JPS62205299A - 電気鍍金用電極の電流密度調整方法 - Google Patents
電気鍍金用電極の電流密度調整方法Info
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- JPS62205299A JPS62205299A JP4541386A JP4541386A JPS62205299A JP S62205299 A JPS62205299 A JP S62205299A JP 4541386 A JP4541386 A JP 4541386A JP 4541386 A JP4541386 A JP 4541386A JP S62205299 A JPS62205299 A JP S62205299A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ストリップ板厚による電流密度の変動幅を
小さくする′「は気鍍金用電極の電流密度、凋整方法に
関する。
小さくする′「は気鍍金用電極の電流密度、凋整方法に
関する。
電気鍍金装置の構成は第7図(a)に示されるように、
平部fil 12)が配設され、且つ鍍金浴が満たされ
た槽内にコンダクタロール(3)によりマイナスに帝、
圧されたストリップ(4)を引き込み、その表面をtj
E気鍵金するものである。
平部fil 12)が配設され、且つ鍍金浴が満たされ
た槽内にコンダクタロール(3)によりマイナスに帝、
圧されたストリップ(4)を引き込み、その表面をtj
E気鍵金するものである。
このうち、14 極n+ (21はストリップ(4)に
平行に配設され、且つその間には一定の距離が保持され
ているが、V ”K 歩11)(21の反コンダクタロ
ール(3)側端部からスI−IJツブ(4)に流れ最後
にコンダクタロール(3)に利る4流は、前記′4極(
11+21のコンダクタロール(3] ll(11端部
からストリップ(4)へ流れコンダクタロール(3)に
到るtIt流に比べ、u 仮m +21長さしに相当す
る分だけスl−IJツブ(4)を流れる時のトに気抵抗
が増大し、それに応じて小さくなることになる。従って
前記′心、甑(1)(2)からストリップ(4)へ流れ
る底流の4流密度分布は′1極11)(2+長さ方向で
不均一となる。
平行に配設され、且つその間には一定の距離が保持され
ているが、V ”K 歩11)(21の反コンダクタロ
ール(3)側端部からスI−IJツブ(4)に流れ最後
にコンダクタロール(3)に利る4流は、前記′4極(
11+21のコンダクタロール(3] ll(11端部
からストリップ(4)へ流れコンダクタロール(3)に
到るtIt流に比べ、u 仮m +21長さしに相当す
る分だけスl−IJツブ(4)を流れる時のトに気抵抗
が増大し、それに応じて小さくなることになる。従って
前記′心、甑(1)(2)からストリップ(4)へ流れ
る底流の4流密度分布は′1極11)(2+長さ方向で
不均一となる。
更に導体中を流れる1流は一般に該導体I祈面償が小さ
い程、准気抵抗は大きくなQ′)、又、その断面積が大
きい熾、混気抵抗は小さくなる。従って11工記ストリ
ツプ(4)の5.Σ気抵抗は該ストリップ(4)の板厚
の変化により変わるこ占になり、そのため上述のような
g i il) (21長さ方向で不均一な電流密度の
変動幅は更1こストリップ(4)板厚に応じて変化する
ことになる。
い程、准気抵抗は大きくなQ′)、又、その断面積が大
きい熾、混気抵抗は小さくなる。従って11工記ストリ
ツプ(4)の5.Σ気抵抗は該ストリップ(4)の板厚
の変化により変わるこ占になり、そのため上述のような
g i il) (21長さ方向で不均一な電流密度の
変動幅は更1こストリップ(4)板厚に応じて変化する
ことになる。
一方、本発明者等は、@極(11+21長さ方向での電
流密度の不均一を防止するため、新たな手段を開発し、
その提案を行なった。この手段は上記したようにストリ
ップ(4)各点からコンダクタロール(3)へ流れる電
流の電気抵抗が、ストIJツブ(4)を流れる間の距1
41Iこ比例して大きくなることを前提とし、これまで
i 11111 [2)長さ方向のどの点でも一定であ
った鍍金液抵抗を、第7図(b)に示されるように電極
+1) +21の表面に一定の曲率を設けることにより
該1@ +x+ (21長さ方向で変化せしめ、それに
より両抵抗(ストリップのi4気抵抗及び鍍金液抵抗)
の和を電極111 (21長さ方向で一定にせんとする
