JPS6010605A - インダクタンス素子用永久磁石 - Google Patents
インダクタンス素子用永久磁石Info
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- JPS6010605A JPS6010605A JP58118477A JP11847783A JPS6010605A JP S6010605 A JPS6010605 A JP S6010605A JP 58118477 A JP58118477 A JP 58118477A JP 11847783 A JP11847783 A JP 11847783A JP S6010605 A JPS6010605 A JP S6010605A
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- JP
- Japan
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- permanent magnet
- magnetic
- inductance element
- resin
- inductance
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/032—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials
- H01F1/04—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/047—Alloys characterised by their composition
- H01F1/053—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals
- H01F1/055—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5
- H01F1/0555—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 pressed, sintered or bonded together
- H01F1/0558—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 pressed, sintered or bonded together bonded together
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- Hard Magnetic Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は永久磁石をその磁気回路の一部に組込んだ磁心
を用いたインダクタンス素子用永久磁石の改良に関する
ものである。
を用いたインダクタンス素子用永久磁石の改良に関する
ものである。
第1図永久磁石をイの磁気回路の一部に組込んだ従来公
知のインダクタンス素子の一例を示す概略構成図である
。(例えば特公昭4G−37128号公報)1は中央脚
が外側脚よりも若干短く作られているE型コアである。
知のインダクタンス素子の一例を示す概略構成図である
。(例えば特公昭4G−37128号公報)1は中央脚
が外側脚よりも若干短く作られているE型コアである。
該コア1を2個用い外側脚を対向させて2で接合させE
E型ココア構成した場合、2つのコア1の中央脚の間に
空隙3が生じるが、この空隙J3の部分に永久磁石が挿
入されている。この永久磁石は第2図(a)および(b
)に示lノだ平面図および断面図でわかるように一1本
物で作られており、矢印)」の方向に磁化されていlこ
。
E型ココア構成した場合、2つのコア1の中央脚の間に
空隙3が生じるが、この空隙J3の部分に永久磁石が挿
入されている。この永久磁石は第2図(a)および(b
)に示lノだ平面図および断面図でわかるように一1本
物で作られており、矢印)」の方向に磁化されていlこ
。
かかる構成のインダクタンス素子において、コイル4に
流れる直流磁界によって該磁界と反対方向に常時印加さ
れているバイアス磁界と相殺されるため、イの分たり直
流に強いインダクタンス素子どなる。
流れる直流磁界によって該磁界と反対方向に常時印加さ
れているバイアス磁界と相殺されるため、イの分たり直
流に強いインダクタンス素子どなる。
上記バイアス磁界を与えるのに使用される永久磁石は、
必要とする磁気バイアスの大きさおよびインダクタンス
素子のコイルによる減磁作用の大きさによって適当に選
択される。磁気バイアスが大きく、かつ減磁作用も大き
