JPS60113245A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS60113245A JPS60113245A JP22073683A JP22073683A JPS60113245A JP S60113245 A JPS60113245 A JP S60113245A JP 22073683 A JP22073683 A JP 22073683A JP 22073683 A JP22073683 A JP 22073683A JP S60113245 A JPS60113245 A JP S60113245A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylic resin
- blocking isocyanate
- binder
- parts
- glass transition
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0546—Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
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- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明Ｆｉ寛子写真感光体に関する。
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの柚類に応じて棟々の構成を
とる。そして、電子写真感光体の代表的なものとして、
支持体上に光導電層が形成されている感光体および表面
に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。
用される電子写真プロセスの柚類に応じて棟々の構成を
とる。そして、電子写真感光体の代表的なものとして、
支持体上に光導電層が形成されている感光体および表面
に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。
支持体と光導電層から構成される感光体は、最も一般的
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電、画像側光およ
び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いら
れる。また、絶縁層を備えた感光体の絶縁層は、光導電
層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰特性の改
善、または、特定の電子写真プロセスに適用されるため
、等の目的のために設けられるこのような絶縁層を有す
る感光体または、絶縁層を有する感光体を用いる電子写
真プロセスの代表的な例は、例えば、米国特許第２８６
００４８号公報、特公昭４１−１６４２９号公報、特公
昭３８−１５４４６号公報、特公昭４６−３７１３号公
報、特公昭４２−２３９１０号公報、特公昭４５−２４
７４８号公報、特公昭４２−１９７４７号公報、特公昭
！１６−４１２１号公報、などに記載されている。
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電、画像側光およ
び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いら
れる。また、絶縁層を備えた感光体の絶縁層は、光導電
層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰特性の改
善、または、特定の電子写真プロセスに適用されるため
、等の目的のために設けられるこのような絶縁層を有す
る感光体または、絶縁層を有する感光体を用いる電子写
真プロセスの代表的な例は、例えば、米国特許第２８６
００４８号公報、特公昭４１−１６４２９号公報、特公
昭３８−１５４４６号公報、特公昭４６−３７１３号公
報、特公昭４２−２３９１０号公報、特公昭４５−２４
７４８号公報、特公昭４２−１９７４７号公報、特公昭
！１６−４１２１号公報、などに記載されている。
電子写真感光体は、当然のことであるが、適用される電