ものである。
流密度の不均一を防止するため、新たな手段を開発し、
その提案を行なった。この手段は上記したようにストリ
ップ(4)各点からコンダクタロール(3)へ流れる電
流の電気抵抗が、ストIJツブ(4)を流れる間の距1
41Iこ比例して大きくなることを前提とし、これまで
i 11111 [2)長さ方向のどの点でも一定であ
った鍍金液抵抗を、第7図(b)に示されるように電極
+1) +21の表面に一定の曲率を設けることにより
該1@ +x+ (21長さ方向で変化せしめ、それに
より両抵抗(ストリップのi4気抵抗及び鍍金液抵抗)
の和を電極111 (21長さ方向で一定にせんとする
ものである。
しかし、以上の手段もストリップ(4)板厚がある一定
の場合に有効であって、該板厚が変わった場合には、前
提となるストリップ(4)の電気抵抗が変化し1.再び
電流密度にバラツキを生ずることになる。
の場合に有効であって、該板厚が変わった場合には、前
提となるストリップ(4)の電気抵抗が変化し1.再び
電流密度にバラツキを生ずることになる。
これtこ対し、Fe −Zn 、Zn−Ni 、 Zn
−Mn等の合金電気鍍金鋼板の製造においては、電流
′0&j度により、鍍金皮膜中の合金組成、皮膜性能等
が変化するため、@a、密度の均一化が必要となる。
−Mn等の合金電気鍍金鋼板の製造においては、電流
′0&j度により、鍍金皮膜中の合金組成、皮膜性能等
が変化するため、@a、密度の均一化が必要となる。
本発明は以上のような問題に話みj’tII案されたも
ので、ストリップの板厚変動による(流密度の変mJ幅
を小さくすることを目的としている。
ので、ストリップの板厚変動による(流密度の変mJ幅
を小さくすることを目的としている。
ストリップ(4)各点からコンダクタロール(3)まで
の間の各距離に応じて異なる電気抵抗のため、電極11
1 tz+長さ方向で電流密度分布のバラツキが生ずる
が、更にこのバラツキがある場合の電流密度の変動幅は
ストリップ(4)の板厚により変化することは前述の通
りである。
の間の各距離に応じて異なる電気抵抗のため、電極11
1 tz+長さ方向で電流密度分布のバラツキが生ずる
が、更にこのバラツキがある場合の電流密度の変動幅は
ストリップ(4)の板厚により変化することは前述の通
りである。
即ち、ストリップ(4)の板厚が厚くなれば該ストリッ
プ(4)の電気抵抗は小さくなり、そのため第7図(a
)に示される従来型を極[11(2+の場合、電流密度
の変動幅も小さくなる0反対に板厚が薄い程、1.IJ
記磁電流密度変動幅は大きくなる。
プ(4)の電気抵抗は小さくなり、そのため第7図(a
)に示される従来型を極[11(2+の場合、電流密度
の変動幅も小さくなる0反対に板厚が薄い程、1.IJ
記磁電流密度変動幅は大きくなる。
又、第7図(b)に示される改良城電極11) +21
を用いて電気鍍金を行なった場合、ストIJツブ(4)
の板厚がある一定の所でα流密度分布が均一化され、そ
の変!Ih幅は0となるが、板厚が変われば’!! f
i 密度分布にバラツキが生じ、電流密度の変動幅が増
大することになる。
を用いて電気鍍金を行なった場合、ストIJツブ(4)
の板厚がある一定の所でα流密度分布が均一化され、そ
の変!Ih幅は0となるが、板厚が変われば’!! f
i 密度分布にバラツキが生じ、電流密度の変動幅が増
大することになる。
そこで本発明者等は前述した改良を′電極(1)+21
をI’lfl案する時に基礎となった、スl−IJツブ
′(4)−電極+11 +21間の鍍金液抵抗と該スト
リップ(4)の電気抵抗の和を% 極ill 121長
さ方向で一定にせしめるという着想を基に、上記の問題
の解決を図ろうと考えた。
をI’lfl案する時に基礎となった、スl−IJツブ
′(4)−電極+11 +21間の鍍金液抵抗と該スト
リップ(4)の電気抵抗の和を% 極ill 121長
さ方向で一定にせしめるという着想を基に、上記の問題
の解決を図ろうと考えた。
即ち、スl−IJツブ(4)板厚が変わって該ストリッ
プ(4)の電気抵抗が変化した場合に、コンダクタロー
ル(3)から6距離に応じて異なるストリップ(4)各
点における電気抵抗が更に変動することになるため、こ
れを補正する目的でその変動量に対応させて前記鍍金液
抵抗を前記tE ffl [11(21長さ方向で異な
らしめれば、以上のような場合でも、ストリップ(4)
−′flL極+IJ 121間の鍍金液抵抗と該スト