い場合には希土類コバルト−磁石が使用されるが、本発
明は上記希土類コバル1−磁石の改良に関するものであ
る。
必要とする磁気バイアスの大きさおよびインダクタンス
素子のコイルによる減磁作用の大きさによって適当に選
択される。磁気バイアスが大きく、かつ減磁作用も大き
い場合には希土類コバルト−磁石が使用されるが、本発
明は上記希土類コバル1−磁石の改良に関するものであ
る。
高周波用のインダクタンス素子の磁心としては、2
10 Ω・cm以上の高抵抗を有するソフ1−・フェラ
イト例えば1yjn−Znフエライ+−、NニーZ*フ
エライ1−が通常用いられるので、高周波電流4イシダ
クタンス素子のコイルに流したどき、磁気回路中の磁心
部分での渦電流損は比較的小さく問題はない。しかしイ
1がら、磁気バイアスを与える希土類]バルト磁石の抵
抗航が50X 10 ’Ω・cmど低いため高周波電流
をインダクタンス素子のコ1′ルに流したどき希土類コ
バル1〜磁石で渦電流損が大さくなり、発熱してインダ
クタンス素子全体の温度まで変化するために磁心の特性
が変わる欠点があった。
イト例えば1yjn−Znフエライ+−、NニーZ*フ
エライ1−が通常用いられるので、高周波電流4イシダ
クタンス素子のコイルに流したどき、磁気回路中の磁心
部分での渦電流損は比較的小さく問題はない。しかしイ
1がら、磁気バイアスを与える希土類]バルト磁石の抵
抗航が50X 10 ’Ω・cmど低いため高周波電流
をインダクタンス素子のコ1′ルに流したどき希土類コ
バル1〜磁石で渦電流損が大さくなり、発熱してインダ
クタンス素子全体の温度まで変化するために磁心の特性
が変わる欠点があった。
本発明は−1−記従来技術の欠点を解消し、人さイr資
長気バイアスを右するとともに、高周波電流に渦電流損
失の影響をうけることのない新規なインダクタンス素子
用永久磁石を提供するものである。
長気バイアスを右するとともに、高周波電流に渦電流損
失の影響をうけることのない新規なインダクタンス素子
用永久磁石を提供するものである。
上記の目的を達成するために本発明では、1で(Cob
DI、 FeACLIB Mz)A、 (ここでRはS
m。
DI、 FeACLIB Mz)A、 (ここでRはS
m。
Ceを中心とした希土類金属の1種又は2種以上の組み
合せであり、MはS i 、Ti 、Z r、1−1f
、 aNl)、Ta、Vの1種又は2種以上の組み合l
、0.01≦X≦0.40. 0.02≦Y≦0.25
、 0.0・−3− 〇1≦7≦0.15 、 5.5≦A≦8.5)で示さ
れる組成を有し、鋳造インボッ[・を熱処理、粉砕後2
−6ω10%の樹脂ど結合することを特徴どする永久磁
石をインダクタンス素子にバイアス用として用い lこ
。
合せであり、MはS i 、Ti 、Z r、1−1f
、 aNl)、Ta、Vの1種又は2種以上の組み合l
、0.01≦X≦0.40. 0.02≦Y≦0.25
、 0.0・−3− 〇1≦7≦0.15 、 5.5≦A≦8.5)で示さ
れる組成を有し、鋳造インボッ[・を熱処理、粉砕後2
−6ω10%の樹脂ど結合することを特徴どする永久磁
石をインダクタンス素子にバイアス用として用い lこ
。
本永久磁石の磁粉イのものの電気抵抗は50X10’Ω
・cm程度の低い値を示すが、磁粉は樹脂によって絶縁
されるため、マクロな意味の電気抵抗は大きくなり、渦
電流損は低下する。従って発熱量が低下し、インダクタ
ンス素子の温度上昇がおさえられ、インダクタンス素子
の特性も安定する。本発明においてはさらに従来熱的に
不安定であった樹脂結合型永久磁石の安定性も向上して
いる。
・cm程度の低い値を示すが、磁粉は樹脂によって絶縁
されるため、マクロな意味の電気抵抗は大きくなり、渦
電流損は低下する。従って発熱量が低下し、インダクタ
ンス素子の温度上昇がおさえられ、インダクタンス素子
の特性も安定する。本発明においてはさらに従来熱的に
不安定であった樹脂結合型永久磁石の安定性も向上して
いる。
すなわち、回路素子どしてのインダクタンス素子の安定
性はバイアス用永久磁石に依存する部分が大きく、従来
の樹脂結合型永久磁石では渦電流損失は低減でさるもの
の熱安定性に乏しく使用不可であった。
性はバイアス用永久磁石に依存する部分が大きく、従来
の樹脂結合型永久磁石では渦電流損失は低減でさるもの
の熱安定性に乏しく使用不可であった。
本発明は、熱安定性の改善のために熱安定性の高い合金
を用いること、ざらに比較的比表面積の4− 小さい程度の粉末により酸化量を低減すること、含水率
の小さい耐酸化性の優れた樹脂を用いること、さらには
永久磁石粉末を空気中で加熱保持して安定化すること等
を用いて、熱安定性の高いインダクタンス素子用樹脂結
