JPS60100693A - 電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法 - Google Patents
電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法Info
- Publication number
- JPS60100693A JPS60100693A JP20679483A JP20679483A JPS60100693A JP S60100693 A JPS60100693 A JP S60100693A JP 20679483 A JP20679483 A JP 20679483A JP 20679483 A JP20679483 A JP 20679483A JP S60100693 A JPS60100693 A JP S60100693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- nip
- strip
- plating
- steel strip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、電気メッキにおけるニップマスクの位置制御
方法に関するものである。
方法に関するものである。
詳しくはメッキ鏑帯ニップとニップマスクの距離を制御
しメッキぐ４帯のニップ部のメッキオーバーコートを防
止するものである。
しメッキぐ４帯のニップ部のメッキオーバーコートを防
止するものである。
（従来技術）
ニップオーバーコートの防止技術として、メッキ銅帯両
端部にニップマスクを配置することが知られており、又
メッキ鋼帯の蛇行、メッキ鋼帯の巾サイズ変更に追従し
てニップマスクを移動することも例えば、特開昭５８−
８１９９２号公報で知られている。
端部にニップマスクを配置することが知られており、又
メッキ鋼帯の蛇行、メッキ鋼帯の巾サイズ変更に追従し
てニップマスクを移動することも例えば、特開昭５８−
８１９９２号公報で知られている。
しかして、このようなニップマスクの制御ではニツデマ
ヌク移動機構の遊び、メッキ鋼帯とニップマスクの平行
度、メッキ鋼帯の反シ等の形状の影響を受け原理的には
可能であるが、実際上エッヂオーバーコートあるいは片
面メッキの裏廻り防止に要求される精度を満足すること
はできない。
ヌク移動機構の遊び、メッキ鋼帯とニップマスクの平行
度、メッキ鋼帯の反シ等の形状の影響を受け原理的には
可能であるが、実際上エッヂオーバーコートあるいは片
面メッキの裏廻り防止に要求される精度を満足すること
はできない。
（発明の目的）
本究明は、このような欠点をイ（Δ−りに解決するため
なされたものでちゃ、その特徴とするところは、メッキ
鋼帯とニップマスク間の電位をＩｌｌ定し、該電位値に
セ、曙キ、ニップマスクを作動し、メッキ鋼帯とニップ
マスク間の距離を制御することを特徴とする、電気メッ
キにおけるニップマスクの位置制御方法に関するもので
ある。
なされたものでちゃ、その特徴とするところは、メッキ
鋼帯とニップマスク間の電位をＩｌｌ定し、該電位値に
セ、曙キ、ニップマスクを作動し、メッキ鋼帯とニップ
マスク間の距離を制御することを特徴とする、電気メッ
キにおけるニップマスクの位置制御方法に関するもので
ある。
（うこ明の構成、作用）
メッキ液甲（連続導体内）においては、オームの法則が
適用でき、従って、メッキ液の導電率をσとすると、電
位Ｖ（電界Ｅ）の点での電流密度ｊとの間には、次の関
係が成立する。
適用でき、従って、メッキ液の導電率をσとすると、電
位Ｖ（電界Ｅ）の点での電流密度ｊとの間には、次の関
係が成立する。
ｊ−σΦＥ
＝−σ” ｇｒａｄ Ｖ
従ってニップマスクとメッキ鋼帯の間を電流が流れれば
、その電流値と、ニップマスクとメッキ銅帯の間隙量に
応じて電位Ｖが生起する。そこで、この電位を測定し、
所定電流値以下になるよう、ニップマスクを作動（移動
）して、メ゛ツキ銅帯とニップマスクの間隙（距離）を
制御することによシメッキ鋼帯ニップへの多量の電流集
中を防止し１、ニップのオーバーコートを確実に防止す
るものである。
、その電流値と、ニップマスクとメッキ銅帯の間隙量に
応じて電位Ｖが生起する。そこで、この電位を測定し、
所定電流値以下になるよう、ニップマスクを作動（移動
）して、メ゛ツキ銅帯とニップマスクの間隙（距離）を
制御することによシメッキ鋼帯ニップへの多量の電流集
中を防止し１、ニップのオーバーコートを確実に防止す
るものである。
又片面眠気メッキにおいてもメッキ′ＭＡＮとニップマ
スクとの間隙が大きくなっていると、その部位から非メ
ッキ面に電流が流れメッキされることになるが、上記の
ごとく、メッキ鋼帯とニップマスク間隙の電流（電位）
を測定し、一定値以下になるようにメッキ＠帯とニップ
マスクの間隙を制御して、非メツキ面上にメッキがされ
ない９度の電流値（メッキ鋼帯面上（陰極）では一般に
（支）Ｈ２発生反応、（イ）メッキ析出反応、の（７）
（イ）が互に競争反応として反応が生じており、一定′
覗流密度以下になるとＨ２発生のみとなり、メッキ析出
反応は生じない）に抑制することにより、確実な片面メ
ッキ鋼板が得られる。
スクとの間隙が大きくなっていると、その部位から非メ
ッキ面に電流が流れメッキされることになるが、上記の
ごとく、メッキ鋼帯とニップマスク間隙の電流（電位）
を測定し、一定値以下になるようにメッキ＠帯とニップ