子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、光学特
性を備えていることが要求される。更には耐久性、耐湿
度特性が良好であり、電位の立ち上がり（立ち下がり〕
がないことが要求される。
子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、光学特
性を備えていることが要求される。更には耐久性、耐湿
度特性が良好であり、電位の立ち上がり（立ち下がり〕
がないことが要求される。
さらに電子写真感光体は生産性にも優れていることが望
ましい。生産性は電子写真感光体の製造時において、特
殊な製法を用いることなく製造できることが好都合であ
る。樹脂液の塗布に際しては、一般的な溶剤を用い、抜
処理も簡便であることが望ましい。
ましい。生産性は電子写真感光体の製造時において、特
殊な製法を用いることなく製造できることが好都合であ
る。樹脂液の塗布に際しては、一般的な溶剤を用い、抜
処理も簡便であることが望ましい。
また、光導電層の耐溶剤性も重要な性質である。すなわ
ち、絶縁層、保護層等を積層して設ける場合、耐溶剤性
のある光導電連用いることにより、次に積層する材料の
選択範囲が広くなるという利点がある。逆に光導電層の
耐溶剤性が不十分な場合は次の積層する材料が限定され
、トナーのクリーニング性や耐久性等の点で十分な感光
体を作ることが難しい。
ち、絶縁層、保護層等を積層して設ける場合、耐溶剤性
のある光導電連用いることにより、次に積層する材料の
選択範囲が広くなるという利点がある。逆に光導電層の
耐溶剤性が不十分な場合は次の積層する材料が限定され
、トナーのクリーニング性や耐久性等の点で十分な感光
体を作ることが難しい。
本発明は、耐久性、耐湿度特性が良好であり、電位の立
ち上がり（立ち下がり）がなく、耐溶剤性に優れた感光
層を提供することを主たる目的とするものである。
ち上がり（立ち下がり）がなく、耐溶剤性に優れた感光
層を提供することを主たる目的とするものである。
本発明の構成は、光導電材料及び結着剤から成る層を有
する電子写真感光体において、結着剤である樹脂が、ガ
ラス転移点１５〜７０℃、酸価１０〜４０、数平均分子
量５０００以上のアクリル樹脂とブロックイソシアネー
トから成り、該アクリル樹脂とブロックイソ７アネート
の混合比率がアクリル樹脂１００重量部に対してブロッ
クイソ７アネート５〜１００重量部であることを特徴と
する電子写真感光体からなる。
する電子写真感光体において、結着剤である樹脂が、ガ
ラス転移点１５〜７０℃、酸価１０〜４０、数平均分子
量５０００以上のアクリル樹脂とブロックイソシアネー
トから成り、該アクリル樹脂とブロックイソ７アネート
の混合比率がアクリル樹脂１００重量部に対してブロッ
クイソ７アネート５〜１００重量部であることを特徴と
する電子写真感光体からなる。
本発明の構成要件を詳しく説明すると、アクリル樹脂と
してはガラス転移点１５〜７０℃、酸価１０〜４０、数
平均分子量５０００以上のものが好ましい。
してはガラス転移点１５〜７０℃、酸価１０〜４０、数
平均分子量５０００以上のものが好ましい。
ガラス転移点は感光層の強度および電位の立ち上がり（
立ち下がり）に影響する。ガラス転移温度が低いと結着
剤樹脂の結晶化が起こり難く、セグメントの運動により
極性基によるトラップレにルが浅くなる。この結果、ト
ラップに基づく電位の立ち上がル（立ち下が９）が減少
する。しかしながら、ガラス転移点が低いと感光層の機
械的強度が弱くなる。この友め、ガラス転移点は１５〜
７０℃が好適である。
立ち下がり）に影響する。ガラス転移温度が低いと結着
剤樹脂の結晶化が起こり難く、セグメントの運動により
極性基によるトラップレにルが浅くなる。この結果、ト
ラップに基づく電位の立ち上がル（立ち下が９）が減少
する。しかしながら、ガラス転移点が低いと感光層の機
械的強度が弱くなる。この友め、ガラス転移点は１５〜
７０℃が好適である。
また、カルボン酸が光導電体の化学量論的な欠陥に吸着
することにより、光導電体のトラップを補償すると共に
湿度特性が向上する。カルボン酸の酸価は１０〜３０が
良好であるが酸価が１０以下では顔料分散性が悪く、ま
た、化学量論的な欠陥の補償が不十分であり、湿度特性
が悪い。酸価が４０以上では樹脂そのものの湿度特性が
