JPS60106013A - 垂直型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
垂直型磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60106013A JPS60106013A JP21473183A JP21473183A JPS60106013A JP S60106013 A JPS60106013 A JP S60106013A JP 21473183 A JP21473183 A JP 21473183A JP 21473183 A JP21473183 A JP 21473183A JP S60106013 A JPS60106013 A JP S60106013A
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- Japan
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- magnetic
- block
- high permeability
- thin film
- groove
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、垂直磁気記録再生に適した垂直型磁気〜リド
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
（ロ）従来技術
一般に、垂直磁気記録再生に用いられる垂直型磁気〜ダ
ドは、第１図シュー例を示す如く短冊状の高透磁率磁性
薄膜（例えば、パーマロイ、センダスト、非晶質磁性体
等）からなる主磁極（１）と、該主磁極（１）に対向し
て配される高透磁率磁性材（例えば、フェライト等）か
らなる補助磁極（２）とより構成され、従来では斯る主
磁極（１１の先端部を記録媒体（３）（例えば、膜面に
垂直な方向Ｃ哩ム化容易軸を有するＣｏ−０ｒ薄膜（３
ａ）がポリエステル等のベース（３ｂ ） ｌｌに高周
波スパｑ夕法により形成されている）の膜面に対向せし
めると共に補助磁極（２）ヲその反対側（即ち、ベース
側）に対向せしめ、斯る補助磁極（２）に巻装された記
録再生用の巻線（４）に信号電流を流すことによりＣ主
磁極（１）の先端部近傍に鋭い垂直磁界を発生せしめて
記録媒体（３）（この場合、矢印へ方回に移送され［い
る）に垂直記＠を行なうようにし℃いる。また、再生時
酸二は記録媒体に二より主磁極（１）が励磁され、これ
によって記録再生用の看護（４）の両端に出力信号が得
られる。
ドは、第１図シュー例を示す如く短冊状の高透磁率磁性
薄膜（例えば、パーマロイ、センダスト、非晶質磁性体
等）からなる主磁極（１）と、該主磁極（１）に対向し
て配される高透磁率磁性材（例えば、フェライト等）か
らなる補助磁極（２）とより構成され、従来では斯る主
磁極（１１の先端部を記録媒体（３）（例えば、膜面に
垂直な方向Ｃ哩ム化容易軸を有するＣｏ−０ｒ薄膜（３
ａ）がポリエステル等のベース（３ｂ ） ｌｌに高周
波スパｑ夕法により形成されている）の膜面に対向せし
めると共に補助磁極（２）ヲその反対側（即ち、ベース
側）に対向せしめ、斯る補助磁極（２）に巻装された記
録再生用の巻線（４）に信号電流を流すことによりＣ主
磁極（１）の先端部近傍に鋭い垂直磁界を発生せしめて
記録媒体（３）（この場合、矢印へ方回に移送され［い
る）に垂直記＠を行なうようにし℃いる。また、再生時
酸二は記録媒体に二より主磁極（１）が励磁され、これ
によって記録再生用の看護（４）の両端に出力信号が得
られる。
ところが−斯る袖助磁極励１１ｆ１型では記録媒体をそ
の両側から挾み込まなければならないため、通常のテー
