JPS60102726A - トリミングコンデンサ及びその製造方法 - Google Patents
トリミングコンデンサ及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS60102726A JPS60102726A JP21013083A JP21013083A JPS60102726A JP S60102726 A JPS60102726 A JP S60102726A JP 21013083 A JP21013083 A JP 21013083A JP 21013083 A JP21013083 A JP 21013083A JP S60102726 A JPS60102726 A JP S60102726A
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- Japan
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- electrode
- capacitance
- capacitor
- layer
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- Pending
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は容量調整可能な厚膜及び薄膜のトリミのである
。
。
従来例の構成とその問題点
絶縁基板上に形成するコンデンサは一般に第1図のよう
に絶縁基板1の上に電極層2、誘電体層3を交互に積み
重ねる構造である。現在、一般的に用いられているハイ
ブリットIC」=の厚膜コンデンサの場合、電極層をA
f/Pd系厚膜ペースト、誘電体層をガラス系厚膜ペー
ストとしてスクリーン印刷法等により所望の寸法形状に
アルミナ基板上へ塗布し乾燥・焼成して形成する。薄膜
コンデンサの場合、電極層をMo、Ni等、誘電体層を
S 102 、 T a 02等として真空蒸着法によ
り電極層。
に絶縁基板1の上に電極層2、誘電体層3を交互に積み
重ねる構造である。現在、一般的に用いられているハイ
ブリットIC」=の厚膜コンデンサの場合、電極層をA
f/Pd系厚膜ペースト、誘電体層をガラス系厚膜ペー
ストとしてスクリーン印刷法等により所望の寸法形状に
アルミナ基板上へ塗布し乾燥・焼成して形成する。薄膜
コンデンサの場合、電極層をMo、Ni等、誘電体層を
S 102 、 T a 02等として真空蒸着法によ
り電極層。
誘電体層をアルミナ等の基板上に形成している。
コンデンサ容量Cは誘電体材料の誘電率ε、有効電極面
積S1有効誘電体層厚さTで下記の式■からめられる。
積S1有効誘電体層厚さTで下記の式■からめられる。
但し式中のKは定数である。
c==x・8丁 ・・・・・・・・・・■式■から明ら
かなようにコンデンサ容量精度に犬3 ページ きく影響を与える因子は有効電極面積、有効誘電体層厚
さである。特に厚膜コンデンサの場合、現状のスクリー
ン印刷技術では印刷精度に関与するスクリーン版のパタ
ーン精度、乳剤厚さ精度、印刷ペーストの状態、スキー
ジゴムの硬度、さラニは印刷圧力、印刷ギャップ、印刷
スピード等全ての諸条件を厳密に調整することは非常に
困難である。従って厚膜コンデンサでは容量の高精度化
が困難であり、現状のレベルでは実用できないとされて
いる。
かなようにコンデンサ容量精度に犬3 ページ きく影響を与える因子は有効電極面積、有効誘電体層厚
さである。特に厚膜コンデンサの場合、現状のスクリー
ン印刷技術では印刷精度に関与するスクリーン版のパタ
ーン精度、乳剤厚さ精度、印刷ペーストの状態、スキー
ジゴムの硬度、さラニは印刷圧力、印刷ギャップ、印刷
スピード等全ての諸条件を厳密に調整することは非常に
困難である。従って厚膜コンデンサでは容量の高精度化
が困難であり、現状のレベルでは実用できないとされて
いる。
このような容量値の精度の悪さを改善し実用化させるた
めに最近では種々の容量調整方法が提案されている。以
下その代表的な容量調整方法について説明し、その問題
点について述べてみる。第1図のように絶縁基板1の上
に電極層2、誘電体層3を交互に形成し、焼成して厚膜
コンデンサを作成する。このようなコンデンサの容量を
調整するために第2図、第3図に示すようにレーザービ
ーム等で上部電極層4を所定量切断して容量発生に寄与
する有効電極面積を減少させ、その結果コンデンサ容量
を減少させながら目標の容量値に近づける方法が一般的
である。上記方法の場合、第3図に示すように上部電極
層4の過剰電極部分を完全に切り離すことが必要である
ため切断溝7の深さを誘電体層中まで至らしめるなけれ
ばならない。
めに最近では種々の容量調整方法が提案されている。以
下その代表的な容量調整方法について説明し、その問題
点について述べてみる。第1図のように絶縁基板1の上
に電極層2、誘電体層3を交互に形成し、焼成して厚膜
コンデンサを作成する。このようなコンデンサの容量を
調整するために第2図、第3図に示すようにレーザービ