低下する。この光導電体の吸着による表面被覆性は低分
子量のものの方が優れておシ、一般には、数平均分子量
で５０００〜３００００、好適に１１５０００〜２００
００である。分子量が２０００以下でをま光導電体の分
散−性に問題があり、５００００以上でを１光導電体の
表面被覆性に問題がある。
することにより、光導電体のトラップを補償すると共に
湿度特性が向上する。カルボン酸の酸価は１０〜３０が
良好であるが酸価が１０以下では顔料分散性が悪く、ま
た、化学量論的な欠陥の補償が不十分であり、湿度特性
が悪い。酸価が４０以上では樹脂そのものの湿度特性が
低下する。この光導電体の吸着による表面被覆性は低分
子量のものの方が優れておシ、一般には、数平均分子量
で５０００〜３００００、好適に１１５０００〜２００
００である。分子量が２０００以下でをま光導電体の分
散−性に問題があり、５００００以上でを１光導電体の
表面被覆性に問題がある。
本発明においては感光層の耐溶剤性を向上させる目的で
該アクリル樹脂の架橋剤としてブロックイソ７アネート
ヲ用いるわ ブロックイン７アネートとしては、インシアネートラレ
ポリマーを芳香族第２アミン、第３級アルコール、アミ
ド、ラクタム、フェノール、オキシム等でマスキングし
たものを使用する。
該アクリル樹脂の架橋剤としてブロックイソ７アネート
ヲ用いるわ ブロックイン７アネートとしては、インシアネートラレ
ポリマーを芳香族第２アミン、第３級アルコール、アミ
ド、ラクタム、フェノール、オキシム等でマスキングし
たものを使用する。
代表的なインシアネートゾレポリマーめ構造式を次に示
す。 ゛ １） インシアネートプレポリマーをマスキングしたものは加
熱によｊｐ ＮＣＯ基が再生し、再生体は活性水素化合
物と反応する。すなわち、ブロックイソシアオートは加
熱によりＮＣＯ基が再生し、再生したＮ６０基がアクリ
ル樹脂のカルボン酸と反応し、実用的な耐溶剤性をもち
、機械的強度、耐湿性にすぐれた塗膜、を形成する。ま
た、硬化温度を下げるため、必要に応じて適当なアルカ
リ触媒を添加してもよい。
す。 ゛ １） インシアネートプレポリマーをマスキングしたものは加
熱によｊｐ ＮＣＯ基が再生し、再生体は活性水素化合
物と反応する。すなわち、ブロックイソシアオートは加
熱によりＮＣＯ基が再生し、再生したＮ６０基がアクリ
ル樹脂のカルボン酸と反応し、実用的な耐溶剤性をもち
、機械的強度、耐湿性にすぐれた塗膜、を形成する。ま
た、硬化温度を下げるため、必要に応じて適当なアルカ
リ触媒を添加してもよい。
アクリル樹脂とブロックイソシアオートの混合比率はア
クリル樹脂１００重１部に対してブロックイソシアネー
ト５〜１ｏｏｍ１部が好適でアル。ブロックインシアネ
ートが少ない感光層の耐溶剤性が不十分である。また、
ブロックインシアネートが多いと電位の立ち上がり（立
ち下がり）が大きくなる。光導電材料に対する結着剤の
割合は光導電材料１００部（重量）に対して結着剤樹脂
１〜１００部、好適には３〜３０部で使用するのが望ま
しい。
クリル樹脂１００重１部に対してブロックイソシアネー
ト５〜１ｏｏｍ１部が好適でアル。ブロックインシアネ
ートが少ない感光層の耐溶剤性が不十分である。また、
ブロックインシアネートが多いと電位の立ち上がり（立
ち下がり）が大きくなる。光導電材料に対する結着剤の
割合は光導電材料１００部（重量）に対して結着剤樹脂
１〜１００部、好適には３〜３０部で使用するのが望ま
しい。
光導電層の厚さは１〜１００μ、特には１０〜５０μが
好適である。
好適である。
光導電材料としてはＺｎＯ１ＣｄＳ、 Ｃｄ８ｅ、 Ｂ
ｅ、 ５ｅＴｅ。
ｅ、 ５ｅＴｅ。
５ｅＡｓなどの無機材料、フタロシアニン、ポリビニル
カルバゾル、アントラセン、ポリビニルピレンなどの有
機材料が用いられる。
カルバゾル、アントラセン、ポリビニルピレンなどの有
機材料が用いられる。
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶縁
層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プロ
セスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定
される。