プ状記録方式に用いるＣ）１不向きであった。
の両側から挾み込まなければならないため、通常のテー
プ状記録方式に用いるＣ）１不向きであった。
し１ 発明の目的
本発明は斯る点に菰み成されたもので、垂直型磁気へ噌
ドを実用に適した主磁極励磁型とし、且つそれの量産に
適した製造方法を提供しようとするものである。
ドを実用に適した主磁極励磁型とし、且つそれの量産に
適した製造方法を提供しようとするものである。
（ロ）発明の構成
即ち１本発明の製造方法は高透磁率磁性薄膜の先端部を
補強用の非磁性材で挾み込むと共に該磁性薄膜の残りの
部分を記録再生効率向上用の高透磁率磁性料で挾み込み
、この商透磁率磁性材の後部をその先端側よりも大きく
してなる垂直型磁気へヴドにおいＣ１高透磁率磁性材よ
りなるプロ９りの一側面側に所定間隔ごとに第１の溝部
を設けた後該第１の溝部と直交する方向で所定間隔ごと
Ｃ二鎖２の溝部を設けるべく溝加工する工程と、該第１
．第２溝部が形成されたプロ璽りの一側面側を接合面と
し°Ｃ鏡而面暦した後非磁性材を接合して接合プロ・Ｖ
りを得る工程と、該接合ブロヴクの第１溝部（又は、第
２溝部）７ｉｌ−縦断する切断面並びに該切断面と平行
で第１．第２７１４部間に形成された突出部を通る切断
面で所定間隔ごとＣ＝切断して切断プロ噌・りを得る工
程と、該切断プロ噌グの突出部を含む切断面側を接合面
として鏡面研磨し第１の半割プロ噌りを得る工程と、該
第１の半割ブロヴクの鏡面研磨が施された接合面として
の切…■面側に高透磁率磁性薄膜を形成し′Ｃ第２０半
割ブロダクを得る工程と、前記第１．第２の半割ブｒ：
Ｉｖりの接合面同志を突き合わせＣ接合し本体プロ噌り
を得る工程と、該本体ブロダクを第２溝部（又ｔｉ第１
溝部）にＣ所要のヘダド幅（：切断する工程とを含むも
のである。
補強用の非磁性材で挾み込むと共に該磁性薄膜の残りの
部分を記録再生効率向上用の高透磁率磁性料で挾み込み
、この商透磁率磁性材の後部をその先端側よりも大きく
してなる垂直型磁気へヴドにおいＣ１高透磁率磁性材よ
りなるプロ９りの一側面側に所定間隔ごとに第１の溝部
を設けた後該第１の溝部と直交する方向で所定間隔ごと
Ｃ二鎖２の溝部を設けるべく溝加工する工程と、該第１
．第２溝部が形成されたプロ璽りの一側面側を接合面と
し°Ｃ鏡而面暦した後非磁性材を接合して接合プロ・Ｖ
りを得る工程と、該接合ブロヴクの第１溝部（又は、第
２溝部）７ｉｌ−縦断する切断面並びに該切断面と平行
で第１．第２７１４部間に形成された突出部を通る切断
面で所定間隔ごとＣ＝切断して切断プロ噌・りを得る工
程と、該切断プロ噌グの突出部を含む切断面側を接合面
として鏡面研磨し第１の半割プロ噌りを得る工程と、該
第１の半割ブロヴクの鏡面研磨が施された接合面として
の切…■面側に高透磁率磁性薄膜を形成し′Ｃ第２０半
割ブロダクを得る工程と、前記第１．第２の半割ブｒ：
Ｉｖりの接合面同志を突き合わせＣ接合し本体プロ噌り
を得る工程と、該本体ブロダクを第２溝部（又ｔｉ第１
溝部）にＣ所要のヘダド幅（：切断する工程とを含むも
のである。
（ホ）実 施 例
即ち一第２図は本発明の製造方法（＝よる主磁極励磁型
の垂直型磁気へ・・ドの具体的構造を示し。
の垂直型磁気へ・・ドの具体的構造を示し。
主磁憔とし°〔の高透（１荘率磁性薄膜（５）はその先
端部が非磁性’ＦＪ１６１６１で挾み込まれ、残りの部
分が高透磁率磁性＋４’ｆ７１（７１で夫々状み込まれ
ている。ここで。
端部が非磁性’ＦＪ１６１６１で挾み込まれ、残りの部
分が高透磁率磁性＋４’ｆ７１（７１で夫々状み込まれ
ている。ここで。
１妬透１１葺率磁性月＋７０７１はその後部が先端部分
に対してトラ９り幅方向及び媒体走行方向とも十分大き