合型磁石を提供するものである。
を用いること、ざらに比較的比表面積の4− 小さい程度の粉末により酸化量を低減すること、含水率
の小さい耐酸化性の優れた樹脂を用いること、さらには
永久磁石粉末を空気中で加熱保持して安定化すること等
を用いて、熱安定性の高いインダクタンス素子用樹脂結
合型磁石を提供するものである。
本発明による樹脂結合型磁石は、一般に溶解によるイン
ゴット作成、インボッ[・の溶体化9時効等の熱処理、
粉砕、バインダーどの混合、磁場中成形、磁場中射出成
形、磁場中押し出し成形等の固化の工程によって製造さ
れる。溶解はAr中ないし真空中で行ない、均質なイン
ボッ1〜を作成する必要がある。従ってインゴットケー
スは、水冷されたものを用いるのが好ましく、急冷によ
って偏析をおさえることが非常に重要である。得られた
インゴットを均質化および溶体化するために1006・
〜1230℃でAr中中熱熱保持行なう。保持時間はマ
トリックス磁石の均質度(例えば表裏、!1束量差)、
工1−1c等磁気特性を最適化した十で決定される。溶
体化後は急冷を施す必要があり、Ar気流中、71イル
中、水中等に4Q人することによって行なわれる。■、
′1効に用いるインゴットの組成によって多様に変化す
る。−服には多段時効、連続冷fil]等が用いられて
いるが、組成によっては一般の時効でも充分である。R
どして3mを用いる場合多段時効、連続冷J、Ilの開
始温度は800・−900℃が選ばれ、Smの一部をC
eで買換していくど多段時効連続冷却の開始温度は低下
する。時効は400℃までで充分であり、通常400℃
までの多段時効冷去1が用いられる。粉砕はディスク・
ミル、ブラウン・ミル、ボール・ミル、振動ミル、ジェ
ノ1〜・ミルによって行なわれるが、本拐覧系の揚台広
い範囲のγlH良の粉末の利用が可能である。充填率を
あげるため粒庶の異なる粉末を混合して用いることが一
般的である。成形体作成は粉砕粉を磁場中成形後バイン
ダーを含浸する方法およびあらかじめバインダーど粉砕
粉を混合しておき磁場中成形後バインダーを固化する方
′法がある。
ゴット作成、インボッ[・の溶体化9時効等の熱処理、
粉砕、バインダーどの混合、磁場中成形、磁場中射出成
形、磁場中押し出し成形等の固化の工程によって製造さ
れる。溶解はAr中ないし真空中で行ない、均質なイン
ボッ1〜を作成する必要がある。従ってインゴットケー
スは、水冷されたものを用いるのが好ましく、急冷によ
って偏析をおさえることが非常に重要である。得られた
インゴットを均質化および溶体化するために1006・
〜1230℃でAr中中熱熱保持行なう。保持時間はマ
トリックス磁石の均質度(例えば表裏、!1束量差)、
工1−1c等磁気特性を最適化した十で決定される。溶
体化後は急冷を施す必要があり、Ar気流中、71イル
中、水中等に4Q人することによって行なわれる。■、
′1効に用いるインゴットの組成によって多様に変化す
る。−服には多段時効、連続冷fil]等が用いられて
いるが、組成によっては一般の時効でも充分である。R
どして3mを用いる場合多段時効、連続冷J、Ilの開
始温度は800・−900℃が選ばれ、Smの一部をC
eで買換していくど多段時効連続冷却の開始温度は低下
する。時効は400℃までで充分であり、通常400℃
までの多段時効冷去1が用いられる。粉砕はディスク・
ミル、ブラウン・ミル、ボール・ミル、振動ミル、ジェ
ノ1〜・ミルによって行なわれるが、本拐覧系の揚台広
い範囲のγlH良の粉末の利用が可能である。充填率を
あげるため粒庶の異なる粉末を混合して用いることが一
般的である。成形体作成は粉砕粉を磁場中成形後バイン
ダーを含浸する方法およびあらかじめバインダーど粉砕
粉を混合しておき磁場中成形後バインダーを固化する方
′法がある。
本発明に用いられる合金は、R(CJ−□Y−Z F
exCuY M2)A である。ここでRは3m 、
C:、eを中心とした希土類金属の1種又は2種以上の
組み合せてあり、MはSi 、Ti 、Zr、1−1f
、Nb。
exCuY M2)A である。ここでRは3m 、
C:、eを中心とした希土類金属の1種又は2種以上の
組み合せてあり、MはSi 、Ti 、Zr、1−1f
、Nb。
Ta、Vの1種又は2種以−1−の組み合”Uである。
又、0.01 ≦X≦0.40 、 0.02 ≦Y≦
0.25 。
0.25 。
0.001≦7≦0.1!i 、5.5≦A≦8.5で
ある。[e置換量Xが0101以下の場合飽和磁化の増
加が期待できず、0.40以上の揚台は飽和磁化は増加
するものの、角型、 IHcが著しく低下する。C11
ffffi換量Y′/′J<0.02以下の場合充分な
析出効果が進行せず、1−ICがiqられイrい。0.