ーム等で上部電極層4を所定量切断して容量発生に寄与
する有効電極面積を減少させ、その結果コンデンサ容量
を減少させながら目標の容量値に近づける方法が一般的
である。上記方法の場合、第3図に示すように上部電極
層4の過剰電極部分を完全に切り離すことが必要である
ため切断溝7の深さを誘電体層中まで至らしめるなけれ
ばならない。
このように切断溝を誘電体層中まで深くした時、切断中
の機械的、熱的ストレスのだめに誘電層中にマイクロク
ラックが発生する。このマイクロクラックはコンデンサ
の諸特性のうち特に容量バラツキ、tanδ(Q)値の
劣化、耐電圧特性の劣化等の大きな要因となりこの方法
は現状では実用化に対して大きな問題がある。
の機械的、熱的ストレスのだめに誘電層中にマイクロク
ラックが発生する。このマイクロクラックはコンデンサ
の諸特性のうち特に容量バラツキ、tanδ(Q)値の
劣化、耐電圧特性の劣化等の大きな要因となりこの方法
は現状では実用化に対して大きな問題がある。
発明の目的
本発明は上記欠点を解決し、種々の特性劣化の問題を生
じさせることなくコンデンサ容量を容易に調整できる厚
膜あるいは薄膜コンデンサに関するものである。
じさせることなくコンデンサ容量を容易に調整できる厚
膜あるいは薄膜コンデンサに関するものである。
発明の構成
本発明の厚膜あるいは薄膜コンデンサは誘電体層をはさ
む二対の電極層のうちどちらか一つの電5 ページ 極層が一方の共通端子から他方へ複数に分岐しており分
岐した電極層がその共通端子付近で誘電層と重なってい
ない部分を有する構造をしており、コンデンサ容量を調
整する場合には上記分岐電極層の誘電体層と重なってい
ない部分を切断し分岐電極を共通端子から切り離すこと
により容量発生に寄与する有効電極面積を減少させて目
標の容量に近ずけるものであり、従来の方法のように誘
電層中にマイクロクラックを発生させず諸特性を劣化さ
せること々くコンデンサ容量を容易に調整できるもので
ある。
む二対の電極層のうちどちらか一つの電5 ページ 極層が一方の共通端子から他方へ複数に分岐しており分
岐した電極層がその共通端子付近で誘電層と重なってい
ない部分を有する構造をしており、コンデンサ容量を調
整する場合には上記分岐電極層の誘電体層と重なってい
ない部分を切断し分岐電極を共通端子から切り離すこと
により容量発生に寄与する有効電極面積を減少させて目
標の容量に近ずけるものであり、従来の方法のように誘
電層中にマイクロクラックを発生させず諸特性を劣化さ
せること々くコンデンサ容量を容易に調整できるもので
ある。
実施例の説明
以下本発明の実施例を示す。
〈実施例1〉
第4図、第5図に示すようにアルミナ基板9の上にAf
’−Pd系導体厚膜ペーストをスクリーン印刷法により
所定の形状に印刷し乾燥後焼成して下部電極10形成す
る。その上にガラス系誘電体厚膜ペーストを同様にして
印刷、乾燥、焼成して誘電体層11を形成する。さらに
その上に上部電極6 ページ 層12を形成し、以上のようにして厚膜コンデンサを作
成する。但し第5図のように上部電極層12はアルミナ
基板9上に共通端子を有し、分岐電極は誘電体層11の
上に重なっている部分と共通端子付近での重なっていな
い部分とがある。なおこの分岐電極の形状は全て同一形
状である。
’−Pd系導体厚膜ペーストをスクリーン印刷法により
所定の形状に印刷し乾燥後焼成して下部電極10形成す
る。その上にガラス系誘電体厚膜ペーストを同様にして
印刷、乾燥、焼成して誘電体層11を形成する。さらに
その上に上部電極6 ページ 層12を形成し、以上のようにして厚膜コンデンサを作
成する。但し第5図のように上部電極層12はアルミナ
基板9上に共通端子を有し、分岐電極は誘電体層11の
上に重なっている部分と共通端子付近での重なっていな
い部分とがある。なおこの分岐電極の形状は全て同一形
状である。
第4図中で誘電体層の厚さをT、誘電体層の誘電率をε
、第5図中で上部分岐電極の幅をW1上部分岐電極と下
部電極とのオーバーラツプ長さをLlさらに分岐電極の
個数をnとすると上記コンデンサの容量Cは下式■とな
る。
、第5図中で上部分岐電極の幅をW1上部分岐電極と下
部電極とのオーバーラツプ長さをLlさらに分岐電極の
個数をnとすると上記コンデンサの容量Cは下式■とな
る。
W
C二に、ε’ −−n −1゜010191.■但しK
は定数である。コンデンサ容量Cは目標値よりも大きめ
に設計し作成しておくことが重要である。容量調整を行
う場合、第6図、第7図のように分岐電極13の誘電体
層14と重なってい乞い部分にレーザー光で切断溝15
を形成し共通端子部と分岐電極部とを切り離し有効電極
面積を減少させ、そしてコンデンサ容量を減少させ過剰
7 ページ 容量を減じながら目標値の容量まで倒達させてゆく。減
少するコンデンサ容量は初期容量値に対して分岐電極1
本当り■式より−×100%となる。
は定数である。コンデンサ容量Cは目標値よりも大きめ
に設計し作成しておくことが重要である。容量調整を行
う場合、第6図、第7図のように分岐電極13の誘電体
層14と重なってい乞い部分にレーザー光で切断溝15