的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶縁
層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プロ
セスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定
される。
通常、絶縁層の厚さは５〜７０μ、特には１０〜５０μ
に設定される。
に設定される。
次に本発明に適するアクリル樹脂の代表例を示す。
樹脂例 １
スチレン１００部、メタアクリル酸ｎ−ブチル１８０部
、メタアクリル酸エチル１１０部、メタアクリル酸１０
部、トルエン６００部、過酸化ベンゾイル４部を不活性
ガス存在下中で溶液重合を行なった。この結果、分子量
１５０００．７ｇ４６℃、酸価１６のアクリル樹脂が得
られた。
、メタアクリル酸エチル１１０部、メタアクリル酸１０
部、トルエン６００部、過酸化ベンゾイル４部を不活性
ガス存在下中で溶液重合を行なった。この結果、分子量
１５０００．７ｇ４６℃、酸価１６のアクリル樹脂が得
られた。
樹脂例 ２〜５
樹脂例１と同様に１．て次の樹脂の合成を行なった。
モンマー略記号
Ｓｔ・・・ヌ、チレン
ｎ−ＢＭＡ・−・メタアクリル酸ｎ−ブチルエステルＥ
ＭＡ・・・メタアクリル酸エチルエステルＭＭＡ・・・
メタアクリル酸メチルエステルＭＡ（Ａ）・・・メタア
クリル酸 ｒ（Ａ）・・・イタコン酸 Ｍ（Ａ）・・・マレイン酸 合成の結果、分子量、酸価、Ｔｇは次の通りであった。
ＭＡ・・・メタアクリル酸エチルエステルＭＭＡ・・・
メタアクリル酸メチルエステルＭＡ（Ａ）・・・メタア
クリル酸 ｒ（Ａ）・・・イタコン酸 Ｍ（Ａ）・・・マレイン酸 合成の結果、分子量、酸価、Ｔｇは次の通りであった。
実施例 １
Ｃ６０粉体１００部（重量部、以下同じ）に対して結着
剤として樹脂例１の樹脂２０部、ブロックイソシアネー
ト（商品名：Ｉ）０２９７１、日本ポリウレタン■Ｈ）
６部、希釈剤としてトルエンを適量加え、よく攪拌し九
後８０μｍロールギャップのロール建ル装置で１回通過
させ、Ｃ（ｉＢ粉体を良く分散させる。この塗料をトル
エンで希釈し３００ ｃｐｓに粘度調整し、この中ＫＩ
Ｌドラムを浸漬して、１０ ｃｍ／ｖＱｉｎの速度で引
き上けた。
剤として樹脂例１の樹脂２０部、ブロックイソシアネー
ト（商品名：Ｉ）０２９７１、日本ポリウレタン■Ｈ）
６部、希釈剤としてトルエンを適量加え、よく攪拌し九
後８０μｍロールギャップのロール建ル装置で１回通過
させ、Ｃ（ｉＢ粉体を良く分散させる。この塗料をトル
エンで希釈し３００ ｃｐｓに粘度調整し、この中ＫＩ
Ｌドラムを浸漬して、１０ ｃｍ／ｖＱｉｎの速度で引
き上けた。
これを１５００３０分間の乾燥硬化を行い、膜厚４０μ
ｍの感光層を得た。
ｍの感光層を得た。
次に解砕したテフロン微粉末（商品名ニルブロンＬ２、
ダイキン工業■製）２０部、塩ビー酢ビ共重合体（商品
名：ベークライトＶＭＣ）Ｔ、 ＵＣＣ製）１００部、
適量のメチルエチルケトン溶剤からなるテフロン分散溶
液で浸漬塗血抜、ａｏｃｚ。
ダイキン工業■製）２０部、塩ビー酢ビ共重合体（商品
名：ベークライトＶＭＣ）Ｔ、 ＵＣＣ製）１００部、
適量のメチルエチルケトン溶剤からなるテフロン分散溶
液で浸漬塗血抜、ａｏｃｚ。
分間の乾燥を行ない、１５μｍの絶縁層を形成した。
比較例 １
結着剤として固形分３０％の環化ブタジェンゴム（商品
名：ＣＢＲ，日本合成ゴム■製）４０部、開始剤として
０．２５部の２，６−ビス（４′−アジドペンツアルコ
シクロヘキサノンを加えたこと、および８０℃５分間の
予備乾燥後１８０℃３０分間の硬化処理を行なったこと
を除いて実施例 ２〜４ アクリル樹脂、ブロックイソシアネートとして次のもの
を用いたことを除いては実施例１と同様にして得られた
感光体。
名：ＣＢＲ，日本合成ゴム■製）４０部、開始剤として
０．２５部の２，６−ビス（４′−アジドペンツアルコ
シクロヘキサノンを加えたこと、および８０℃５分間の
予備乾燥後１８０℃３０分間の硬化処理を行なったこと
を除いて実施例 ２〜４ アクリル樹脂、ブロックイソシアネートとして次のもの
を用いたことを除いては実施例１と同様にして得られた
感光体。
比較例 ２
アクリル樹脂として樹脂例４のものを用いたことを除い
ては実施例１と同様にして得られた感光体。