25以」−の場合飽和磁化が減少してしまう。添加元素
量7がo、ooi以下の場合x、 t−+ cの改善が
見られず、0.15以上の場合飽和磁化の減少が著しい
。Aの値を5.5から8.5に限定した理由は5.5以
下にすると飽和磁化が小さくなりすぎ、充分な特性が得
られない。又8.5以上にした場合溶解インゴット・に
プントライ[・が出やすくこの異相にJ:つてf、、I
−I Cが低下する。
ある。[e置換量Xが0101以下の場合飽和磁化の増
加が期待できず、0.40以上の揚台は飽和磁化は増加
するものの、角型、 IHcが著しく低下する。C11
ffffi換量Y′/′J<0.02以下の場合充分な
析出効果が進行せず、1−ICがiqられイrい。0.
25以」−の場合飽和磁化が減少してしまう。添加元素
量7がo、ooi以下の場合x、 t−+ cの改善が
見られず、0.15以上の場合飽和磁化の減少が著しい
。Aの値を5.5から8.5に限定した理由は5.5以
下にすると飽和磁化が小さくなりすぎ、充分な特性が得
られない。又8.5以上にした場合溶解インゴット・に
プントライ[・が出やすくこの異相にJ:つてf、、I
−I Cが低下する。
本発明における磁粉の粉砕粒度は45・〜300μmが
好適であり、望Jニジ<は、770−20OL1を用い
るべきである。粉砕粒度が45flIll以下の場合は
比−7°− 表面積が大きく耐酸化1(1に欠IJ、300μm以」
−の場合は成形性が悪化する。
好適であり、望Jニジ<は、770−20OL1を用い
るべきである。粉砕粒度が45flIll以下の場合は
比−7°− 表面積が大きく耐酸化1(1に欠IJ、300μm以」
−の場合は成形性が悪化する。
本発明におりる樹脂としてはエポキシ樹脂が好適である
が、特に熱安定性の優れたジアミド類およびフェニール
樹脂を硬化剤として用いたエポキシ樹脂が望ましい。樹
脂金イj間は1〜7a>t、%が使用可能であるが、望
ましくは1.5・〜5 (i) t 、%とすべきであ
る。樹脂含有量が10>1.%以下の場合は磁粉が充分
樹脂によってコートされず熱安定性が低下する。樹脂含
有量が70)12%以」−の場合は、磁粉含有量が少な
く磁気特性が低下する。射出成形に使用される樹脂はエ
チレン酢酸ビニール共重合体、変性ポリオレフィン系樹
脂、低融点ポリアミド樹脂、ボリフヱニレンサルファイ
ド(PPS)ティロー6.12.66等であるが、P
P Sが最も高い熱安定性を示す。
が、特に熱安定性の優れたジアミド類およびフェニール
樹脂を硬化剤として用いたエポキシ樹脂が望ましい。樹
脂金イj間は1〜7a>t、%が使用可能であるが、望
ましくは1.5・〜5 (i) t 、%とすべきであ
る。樹脂含有量が10>1.%以下の場合は磁粉が充分
樹脂によってコートされず熱安定性が低下する。樹脂含
有量が70)12%以」−の場合は、磁粉含有量が少な
く磁気特性が低下する。射出成形に使用される樹脂はエ
チレン酢酸ビニール共重合体、変性ポリオレフィン系樹
脂、低融点ポリアミド樹脂、ボリフヱニレンサルファイ
ド(PPS)ティロー6.12.66等であるが、P
P Sが最も高い熱安定性を示す。
本発明に用いられるバイアス用永久磁石に必要とされる
磁気特性は概略Br≧3500G 、 d−」O≧20
0000eである。
磁気特性は概略Br≧3500G 、 d−」O≧20
0000eである。
以下実施例により本発明を説明する。
4−
実施I!1l11
S m (COb+!、F eo、2* CLlo、o
3 ’−”o、o/S)7.I−なる合金をアー・り溶
解し、1!7られI、=溶解インゴットを1210℃×