くなっているので、記録トラ９り密度の向上に伴なって
記録媒体のトラ噌り幅が狭くなつＣも記録再生効率の高
い〜雫ド構造となっている。また。
に対してトラ９り幅方向及び媒体走行方向とも十分大き
くなっているので、記録トラ９り密度の向上に伴なって
記録媒体のトラ噌り幅が狭くなつＣも記録再生効率の高
い〜雫ド構造となっている。また。
非磁性材＋６１＋６１は、印ｊ記爾透磁率磁性材＋７１
＋７１の先端部分に比べてトラ噌り幅方向及び媒体走行
方向とも太き（なっており−この細くなった先端部分１
＝記録再生用の巻線（８）が巻回された際に巻線枠Ｏ）
役ｖｊを果たｔ。
＋７１の先端部分に比べてトラ噌り幅方向及び媒体走行
方向とも太き（なっており−この細くなった先端部分１
＝記録再生用の巻線（８）が巻回された際に巻線枠Ｏ）
役ｖｊを果たｔ。
仄に−その製造方法Ｉ：ついて＾３図乃至第９図を参照
監ニしながら説明する。
監ニしながら説明する。
先ず、；Ａ３図に示す如き１例えばファライト等の＾ｉ
４磁率磁性材Ｊ： ｔｔなる直方体形状のプロ噌り（９
）の−測面（９ａ）側に幅（Ｗ ＋ ）のｍ’ｓ １ｉ
’、１１１ｆ！ｌ５（１０１をビ、リチ（ＰＩ）’でダ
イＶモンドカヴターφを二よりｔｔＸ敬個削設した後、
第４凶にボす如くこび〕第１７ｉ！４部吋と直交する方
向で幅（Ｗ２）の第２ｔ＋’Ｑ ｇｌｓ（Ｉｌｌをビ・
ソチ（Ｐ２）でダイヤモンド力・マター等区二より複′
奴個削設する。そし〔、この４策ｌ二第１、第２ｉ４
ｕｌｓｌｌｃｌ）１］）が形成さｒしたブＵ−ｖり（９
）の−側面（９ａ）側を接合面とじＣ鏡面研磨した後Ｓ
ｌｌ板状σ）非磁性祠（列えは− Ｉｆシラスセラミ−
・ン等）（１２１を例えは公知のＩｆラヌ没透法、Ｕラ
ス溶層法−父は有機含浸接盾法等弧二よって接合し°Ｃ
第５図（二示す如き接合プロ噌り峻を得る。そして、こ
の接合ブローり（Ｌ３）を第５図に鎖線にて示す個所か
ら、即ちその第２講部αＤの中心を縦断する切断面並び
に該切断面と平行で第１．第２溝部（１（ｌｌ（１１１
間Ｃ二形成された突出部側の中心を通る切断面で所定間
隔（Ｗ！ｌ）ごとに切断して切断プロ噌・り（１５１を
得る。尚、この際非磁性材（１２１の切断幅（Ｗ４）を
巻線が収まる範囲内で切断間隔（Ｗ３）より狭くする。
４磁率磁性材Ｊ： ｔｔなる直方体形状のプロ噌り（９
）の−測面（９ａ）側に幅（Ｗ ＋ ）のｍ’ｓ １ｉ
’、１１１ｆ！ｌ５（１０１をビ、リチ（ＰＩ）’でダ
イＶモンドカヴターφを二よりｔｔＸ敬個削設した後、
第４凶にボす如くこび〕第１７ｉ！４部吋と直交する方
向で幅（Ｗ２）の第２ｔ＋’Ｑ ｇｌｓ（Ｉｌｌをビ・
ソチ（Ｐ２）でダイヤモンド力・マター等区二より複′
奴個削設する。そし〔、この４策ｌ二第１、第２ｉ４
ｕｌｓｌｌｃｌ）１］）が形成さｒしたブＵ−ｖり（９
）の−側面（９ａ）側を接合面とじＣ鏡面研磨した後Ｓ
ｌｌ板状σ）非磁性祠（列えは− Ｉｆシラスセラミ−
・ン等）（１２１を例えは公知のＩｆラヌ没透法、Ｕラ
ス溶層法−父は有機含浸接盾法等弧二よって接合し°Ｃ
第５図（二示す如き接合プロ噌り峻を得る。そして、こ
の接合ブローり（Ｌ３）を第５図に鎖線にて示す個所か
ら、即ちその第２講部αＤの中心を縦断する切断面並び
に該切断面と平行で第１．第２溝部（１（ｌｌ（１１１
間Ｃ二形成された突出部側の中心を通る切断面で所定間
隔（Ｗ！ｌ）ごとに切断して切断プロ噌・り（１５１を
得る。尚、この際非磁性材（１２１の切断幅（Ｗ４）を
巻線が収まる範囲内で切断間隔（Ｗ３）より狭くする。
そして、この切断プロ９りα９の突出部（１４１を含む
切断面（１５ａ）側を鏡面研磨して、第６１１に示す如
き第１の半割プロ噌りａ６１を得る。更に、斯る第１の
半割ブローり但の鏡面研磨が施こされた接合面としての