リップ(4)の電気抵抗の和を電極il+ 121長さ
方向でほぼ一定にすることができるのではないかと考え
た。
プ(4)の電気抵抗が変化した場合に、コンダクタロー
ル(3)から6距離に応じて異なるストリップ(4)各
点における電気抵抗が更に変動することになるため、こ
れを補正する目的でその変動量に対応させて前記鍍金液
抵抗を前記tE ffl [11(21長さ方向で異な
らしめれば、以上のような場合でも、ストリップ(4)
−′flL極+IJ 121間の鍍金液抵抗と該スト
リップ(4)の電気抵抗の和を電極il+ 121長さ
方向でほぼ一定にすることができるのではないかと考え
た。
本発明者等はこのような基本思想を基に、ストリップ各
点における電気抵抗の変動量に対応させて鍍金液抵抗を
框極長さ方向で異ならしめる構成を検討し、本発明をa
ll案するに到った。
点における電気抵抗の変動量に対応させて鍍金液抵抗を
框極長さ方向で異ならしめる構成を検討し、本発明をa
ll案するに到った。
本発明は第1図(a)に示すように、5隊fl)(2)
長さ方向表面におけるコンダクタロール(3)駒のスト
リップ(4)−電極tl+ +21 Tijj距離と、
反対側のストリップ+4+ −19:極11+ (21
間距離の差Hを、ストリップ(4)板厚tに応じて変化
させるようにしたものである。
長さ方向表面におけるコンダクタロール(3)駒のスト
リップ(4)−電極tl+ +21 Tijj距離と、
反対側のストリップ+4+ −19:極11+ (21
間距離の差Hを、ストリップ(4)板厚tに応じて変化
させるようにしたものである。
この場合、上記のi Hは次式に示すようにストリップ
(4)板厚tに反比例することになる。
(4)板厚tに反比例することになる。
H=c/l
t ニストリップ(4)板厚
C:液抵抗により定まる定数
又、同図(b)に示すように[極光面に一定の曲率を設
けた改良型電極+11 +21を使用した場合も同様で
ある。
けた改良型電極+11 +21を使用した場合も同様で
ある。
ここで一定の曲率とは、ストリップ(4)板厚がある一
定値の場合に前述のようにスl−IJ・ノブ(4)各点
における該ストIJツブ(4)の電気抵抗に応じてスト
IJツブ(4)−電極(1)(2)間距離を電極+11
+21長さ方向で変化させ、ストリップ(4)の電気
抵抗と液抵抗の和を一定にせしめることができるように
設けられるものであって、次式により決定される。
定値の場合に前述のようにスl−IJ・ノブ(4)各点
における該ストIJツブ(4)の電気抵抗に応じてスト
IJツブ(4)−電極(1)(2)間距離を電極+11
+21長さ方向で変化させ、ストリップ(4)の電気
抵抗と液抵抗の和を一定にせしめることができるように
設けられるものであって、次式により決定される。
ρ、(x−x”/2L) = p、b
PIニストリップ4)の°1に気抵抗により定まる定数
ρ、:液抵抗により定まる定数 X :コンダクタローノLA31側?[4+11121
先溝からの距離 h :曲率 工メ:電極H1121長 この場合も、前述の差I(は次式に示すようjこストリ
ップ(4)板厚tに反比例することになる。
ρ、:液抵抗により定まる定数 X :コンダクタローノLA31側?[4+11121
先溝からの距離 h :曲率 工メ:電極H1121長 この場合も、前述の差I(は次式に示すようjこストリ
ップ(4)板厚tに反比例することになる。
Hm(Hm+Δh)=e/l
Hm:亀へ+1)(21縦方向移動量
Δh : ’1Jjj、梶H1[21の曲率濃(7!、
j恢fl1121をストリップ(4)に平行に配した場
合のコンダクタロール3)側の′4極(1)(2)−ス
l−IJツ’7’Y41間距離と反対側の4極FIX2
1−ストリツ″:A4)間距離の差に相当する) 〔実施例1〕 本発明者等は、まず連続式両面′Iに気rt金装B*
Ic%長さ1400 m ノNm (pb−Ag)
dノ従来型電極及び改良型電極を夫々設置し、硫酸亜
鉛(Zn5O,) を含有する猷金液を(14だしな
がら、被鍍金材となるストリップの板jvを[’1.4
〜1.6簡のQ囲で変更して各電極長さ方向の・ル流′
&j度分布を調べる実験を行なった。
j恢fl1121をストリップ(4)に平行に配した場
合のコンダクタロール3)側の′4極(1)(2)−ス
l−IJツ’7’Y41間距離と反対側の4極FIX2
1−ストリツ″:A4)間距離の差に相当する) 〔実施例1〕 本発明者等は、まず連続式両面′Iに気rt金装B*