マスクの間隙を制御して、非メツキ面上にメッキがされ
ない９度の電流値（メッキ鋼帯面上（陰極）では一般に
（支）Ｈ２発生反応、（イ）メッキ析出反応、の（７）
（イ）が互に競争反応として反応が生じており、一定′
覗流密度以下になるとＨ２発生のみとなり、メッキ析出
反応は生じない）に抑制することにより、確実な片面メ
ッキ鋼板が得られる。
このメッキ鋼帯とニップマスクの間隙の電流（電位）を
測定する方法としては、例えば、ニップマスクの中央部
に測定素子（電極等）を付設するか、又はアームの先端
に測定素子を付設し、上記間隙に位ｔ４せしめる等の態
様をとり得るものでおる。
測定する方法としては、例えば、ニップマスクの中央部
に測定素子（電極等）を付設するか、又はアームの先端
に測定素子を付設し、上記間隙に位ｔ４せしめる等の態
様をとり得るものでおる。
更には１つのニップマスクに複数個の電位測定素子を付
設すれは、ニップマスクとストップ端との平行性を把握
することが可能とな９ニツプマスクの位置制御（平行度
、距離）を最適にするととも容易となる。
設すれは、ニップマスクとストップ端との平行性を把握
することが可能とな９ニツプマスクの位置制御（平行度
、距離）を最適にするととも容易となる。
次に本発明の実７ｉｉ！ｉＢ様例を図面に上り説明する
。
。
図面において、メッキ＠帯ｌの両側に電極２．２′を配
置し、メッキ鋼帯１の両端部にニップマスク３．３′を
設け、このニップマスク３，３′の中央部に測定素子４
．４′を設の、する。
置し、メッキ鋼帯１の両端部にニップマスク３．３′を
設け、このニップマスク３，３′の中央部に測定素子４
．４′を設の、する。
しかして、測定素子４．４′により、メッキ鋼帯１とニ
ップマスク３，３′との間隙（距離） ａ 、 ｄ’（
ｄ＝、／匹Ｇ亜ｚ” 、 ｄ’＝、／戸〒万〒戸）を調
整し、この間隙ｄ 、 ｄ’を流れる電流値を一定値以
下に制御して、ニップオーバーコート又は片面メッキの
非メッキ面へのメッキを防止するものである。
ップマスク３，３′との間隙（距離） ａ 、 ｄ’（
ｄ＝、／匹Ｇ亜ｚ” 、 ｄ’＝、／戸〒万〒戸）を調
整し、この間隙ｄ 、 ｄ’を流れる電流値を一定値以
下に制御して、ニップオーバーコート又は片面メッキの
非メッキ面へのメッキを防止するものである。
このように本発明はニップマスクとメッキ鋼帯ニップと
の位置関係を定倉的に把握するとともに連続監視するこ
ともできることがら、ニップマスクの鰍適位置制御か容
易となシ、操業上極めて有利となる。
の位置関係を定倉的に把握するとともに連続監視するこ
ともできることがら、ニップマスクの鰍適位置制御か容
易となシ、操業上極めて有利となる。
しかも本発明は、柱々の形状、サイズのニップマスクに
も適用可能で、かつ、あらゆる種類のメッキ浴に応用す
１能である。又前記従来技術に比べ従来技術は、メクラ
操業であるのに対して、本発明は実際にメッキ鋼衝ニッ
プ部、裏型シに流れる電流を測定しており、ニップマス
クの設定値に対する外乱因子、例えば、ニップマスク移
動機構に関するガタ、メッキ鋼帯の反り等が生じても、
その状態で流れる電流を監視して、その状態に応じて電
流値を限界値以下に制御できるものである。
も適用可能で、かつ、あらゆる種類のメッキ浴に応用す
１能である。又前記従来技術に比べ従来技術は、メクラ
操業であるのに対して、本発明は実際にメッキ鋼衝ニッ
プ部、裏型シに流れる電流を測定しており、ニップマス
クの設定値に対する外乱因子、例えば、ニップマスク移
動機構に関するガタ、メッキ鋼帯の反り等が生じても、
その状態で流れる電流を監視して、その状態に応じて電
流値を限界値以下に制御できるものである。
（党明の効果）
かくすることによｐ１ニップのオーバーコートを確実に
防止し、品質を向上させることができる。
防止し、品質を向上させることができる。
又片面メッキにおいては、非メッキ面へのメッキを確実
に防止し、商品価値を向上することができる等の優７″
Ｌｆｃ効来が得られる。
に防止し、商品価値を向上することができる等の優７″
Ｌｆｃ効来が得られる。
（実施例）
次に本苑明の実施例を比較例とともに４ける。
（１）両面メッキ
注：メッキ条件
１）メッキ浴組成： ＺｎＳＯ４２００Ｐ／４．（ＮＨ
４）２”０４３０９／Ｉｔ、 ｐＨ＝１ ２）電流：電極１０００Ａ （２）片面メッキ 注：メッキ条件 １）メッキ浴組成二上記両面メッキ同様２）電流：片面
（（ｌ’ｌｌｌ ）電極１０００Ａこのように本発明に
よれば優れた結果が得られた。
４）２”０４３０９／Ｉｔ、 ｐＨ＝１ ２）電流：電極１０００Ａ （２）片面メッキ 注：メッキ条件 １）メッキ浴組成二上記両面メッキ同様２）電流：片面
（（ｌ’ｌｌｌ ）電極１０００Ａこのように本発明に
よれば優れた結果が得られた。
図面は本発明方法の実施態様例を示す説明図である。
１：メッキ鋼帯 ２：電極
３：エッデマスク ４：測定素子
Claims (1)
- メッキ鋼帯とニップマスク間の電位を測定し、該電位値
に基き、ニップマスクを作動して、メッキ＠帯とニップ
マスク間の距離を制御することを特徴とする、電気メッ
キにおけるエッデマ２りの位置制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20679483A JPS60100693A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20679483A JPS60100693A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60100693A true JPS60100693A (ja) | 1985-06-04 |