切断面（１５ａ）上に高透磁率磁性薄膜αＤ（例えば、
パーマロイ、センダスト、非晶質磁性体）を蒸着、高周
波スパヴタ法等により第７図に示す如く短冊状−二形成
して、第２の半割プロ噌りα８）を得る。尚、ここで高
透磁率磁性薄膜（ｌηのパターン形成はフォトリソグラ
フィ法又は工噴チング法等により行なう。そして、この
様にして得られた第２の半割プロ噌り堕に、第６図１＝
示す如き磁性薄膜の形成されていない第１の半割ブロッ
ク（１６１’にその接合面とし゛〔の切断面（１５ａ）
側から突き合わせて〃ラス浸透法、〃ラス溶看法、有機
含浸接着法等により接合し、第８図ｇ＝示す如き本体プ
ローり（Ｌ！Ｊを得る。その後、斯る本体ブロック（１
９ヲ第８図に鎖線に゛【示す個所から即ち第１溝部（ｌ
ｌｌｌｌの中心を通る個所から切断すると共に、その際
非磁性材（１２１の切断幅を切断間隔（Ｗ５）より狭＜
シ、高透磁羊磁性材（９）の突出部分Ｉに巻線を施こせ
ば第２図Ｃ二示した構造の垂直型磁気へ９ドが得られる
。
切断面（１５ａ）側を鏡面研磨して、第６１１に示す如
き第１の半割プロ噌りａ６１を得る。更に、斯る第１の
半割ブローり但の鏡面研磨が施こされた接合面としての
切断面（１５ａ）上に高透磁率磁性薄膜αＤ（例えば、
パーマロイ、センダスト、非晶質磁性体）を蒸着、高周
波スパヴタ法等により第７図に示す如く短冊状−二形成
して、第２の半割プロ噌りα８）を得る。尚、ここで高
透磁率磁性薄膜（ｌηのパターン形成はフォトリソグラ
フィ法又は工噴チング法等により行なう。そして、この
様にして得られた第２の半割プロ噌り堕に、第６図１＝
示す如き磁性薄膜の形成されていない第１の半割ブロッ
ク（１６１’にその接合面とし゛〔の切断面（１５ａ）
側から突き合わせて〃ラス浸透法、〃ラス溶看法、有機
含浸接着法等により接合し、第８図ｇ＝示す如き本体プ
ローり（Ｌ！Ｊを得る。その後、斯る本体ブロック（１
９ヲ第８図に鎖線に゛【示す個所から即ち第１溝部（ｌ
ｌｌｌｌの中心を通る個所から切断すると共に、その際
非磁性材（１２１の切断幅を切断間隔（Ｗ５）より狭＜
シ、高透磁羊磁性材（９）の突出部分Ｉに巻線を施こせ
ば第２図Ｃ二示した構造の垂直型磁気へ９ドが得られる
。
（へ）発明の効果
上述した如く本発明に依れば、高透磁率磁性薄膜の先端
部を補強用の非磁性材で残りの部分を記録再生効率向上
用の高透磁率磁性材で夫々挾み込むと共に、この高透磁
率磁性材の後部をその先端側よりも大きくし且つ非磁性
材も高透磁率磁性材の先端部分よりも大きくして、斯る
先端部分に記録再生コイルを巻回して構成してなる垂直
型磁気ヘッドを、量産性良く製造することが出来、産業
上鏝れたものである。
部を補強用の非磁性材で残りの部分を記録再生効率向上
用の高透磁率磁性材で夫々挾み込むと共に、この高透磁
率磁性材の後部をその先端側よりも大きくし且つ非磁性
材も高透磁率磁性材の先端部分よりも大きくして、斯る
先端部分に記録再生コイルを巻回して構成してなる垂直
型磁気ヘッドを、量産性良く製造することが出来、産業
上鏝れたものである。
第１図は垂直磁気記録再生方式の原理図、第２図（ａｌ
ｌｂｌは本発明の製造方法による垂直型磁気へダドの正
面図及び斜視間、第６図乃至第８図は夫々その製造工程
を示し、第６図及び第４図はその溝加工する工程を夫々
示す斜視図、第５図はその接合ブロックを得る工程を示
す斜視図、第６図はその第１の半割ブロックを得る工程
を示す斜視図。 第７図はその第２の半割ブロックを得る工程を示す斜視
図、第８図はその本体ブロックを得る工程を示す斜視図
である。 （９）・・・プロ噌りｍ ｆｌｏｌ（１１）・・・第１
、第２溝部、 ■・・・第１の半割プロ・ツク、轡・・