Ic%長さ1400 m ノNm (pb−Ag)
dノ従来型電極及び改良型電極を夫々設置し、硫酸亜
鉛(Zn5O,) を含有する猷金液を(14だしな
がら、被鍍金材となるストリップの板jvを[’1.4
〜1.6簡のQ囲で変更して各電極長さ方向の・ル流′
&j度分布を調べる実験を行なった。
電極がストリップと平行な場合のストリップ−電極間距
離は15藺である。又、改良型電極の表面にはその長さ
方向に、 で表わされる曲率が設けられている。更に鍍金液比抵抗
は! 1. I Qcrpr、 スl−IJツブ比抵
抗は12゜5X10−’flcInであった。
離は15藺である。又、改良型電極の表面にはその長さ
方向に、 で表わされる曲率が設けられている。更に鍍金液比抵抗
は! 1. I Qcrpr、 スl−IJツブ比抵
抗は12゜5X10−’flcInであった。
以上の実験から第2図(a) (b)に示す清果を得た
。同図(a)は上記各電極を鍍金槽に夫々固定して電気
鍍金を行なった場合のストリップ板厚変動に対応する厄
流密度変動を示したグラフ図であり、実線は従来型電極
、破線は改良)M1!極の場合を告示している。これに
対し同図(b)は、第3図(a) (b)に示すように
従来型室(@ fi+ +21及び改良型tル甑(1)
(2)の反コンダクタロール(3+ $!11のある部
分Aを支点に回動できる4成、とし、ストリップ(4)
の板厚が前述の範囲で変・初した場合に、成極(11+
21を回動させることで、電極m 121長さ方向表面
におけるコンダクタロール(3)側のストリップ+41
− +1極(11(21間距離と、反対側のストリップ
+41− ′Q極tl+ +21間距離の差を、ストリ
ップ(4)板厚に反比例せしめるように調整する本発明
法を実施し、その時のストリップ(4)の板厚変動に対
応する“硯流′8!度変動を示したグラフ図である。
。同図(a)は上記各電極を鍍金槽に夫々固定して電気
鍍金を行なった場合のストリップ板厚変動に対応する厄
流密度変動を示したグラフ図であり、実線は従来型電極
、破線は改良)M1!極の場合を告示している。これに
対し同図(b)は、第3図(a) (b)に示すように
従来型室(@ fi+ +21及び改良型tル甑(1)
(2)の反コンダクタロール(3+ $!11のある部
分Aを支点に回動できる4成、とし、ストリップ(4)
の板厚が前述の範囲で変・初した場合に、成極(11+
21を回動させることで、電極m 121長さ方向表面
におけるコンダクタロール(3)側のストリップ+41
− +1極(11(21間距離と、反対側のストリップ
+41− ′Q極tl+ +21間距離の差を、ストリ
ップ(4)板厚に反比例せしめるように調整する本発明
法を実施し、その時のストリップ(4)の板厚変動に対
応する“硯流′8!度変動を示したグラフ図である。
これらのグラフ図によれば、従来型′4礪を前者のよう
に固定して設定した、場合は、ストリップの板厚変動に
反比例してシ流′7ヒ度変幼が起き、その変動幅はおよ
そ5係以上であるのに対し、この電極を第3図(、)の
ようにストリップ板厚変動に対応させて適宜回動せしめ
た場合は同じくストリップ板厚変・曲に反比例して電流
密度変・効が起るもののその変動幅は2.5冬以下とな
る。
に固定して設定した、場合は、ストリップの板厚変動に
反比例してシ流′7ヒ度変幼が起き、その変動幅はおよ
そ5係以上であるのに対し、この電極を第3図(、)の
ようにストリップ板厚変動に対応させて適宜回動せしめ
た場合は同じくストリップ板厚変・曲に反比例して電流
密度変・効が起るもののその変動幅は2.5冬以下とな
る。
更に改良型”心甑については%固定して設置した場合も
、回動できるようにして設むした場合も、ある−足のス
トリップ板厚の所で′I¥流蜜度変動がなくなり、それ
よりストリップ板厚が薄い所では、板厚変動とlL流密
度変動とが反比例する結果となり、又その板厚より厚い
範囲では、両賞:助が比例すること1こなる。
、回動できるようにして設むした場合も、ある−足のス
トリップ板厚の所で′I¥流蜜度変動がなくなり、それ
よりストリップ板厚が薄い所では、板厚変動とlL流密
度変動とが反比例する結果となり、又その板厚より厚い
範囲では、両賞:助が比例すること1こなる。
しかし、)ヒ匝を固定した場合に比べ、ストリップ板厚
変動に対応させて電べを適宜回動せしめた場合には、電
流密度変動幅が極めて小さくなり、ストリップの板厚が
変動した場合でも、’ljI極長さ方向における′+!