1旧間+1150℃X40時間ΔI゛中で均質化およ
び溶体化処理を行ない、Δ1゛気流中に急冷した。
3 ’−”o、o/S)7.I−なる合金をアー・り溶
解し、1!7られI、=溶解インゴットを1210℃×
1旧間+1150℃X40時間ΔI゛中で均質化およ
び溶体化処理を行ない、Δ1゛気流中に急冷した。
続いて徐冷時効処理を行なった。用いたパターンは90
0℃xgn5間の保持後1℃/minの速度で400℃
まで徐冷し、400°CX 5時間保持するというもの
である。溶体化時効処理の終了lツノ、:インゴットを
鉄乳鉢で粗粉砕し、70〜200μmの粉砕粉を1昇だ
。4(t)10%のノボラック系のエポキシ樹脂をアセ
1〜ンを用いて磁粉を混練した後、磁場中で圧縮成形し
た。成形圧は1oton /’Cm’であり、配向磁場
強度は10 K Oeである。成形体を80°CX 2
時間+200℃×2時間加熱保持しキコアー処理を行な
った。得られた成形体の磁気特性は、 B r〜[’1500G βI−1c ・−600000 工l−1C〜210000゜ (B F−1) max−9,1M G○8であった。
0℃xgn5間の保持後1℃/minの速度で400℃
まで徐冷し、400°CX 5時間保持するというもの
である。溶体化時効処理の終了lツノ、:インゴットを
鉄乳鉢で粗粉砕し、70〜200μmの粉砕粉を1昇だ
。4(t)10%のノボラック系のエポキシ樹脂をアセ
1〜ンを用いて磁粉を混練した後、磁場中で圧縮成形し
た。成形圧は1oton /’Cm’であり、配向磁場
強度は10 K Oeである。成形体を80°CX 2
時間+200℃×2時間加熱保持しキコアー処理を行な
った。得られた成形体の磁気特性は、 B r〜[’1500G βI−1c ・−600000 工l−1C〜210000゜ (B F−1) max−9,1M G○8であった。
本磁石を着磁後、120°C×2峙間熱枯しを行ない、
第1図に示したインダクタンス素子に用いた。本インタ
クタンス素子の安定性を調べるため 120℃に加熱し
、インタ・クタンスの直流電流特性の時間変化を追跡し
た。第3図に120℃加熱直後および2000時間後の
インダクタンス特性を示す。120°C加熱によっても
永久磁石部ブ)の温度は130°C以上におさえられ渦
電流損の小ざいことがわかった。又2000時間後のイ
ンダクタンスも直流電流に対して極めて安定である。
第1図に示したインダクタンス素子に用いた。本インタ
クタンス素子の安定性を調べるため 120℃に加熱し
、インタ・クタンスの直流電流特性の時間変化を追跡し
た。第3図に120℃加熱直後および2000時間後の
インダクタンス特性を示す。120°C加熱によっても
永久磁石部ブ)の温度は130°C以上におさえられ渦
電流損の小ざいことがわかった。又2000時間後のイ
ンダクタンスも直流電流に対して極めて安定である。
実施例2
実施例1と同様の方法で、S m (CObJ、 F
ea、IC’、lo、o9 Z ”o、o;? )7.
3なる合金を溶解、均質化および溶体化処理を行なった
。続いて850℃×4時間の保持後1℃/ m i n
で400℃まで徐冷した。得られたインボッ1〜を粗粉
砕し、45−□300I1mの粉砕粉を作製した。粉砕
粉を4ωt1%のPlつSど混練後磁場中射出成形した
。得られた永久磁石の特性は、Brへ60000 Bll C□” 58000e 丁t−l C〜 200000 (B H)max −8,2M G Oeであった。本
磁石を実施例1ど同様の方法でインダクタンス素子に用
いたが、実施例1と同様極めて安定な結果を得た。
ea、IC’、lo、o9 Z ”o、o;? )7.