Family
ID=16529202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20679483A Pending JPS60100693A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60100693A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6428395A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-30 | Nippon Kokan Kk | Method for controlling follow up to meandering in electrolyzing cell |
| WO2003083185A1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Conveyorized plating line and method for electrolytically metal plating a workpiece |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP20679483A patent/JPS60100693A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6428395A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-30 | Nippon Kokan Kk | Method for controlling follow up to meandering in electrolyzing cell |
| WO2003083185A1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Conveyorized plating line and method for electrolytically metal plating a workpiece |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6428672B1 (en) | Apparatus and method for manufacturing Ni—Fe alloy thin foil | |
| JPH0693490A (ja) | 電解金属箔の製造方法 | |
| KR101569185B1 (ko) | 불용성 전극 및 이를 구비하는 전해동박장치 | |
| KR101879080B1 (ko) | 철-니켈 합금 포일 제조장치 | |
| US4652346A (en) | Apparatus and process for the continuous plating of wide delicate metal foil | |
| KR20140122768A (ko) | 에지 과도금을 방지하기 위한 전기도금장치 | |
| JPS60100693A (ja) | 電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法 | |
| JP2019183249A (ja) | アノード遮蔽板、電解めっき装置、および金属張積層板の製造方法 | |
| JPH0338352B2 (ja) | ||
| JPS62151593A (ja) | 金属ストリツプの連続電気メツキ装置 | |
| CN210458392U (zh) | 一种用于电镀的走带装置 | |
| JPH06306695A (ja) | 金属ストリップの連続電気めっき設備ならびに幅方向めっき付着量制御方法 | |
| JPH0892783A (ja) | 水平型電気めっき装置 | |
| JPH08239796A (ja) | 電気めっき用エッジマスク装置および電気めっき方法 | |
| JPH02149696A (ja) | 電気めっきにおける板エッジ部でのめっき付着量の制御方法 | |
| JPS61190091A (ja) | 磁性合金めつき方法及び装置 | |
| JP3267875B2 (ja) | 鋼板の連続電気メッキ方法 | |
| KR20010064342A (ko) | 전기장을 이용한 전기도금강판의 도금부착량 제어장치 및제어방법 | |
| JPS62205299A (ja) | 電気鍍金用電極の電流密度調整方法 | |
| JPS62103393A (ja) | 金属ストリツプの連続電気メツキ方法 | |
| JP2619474B2 (ja) | 高速薄目付溶融メッキ法 | |
| JPS592115Y2 (ja) | 金属ストリツプの連続片面電気メツキ装置 | |
| JPS62103391A (ja) | 金属ストリツプの連続電気メツキ方法 | |
| KR100293228B1 (ko) | 연속용융도금부착량균일화장치및그방법 | |
| JPH01129992A (ja) | 合金電気めっき鋼板の製造方法およびその製造装置 |