流密度分布の均一化が達成できる。
変動に対応させて電べを適宜回動せしめた場合には、電
流密度変動幅が極めて小さくなり、ストリップの板厚が
変動した場合でも、’ljI極長さ方向における′+!
流密度分布の均一化が達成できる。
〔実施例2〕
次lこ1セルからなる連続式両面電気鍍金装置で、前実
施例で使用した長さ1400mの従来型電極及び改良禿
電極を用いて、板厚0.4〜1.6簡のストリップ両面
にFe−Zn合金′宅気鍍金を行なった。その際、一方
はストリップ−電極間距離を15鴎として上記1!極を
固定配置せしめて鍍金を行ない、他方は第3図(a)
(b)のように反コンダクタロール(3)側のある部分
Aを支点に回動できるように設置し、ストリップ(4)
板厚が0.4〜1.6−の範囲で変イリした・際に電極
(11(21を回動せしめて電1砥fil (2)長さ
方向前面におけるフンダクタロ〜ル(3)iiillの
スl−IJツブ(4)−電rメ!11(21間距維と、
反対側のストリップ(41−N極!11 +21間距離
の差をストリップ(4)板厚1こ反比例せしめるよう1
こ調整する本発明法を′j!施しながら力!金を行なっ
た。
施例で使用した長さ1400mの従来型電極及び改良禿
電極を用いて、板厚0.4〜1.6簡のストリップ両面
にFe−Zn合金′宅気鍍金を行なった。その際、一方
はストリップ−電極間距離を15鴎として上記1!極を
固定配置せしめて鍍金を行ない、他方は第3図(a)
(b)のように反コンダクタロール(3)側のある部分
Aを支点に回動できるように設置し、ストリップ(4)
板厚が0.4〜1.6−の範囲で変イリした・際に電極
(11(21を回動せしめて電1砥fil (2)長さ
方向前面におけるフンダクタロ〜ル(3)iiillの
スl−IJツブ(4)−電rメ!11(21間距維と、
反対側のストリップ(41−N極!11 +21間距離
の差をストリップ(4)板厚1こ反比例せしめるよう1
こ調整する本発明法を′j!施しながら力!金を行なっ
た。
そして鍍金層をGDsiこより分析し、その深さ方向に
おけるFe含有量の分布をJ4べ、第4図及び第5図の
板厚によるFe含汀B1変動幅を示す結果を得た。
おけるFe含有量の分布をJ4べ、第4図及び第5図の
板厚によるFe含汀B1変動幅を示す結果を得た。
この時の鍍金条件は次の、Aっである。
鍍金条件
使用セル数 1
電 甑 畏 1400+1III×2平均電流密度
50A/dm” ライン速度 15mpm 付着量15 r/m” 鍍金011’eSO,・7H10/(FeSO,・7t
(、O+ Zn5O,・7f(、O)=0.7 pH≦2.5 ストリップ板厚 0.4〜1.61 尚、両図のFe含有量の変動幅は、例えばpA6図に示
すように鍍金層深さ方向におけるFe含有量の最大値a
と最低+trf b との差を求めたものである。
50A/dm” ライン速度 15mpm 付着量15 r/m” 鍍金011’eSO,・7H10/(FeSO,・7t
(、O+ Zn5O,・7f(、O)=0.7 pH≦2.5 ストリップ板厚 0.4〜1.61 尚、両図のFe含有量の変動幅は、例えばpA6図に示
すように鍍金層深さ方向におけるFe含有量の最大値a
と最低+trf b との差を求めたものである。
その結果、従来型の電極の場合、本発明法を実施してい
ない方は、ストリップ板厚変動に反比例して11.4〜
3係の範囲でFe含有計が変動することになるのに対し
、本発明法を実施した方は同じ(Fe含有量の変動幅は
ストリップ板厚変動に反比例することとなるものの、そ
の変動幅は2〜0.5係の範囲と甑めで小さくなる。
ない方は、ストリップ板厚変動に反比例して11.4〜
3係の範囲でFe含有計が変動することになるのに対し