を形成し共通端子部と分岐電極部とを切り離し有効電極
面積を減少させ、そしてコンデンサ容量を減少させ過剰
7 ページ 容量を減じながら目標値の容量まで倒達させてゆく。減
少するコンデンサ容量は初期容量値に対して分岐電極1
本当り■式より−×100%となる。
具体的に分岐電極が10本ならば10%、20本ならば
6%である。上記のように試作した厚膜コンデンサは測
定端子を各々上下電極に当て容量値を確認しながら分岐
電極を1本づつ切断して容易に目標容量値を達成するこ
とができた。さらに切断溝15が誘電体層14に影響を
与えないアルミナ基板16上に形成されるだめ、誘電体
層14にマイクロラック等の悪影響を与えることなく諸
電気特性の劣化も全く見られなかった。上記実施例はア
ルミナ基板上の厚膜コンデンサに関するものであるが、
薄膜コンデンサについても同様に良好な結果を得ること
ができた。
6%である。上記のように試作した厚膜コンデンサは測
定端子を各々上下電極に当て容量値を確認しながら分岐
電極を1本づつ切断して容易に目標容量値を達成するこ
とができた。さらに切断溝15が誘電体層14に影響を
与えないアルミナ基板16上に形成されるだめ、誘電体
層14にマイクロラック等の悪影響を与えることなく諸
電気特性の劣化も全く見られなかった。上記実施例はア
ルミナ基板上の厚膜コンデンサに関するものであるが、
薄膜コンデンサについても同様に良好な結果を得ること
ができた。
〈実施例2〉
第8図、第9図のように実施例とは逆にアルミナ基板1
6上の下部電極層18を分岐電極に、そしてその上に誘
電体層19、さらにその上に上部電極層20を形成して
コンデンサを作成した。下部電極層18は共通端子部と
その付近の分岐電極の一部が誘電体層に覆われてなく、
その分岐電極部分をレーザ光により切断してコンデンサ
容量を調整した。コンデンサ容量の調整の容易さ及び、
トリミング後の諸電気特性の安定性に関しては前記実施
例1の場合と同様に良好であった。
6上の下部電極層18を分岐電極に、そしてその上に誘
電体層19、さらにその上に上部電極層20を形成して
コンデンサを作成した。下部電極層18は共通端子部と
その付近の分岐電極の一部が誘電体層に覆われてなく、
その分岐電極部分をレーザ光により切断してコンデンサ
容量を調整した。コンデンサ容量の調整の容易さ及び、
トリミング後の諸電気特性の安定性に関しては前記実施
例1の場合と同様に良好であった。
発明の効果
以上のように本発明の厚膜あるいは薄膜コンデンサは誘
電体層をはさむ対向電極のうちどちらか一つの電極層が
一方の共通端子から他方に多数に分岐しており、分岐し
た電極層がその共通端子付近で上記誘電体層と重なって
おらず、容量調整の場合にはその分岐電極部を切断する
ことから切断時における誘電体層中のマイクロクラック
の発生がないため、容量調整後の緒特性が非常に安定し
電体層をはさむ対向電極のうちどちらか一つの電極層が
一方の共通端子から他方に多数に分岐しており、分岐し
た電極層がその共通端子付近で上記誘電体層と重なって
おらず、容量調整の場合にはその分岐電極部を切断する
ことから切断時における誘電体層中のマイクロクラック
の発生がないため、容量調整後の緒特性が非常に安定し
第1図は従来のコンデンサの断面図、第2図は容量調整
のため誘電層の途中まで切断溝が入った9 ページ コンデンサの断面図、第3図は同平面図、第4図は本発
明の一実施例におけるコンデンサの断面図、第6図は同
コンデンサの平面図、第6図は容量調整のだめの切断溝
が誘電体層でかく基板層中の途中まで入った本発明の実
施例におけるコンデンサの断面図、第7図は同平面図、
第8図は本発明の他の実施例を示す断面図、第9図は同
平面図である0 1.8.9・・・・・絶縁基板、2・・・・・・電極層
、3゜11.14,19・・・・・誘電体層、4,5,
12゜2o・・・・・・上部電極層、6,10,18・
・・・・下部電極層、7.16・・・・・切断溝、13
・・・・・・分岐電極、16.1了・・・・・・アルミ
ナ基板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第4図 第5図 第6図
のため誘電層の途中まで切断溝が入った9 ページ コンデンサの断面図、第3図は同平面図、第4図は本発
明の一実施例におけるコンデンサの断面図、第6図は同
コンデンサの平面図、第6図は容量調整のだめの切断溝
が誘電体層でかく基板層中の途中まで入った本発明の実
施例におけるコンデンサの断面図、第7図は同平面図、
第8図は本発明の他の実施例を示す断面図、第9図は同
平面図である0 1.8.9・・・・・絶縁基板、2・・・・・・電極層
、3゜11.14,19・・・・・誘電体層、4,5,
12゜2o・・・・・・上部電極層、6,10,18・
・・・・下部電極層、7.16・・・・・切断溝、13
・・・・・・分岐電極、16.1了・・・・・・アルミ
ナ基板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第4図 第5図 第6図
Claims (2)