・第２の半割プロ噌り、 、 （１ｇ１・・・本体ブロ
ック。
ｌｂｌは本発明の製造方法による垂直型磁気へダドの正
面図及び斜視間、第６図乃至第８図は夫々その製造工程
を示し、第６図及び第４図はその溝加工する工程を夫々
示す斜視図、第５図はその接合ブロックを得る工程を示
す斜視図、第６図はその第１の半割ブロックを得る工程
を示す斜視図。 第７図はその第２の半割ブロックを得る工程を示す斜視
図、第８図はその本体ブロックを得る工程を示す斜視図
である。 （９）・・・プロ噌りｍ ｆｌｏｌ（１１）・・・第１
、第２溝部、 ■・・・第１の半割プロ・ツク、轡・・
・第２の半割プロ噌り、 、 （１ｇ１・・・本体ブロ
ック。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １１１ 高透磁率磁性薄膜の先端部を補強用の非磁性材
で挾み込むと共に該磁性薄膜の残りの部分を記録再生効
率向上用の高透磁率磁性材で挾み込み。 この高透磁率磁性材の後部をその先端側よりも太き（し
てなる垂直型磁気へリドにおいて、高透磁率磁性材より
なるプロ噌りの一側面側に所定間隔ごとに第１の溝部を
設けた後該第１の溝部と直交する方向で所定間隔ととに
第２の溝部を設けるべく溝加工する工程と、該第１．第
２溝部が形成されたプロ噌りの一側面側を接合面として
鏡面研磨した後非磁性材を接合して接合プロ噌りを得る
工程と、該接合プロ噌りの第１溝部（又は、第２ｄ部）
を縦断する切断面並びに該切断面と平行で第１、第２溝
部間に形成された突出部を通る切断面で所定間隔ごとＣ
二切断して切断プロ噌りを得る工程と、該切断プロ噌り
の突出部を含む切断面側を接合面として鏡面研磨し第１
の半割プロ９りを得る工程と一該第１の半割プロ呼りの
鏡面研磨が施された接合面としての切断面側に二高透磁
率磁性薄膜を形成して第２の半割ブロプグを得る工程と
。 前記第１．第２の半割ブロヅクの接合面同志金製き合わ
せて接合し本体プロ噌グを得る工程と、該本体プロ雫り
を第２溝部（又は第１溝部）Ｉ：″Ｃ所要のへリド幅に
切断する工程とを含む垂直型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21473183A JPS60106013A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | 垂直型磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21473183A JPS60106013A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | 垂直型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60106013A true JPS60106013A (ja) | 1985-06-11 |
Family
ID=16660671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21473183A Pending JPS60106013A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | 垂直型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60106013A (ja) |
-
1983
- 1983-11-14 JP JP21473183A patent/JPS60106013A/ja active Pending
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