ては実施例１と同様にして得られた感光体。
比較例 ５
結着剤としてブチラール樹脂（商品名：エスレツクＢＬ
−１、種水化学工業■製）の１５９６エタノール溶液を
７０部加えたこと及び乾燥を１００℃５０分間行なった
ことを除いては実施例１と同様にして得られた感光体。
−１、種水化学工業■製）の１５９６エタノール溶液を
７０部加えたこと及び乾燥を１００℃５０分間行なった
ことを除いては実施例１と同様にして得られた感光体。
これ尋の感光体に対１−て前露光、前除電、−次帯電、
二次除電／画像露光、全面露光の一連のプロセスで表面
電位の測定を行なった。ｉた、この感光ドラムを複写機
にて３０秒間欠３万枚の耐久テストを行なった。これを
シリカゲル入りのアルミパックに封入し、１晩放電後、
暗所にて複写機内に設置し、１枚目及び５００枚目表面
電位を測定した。この結果を次表に示す。
二次除電／画像露光、全面露光の一連のプロセスで表面
電位の測定を行なった。ｉた、この感光ドラムを複写機
にて３０秒間欠３万枚の耐久テストを行なった。これを
シリカゲル入りのアルミパックに封入し、１晩放電後、
暗所にて複写機内に設置し、１枚目及び５００枚目表面
電位を測定した。この結果を次表に示す。
次に前記３万枚耐久を行なった感光体を水の中に一晩浸
漬した後、表面の水をふき取り、電位測定を行なった。
漬した後、表面の水をふき取り、電位測定を行なった。
この結果を次表に示す。
本発明によれば感光層の耐溶剤性に優れることから感光
層上に絶縁層を設ける場合、材料の選択範囲が広くなる
。層構成を単純化することが出来る等の利点がある。
層上に絶縁層を設ける場合、材料の選択範囲が広くなる
。層構成を単純化することが出来る等の利点がある。
さらに、電位の立ち上が９（立ち下がり）が少なく、耐
久性、湿度特性の良好な優れた電子写真特性を有してφ
る。
久性、湿度特性の良好な優れた電子写真特性を有してφ
る。
Claims (1)
- （１） 光導電材料及び結着剤から成る層を有する電子
写真感光体において、結着剤である樹脂が、ガラス転移
点１５〜７０℃、酸価１０〜４０、数平均分子量５００
０以上のアクリル樹脂とブロックイックアネートから成
り、骸アクリル樹脂とブロックイソシアネートの混合比
率がアクリル樹脂１００重量部に対してブロックイソシ
アネート５〜１００重量部であることを特徴とする電子
写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22073683A JPS60113245A (ja) | 1983-11-25 | 1983-11-25 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22073683A JPS60113245A (ja) | 1983-11-25 | 1983-11-25 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60113245A true JPS60113245A (ja) | 1985-06-19 |
Family
ID=16755719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22073683A Pending JPS60113245A (ja) | 1983-11-25 | 1983-11-25 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60113245A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102573A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1983
- 1983-11-25 JP JP22073683A patent/JPS60113245A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102573A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光体 |
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