- (1)誘電体層とこの誘電体層をはさむ少なくとも二対
の電極層からなり、上記電極層のうちどちらが一つの電
極層が一方の共通端子から他方に複数に分岐しておシ、
分岐した電極層がその共通端子付近でト記誘電層と重な
っていない部分を有する厚膜及び薄膜のトリミングコン
デンサ。 - (2)誘電体層とこの誘電体層をはさむ少なくとも二対
の電極層からなり、電極層が一方の共通端子から他方に
複数に分岐したコンデンサの容量を調整するトリミング
コンデンサの製造方法において、誘電体層と重なってい
ない分岐電極層の部分を切断し共通端子から分離してコ
ンデンサ容量を調整するトリミングコンデンサの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21013083A JPS60102726A (ja) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | トリミングコンデンサ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21013083A JPS60102726A (ja) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | トリミングコンデンサ及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60102726A true JPS60102726A (ja) | 1985-06-06 |
Family
ID=16584282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21013083A Pending JPS60102726A (ja) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | トリミングコンデンサ及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60102726A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6974744B1 (en) | 2000-09-05 | 2005-12-13 | Marvell International Ltd. | Fringing capacitor structure |
US6980414B1 (en) | 2004-06-16 | 2005-12-27 | Marvell International, Ltd. | Capacitor structure in a semiconductor device |
-
1983
- 1983-11-09 JP JP21013083A patent/JPS60102726A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6974744B1 (en) | 2000-09-05 | 2005-12-13 | Marvell International Ltd. | Fringing capacitor structure |
US9017427B1 (en) | 2001-01-18 | 2015-04-28 | Marvell International Ltd. | Method of creating capacitor structure in a semiconductor device |
US6980414B1 (en) | 2004-06-16 | 2005-12-27 | Marvell International, Ltd. | Capacitor structure in a semiconductor device |
US7116544B1 (en) | 2004-06-16 | 2006-10-03 | Marvell International, Ltd. | Capacitor structure in a semiconductor device |
US7578858B1 (en) | 2004-06-16 | 2009-08-25 | Marvell International Ltd. | Making capacitor structure in a semiconductor device |
US7988744B1 (en) | 2004-06-16 | 2011-08-02 | Marvell International Ltd. | Method of producing capacitor structure in a semiconductor device |
US8537524B1 (en) | 2004-06-16 | 2013-09-17 | Marvell International Ltd. | Capacitor structure in a semiconductor device |
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