3なる合金を溶解、均質化および溶体化処理を行なった
。続いて850℃×4時間の保持後1℃/ m i n
で400℃まで徐冷した。得られたインボッ1〜を粗粉
砕し、45−□300I1mの粉砕粉を作製した。粉砕
粉を4ωt1%のPlつSど混練後磁場中射出成形した
。得られた永久磁石の特性は、Brへ60000 Bll C□” 58000e 丁t−l C〜 200000 (B H)max −8,2M G Oeであった。本
磁石を実施例1ど同様の方法でインダクタンス素子に用
いたが、実施例1と同様極めて安定な結果を得た。
比較例1
5mC0酊なる合金をアーク溶解後、粗粉砕した。粗I
)砕粉をジェッ[−・ミルにて微粉砕し、磁場中成形後
、1150℃×2時間Ar中で焼結した。
)砕粉をジェッ[−・ミルにて微粉砕し、磁場中成形後
、1150℃×2時間Ar中で焼結した。
焼結後1050℃に再加熱し、830℃まで1℃/mi
nで徐冷し、830℃にて直ちにA r気流中に急冷し
た。得られた磁気特性は、 B r ・−8500Q Bl−I C−−83000e zl−1C〜200000e (B l−1) max 〜17,5M Q○8であっ
た。本磁石を実施例1と同様の方法でインダクタンス素
子に用いた・ 120℃に加熱する“渦 町電流損失が
大きく、永久磁石部分の温度が150℃以上に上界し、
極めてインダクタンス特性が劣化11− しIC。
nで徐冷し、830℃にて直ちにA r気流中に急冷し
た。得られた磁気特性は、 B r ・−8500Q Bl−I C−−83000e zl−1C〜200000e (B l−1) max 〜17,5M Q○8であっ
た。本磁石を実施例1と同様の方法でインダクタンス素
子に用いた・ 120℃に加熱する“渦 町電流損失が
大きく、永久磁石部分の温度が150℃以上に上界し、
極めてインダクタンス特性が劣化11− しIC。
比較例2
Sn+Co≠Sなる合金をアーク溶解後粗粉砕した。
得られた粗わ)砕粉をジェット・ミルにて微粉砕し、1
0μm (F、S、S、S、)の微粉砕粉を得た。
0μm (F、S、S、S、)の微粉砕粉を得た。
木微粉砕法を実施例2と同様の方法で射出成形した。得
られた永久磁石の磁気特性は、 Br−5000G 8HC−C−4200 Qed−1〜19500Q。
られた永久磁石の磁気特性は、 Br−5000G 8HC−C−4200 Qed−1〜19500Q。
(B トl ) maX ・” 5.8M G Oeで
あった。本磁石を実施例1と同様の方法でインダクタン
ス素子に用いた。第4図に120℃加熱直後および20
00時間後のインダクタンス特性を示す。
あった。本磁石を実施例1と同様の方法でインダクタン
ス素子に用いた。第4図に120℃加熱直後および20
00時間後のインダクタンス特性を示す。
120 ’C加熱にJ:って永久磁石特性が劣化してい
ることがわかる。
ることがわかる。
第1図は本発明の実施例のインダクタンス素子を示す図
、第2図は永久磁石の構造図、第3図は3m (Cob
J、Feo、2.S−CuO,Q8)−1TO,01,
s >7.&合金を永久12− 磁石として用いた場合の120℃にお(プるインダクタ
ンスの直流電流特性を示す図、第4図はS mCO費合
金合金久磁石として用いた場合の120℃にお(プる直
流電流特性を示す図である。 1:フエライ1〜・コア 3:間隙 4:コイルA:初
期特性 [3: 2000時間後第7図 第2図 一θ5 θ θ5 /ρ − Ivp (A) 昭和6&1蛸←斗菩口 発明の名称 インダク・タンス素子用永久磁石補正をづ
−る者 事件どの関係 特許出願人 住所 東京都f代田区丸ノ内二丁目1番2月名称 (5
08)日立金属株式会社 電話 東京03−284−4G42 明n書の「発明の詳細な説明 補正の内容 別組の通り。 1、明細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載を下記の
通り訂正する。 〈1)明細書第玉頁第14行の「第1図」の後に「は」
を挿入する。 (2)同書第5頁第2行から第3行の12〜6ωV.%
1を11〜7wl%」に訂正する。 (3)同書第6回第1行の「小ざい」の後に・15〜3
00μm」を挿入する。 (4)同書第7頁第2行の「時効に」を「時効は」に訂
正する。 〈5)同書第9頁第2行の「悪化」を「低下」に訂正す
る。 (6)同書第10頁第12行の「磁粉を1を「磁粉ど」
に訂正Jる。 (7)同書第12頁第1行の「直後」の後に1−(Δ)
」を挿入する。 (8)同書同頁同行の「2000時間後」の後にr(B
)Jを挿入する。 (9)同書第12頁第1行のr □l−1 c 〜20
000e Jをr 11−10〜2000000 Jに
訂正り−る。 (10)同書第13頁第171行の「後1の後に1(△
)」を挿入覆る。 (11)同書同頁同行の「2000時間後」の後にf’
(R)jを挿入する。 J又十 ・−2−
、第2図は永久磁石の構造図、第3図は3m (Cob
J、Feo、2.S−CuO,Q8)−1TO,01,
s >7.&合金を永久12− 磁石として用いた場合の120℃にお(プるインダクタ
ンスの直流電流特性を示す図、第4図はS mCO費合
金合金久磁石として用いた場合の120℃にお(プる直
