JPS60109324U

JPS60109324U - 乾燥処理装置

Info

Publication number: JPS60109324U
Application number: JP19894783U
Authority: JP
Inventors: 西沢　久雄; 正也浅井
Original assignee: 大日本スクリ−ン製造株式会社
Priority date: 1983-12-27
Filing date: 1983-12-27
Publication date: 1985-07-25
Also published as: JPS6320115Y2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、従来装置において、ウェハのフォ
トレジストパターンを焼付は及びエツチングした際のウ
ェハの状態を示す模式断面図、第３図は、本考案をウェ
ハ処理装置に適用した際の　　。概要を示す模式説明図、第４図は、本考案に係る乾燥処
理装置の構造を示す縦断面図である。Ａ・・・乾燥処理装置、１・・・ウェハ、２・・・酸化
皮膜、３・・・フォトレジストパターン、４・・・ウェ
ハ供給装置、５・・・ウェハ着脱装置、６・・・フォト
レジスト回転塗布装置、７・・・ウェハ収納装置、８−
１〜８−３・・リツベヤ、９・・・無端ベルト、１０・
・・駆動ローラ、１１・・・従動ローラ、１２・・・テ
ンション口、−ラ、１４・・・昇降枠、１５・・・昇降
手段、２５・・・処理プレート、２６・・・溝、２７・
・・ウェハ吸着孔、２８・・・位置決めピン、２９・・
・ウェハ支持ピン、３０・・・上面、３１・・・蓋体、
３２・・・シール部材、３３・・・ヘキサメチルジシラ
ザン（ＨＭＤＳ　）、３４．３５・・・孔、３６・・・
表面処理液槽、３７・・・光源、３８・・・球面反射鏡
、３９・・・処理チャンバー、４０．４１・・・バルブ
。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

（１）被処理体を位置決め載置するプレートと、前記プ
レート上へ被処理体を搬送し、及び／又は前記プレート
上から被処理体を搬出する搬送手段と、前記プレートの
被処理体載置位置に対して光照射する光源と、前記プレ
ートに内蔵された冷却器と、前記プレートの被処理体載
置位置に挿嵌された、該プレート上面に突出し及びプレ
ート内に嵌入する被処理体支持手段と、前記プレートと
密着することにより、該プレート上に載置される被処理
体の周域に処理チャンバー、　　　を形成する蓋体とか
らなり、前記処理チャンバー内で前記支持手段により被
処理体をプレートから離隔した状態で、前記光源からの
光照射によって被処理体を加熱し、加熱処理終了後、前
記支持手段を前記プレート内に嵌入することにより、被
処理体とプレートとを接触させて冷却するようにしたこ
とを特徴とする乾燥処理装置。
（２）光源の照射波長が、被処理体の最適吸収波長域で
ある実用新案登録請求の範囲第（１）項記載の乾燥処理
装置。
（３）蓋体が、表面処理剤を処理チャンバー内に導入す
る導入孔及び前記チャンバー内から使用済表面処理剤を
排出する排出孔を備えてなる実用新案登録請求の範囲第
（１）項記載の乾燥処理装置。
（４）プレートと光源との間に蓋体を配置するとともに
、前記蓋体の光源対向部分を透明体としてなる実用新案
登録請求の範囲第（１）項ないし第（３）項のいずれか
に記載の乾燥処理装置。
（５）蓋体内のプレート対向位置に光源を配置してなる
実用新案登録請求の範囲第（１）項ないし第（３）項の
いずれかに記載の乾燥処理装置。
（６）プレートの両面に貫通する孔を設けるとともに、
該孔を真空吸着装置に連通せしめ゛、被処理体を冷却処
理する際、被処理体をプレート密着するようにしてなる
実用新案登録請求の範囲第　　　　・（１）項に記載の
乾燥処理装置。