのン昆合浴欣とをそれぞ
れ別の滴−トロートを用いて別の滴下口から同時【二同
量づつ３０分間で間下し、この間反応温度は０〜５℃に
保持した。

滴下終了後、その温度で１時間熟成し、ついで生成した
塩酸塩をＤコ別し、減圧下（ニエチルエーテルを除去し
てから減圧蒸貿したところ、ペンタメチルシクロトリシ
ロキサンが得られたが、これは収１）１が２．５，１ｉ
ｌ−収率も６．７％であった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 に−にＲ１は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２、Ｒ３は
   水素原子または炭素数１〜４のアルキル基） で示されるアルケニルオキシシランと、ＨＯ−８ｉ−０
   −８１−ＯＨ １ ０ＨＯＨ で示される１、ｉ、３．３−テトラメチル−１，３−ジ
   ヒドロキシ−ジシロキサンとを反応させることを特徴と
   するペンタメチ・ルシグロトリリロキサンの８１ｍ方法
   。