流電流特性を示す図である。 1:フエライ1〜・コア 3:間隙 4:コイルA:初
期特性 [3: 2000時間後第7図 第2図 一θ5 θ θ5 /ρ − Ivp (A) 昭和6&1蛸←斗菩口 発明の名称 インダク・タンス素子用永久磁石補正をづ
−る者 事件どの関係 特許出願人 住所 東京都f代田区丸ノ内二丁目1番2月名称 (5
08)日立金属株式会社 電話 東京03−284−4G42 明n書の「発明の詳細な説明 補正の内容 別組の通り。 1、明細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載を下記の
通り訂正する。 〈1)明細書第玉頁第14行の「第1図」の後に「は」
を挿入する。 (2)同書第5頁第2行から第3行の12〜6ωV.%
1を11〜7wl%」に訂正する。 (3)同書第6回第1行の「小ざい」の後に・15〜3
00μm」を挿入する。 (4)同書第7頁第2行の「時効に」を「時効は」に訂
正する。 〈5)同書第9頁第2行の「悪化」を「低下」に訂正す
る。 (6)同書第10頁第12行の「磁粉を1を「磁粉ど」
に訂正Jる。 (7)同書第12頁第1行の「直後」の後に1−(Δ)
」を挿入する。 (8)同書同頁同行の「2000時間後」の後にr(B
)Jを挿入する。 (9)同書第12頁第1行のr □l−1 c 〜20
000e Jをr 11−10〜2000000 Jに
訂正り−る。 (10)同書第13頁第171行の「後1の後に1(△
)」を挿入覆る。 (11)同書同頁同行の「2000時間後」の後にf’
(R)jを挿入する。 J又十 ・−2−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁気回路の一部に空隙を有する軟磁性材からなる磁
心と前記磁心の空隙部に配設した永久磁石と前記磁心に
巻回したコイルとからなり、前記コイルによる直流磁界
と反対方向に前記永久磁石による磁気バイアスがかかる
ようにしたインダクタンス素子用の永久磁石において、
R(COH−x(−IFeX CLIy Mz )A
(ここでRは、3m、Ceを中心とした希土類金属の1
種又は2種以上の組み合せであり、MはSi 、Ti
、Zr、1−1f、N))Ta、Vの1種又は2種以上
の組み合せ、0.01≦X≦0.40. 0.02≦Y
≦0.25 、 0.001≦7≦0.15 、 5.
5≦A≦8.5)で示される組成を有し、鋳造インボッ
1〜を熱処理、粉砕後1・〜7ωt。 %の樹脂を結合することを特徴とするインダクタンス素
子用永久磁石。 2、上記特許請求の範囲第1項記載のインダクタンス素
子用永久磁石において、磁粉の粉砕粒度が45〜300
μmであり、かつ樹脂どしてエポキシを用いることを特
徴とするインダクタンス素子用永久磁石。 3、」−記特許請求の範囲第1項記載のインダクタンス
素子用永久磁石において、磁粉′の粉砕粒度が45〜3
00μmであり、かつ樹脂どしてポリフェニレンサルフ
ァイド(PPS)を用い射出成形されたことを特徴とす
るインダクタンス素子用永久磁石。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58118477A JPS6010605A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | インダクタンス素子用永久磁石 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58118477A JPS6010605A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | インダクタンス素子用永久磁石 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6010605A true JPS6010605A (ja) | 1985-01-19 |
Family
ID=14737638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58118477A Pending JPS6010605A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | インダクタンス素子用永久磁石 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6010605A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1983
- 1983-06-30 JP JP58118477A patent/JPS6010605A/ja active Pending
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KR100851450B1 (ko) * | 2000-10-25 | 2008-08-08 | 엔이씨 도낀 가부시끼가이샤 | 바이어스용 자석을 구비한 자기 코어 및 이를 이용한인덕턴스 부품 |
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