、本発明法を実施した方は同じ(Fe含有量の変動幅は
ストリップ板厚変動に反比例することとなるものの、そ
の変動幅は2〜0.5係の範囲と甑めで小さくなる。
又、改良型成極の場合も、本発明法を実施していない場
合は、Fe含有量の変動幅はストリップ板厚0.9 m
の所でほぼOとなるものの、ス) IJツブ板厚がそれ
以下の範囲では、該ストリップ板厚に反比例して変l助
し、板厚0.41の所で変動幅が55%と最大となり、
更にストリップ板厚が(1,9xmより厚くなる範囲で
は該板厚に比例してFe含有量変動幅は増大し、板厚1
.6四の所で3易となる。
合は、Fe含有量の変動幅はストリップ板厚0.9 m
の所でほぼOとなるものの、ス) IJツブ板厚がそれ
以下の範囲では、該ストリップ板厚に反比例して変l助
し、板厚0.41の所で変動幅が55%と最大となり、
更にストリップ板厚が(1,9xmより厚くなる範囲で
は該板厚に比例してFe含有量変動幅は増大し、板厚1
.6四の所で3易となる。
一方、本発明広本実施した場合は同様なFe含有量変動
挙動を示すが、スl−1ツブ板厚0.4回の所でFeJ
有量変動幅は最大の0.7冬を示すほか、板110.9
+m以上の範囲ではFe含有量変動幅はほぼ横ばいで0
.2壬糧度と低い値を示すこととなった。
挙動を示すが、スl−1ツブ板厚0.4回の所でFeJ
有量変動幅は最大の0.7冬を示すほか、板110.9
+m以上の範囲ではFe含有量変動幅はほぼ横ばいで0
.2壬糧度と低い値を示すこととなった。
以上説明したように本発明法によれば、ストリップ板厚
がf!しても、これによって変わるスI−IJツブの電
気抵抗と鍍金液抵抗の和か成極長さ方向各点でほぼ一定
にせしめることができるため、11流密度の変動幅を小
さくすることができるようになり、その結果、合金tト
気鍍金に使用した場合に鍍金層中の合金組成、皮膜性能
を安定化させることができるという愛れた効果を有して
いる。
がf!しても、これによって変わるスI−IJツブの電
気抵抗と鍍金液抵抗の和か成極長さ方向各点でほぼ一定
にせしめることができるため、11流密度の変動幅を小
さくすることができるようになり、その結果、合金tト
気鍍金に使用した場合に鍍金層中の合金組成、皮膜性能
を安定化させることができるという愛れた効果を有して
いる。
第1図(a) (b)は従来型R,啄及び改良型成極が
夫々用いられる鍍金装置における本発明の実施方法を示
す説明図、第2図(&)(b)は従来法及び本発明法の
第1実験結果を示すグラフ図、第3図(a) (b)は
第2実験における本発明法を実施する場合の具体的構成
を示す説明図、第4図は第2実験における従来法の結果
を示すグラフ図、第5図は同実験における本発明法の結
果を示すグラフ図、第6図は第4図及び第5図における
Fe含有量変動幅の求め方を説明するグラフ図、第7図
(a) (b)は従来法における従来型′4極及び改良
m電極の配置状態を示す概略図である。 図中、fi+ 121は電極、(3)はコンダクタロー
ル、(4)はストリップを各示す。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 辻 原 利 2同
阿 南 達 部
第2 r)<1 板厚 −九 第 21・j (b) →入 &米 第 4 口 板厚 [mml
夫々用いられる鍍金装置における本発明の実施方法を示
す説明図、第2図(&)(b)は従来法及び本発明法の
第1実験結果を示すグラフ図、第3図(a) (b)は
第2実験における本発明法を実施する場合の具体的構成
を示す説明図、第4図は第2実験における従来法の結果
を示すグラフ図、第5図は同実験における本発明法の結
果を示すグラフ図、第6図は第4図及び第5図における
Fe含有量変動幅の求め方を説明するグラフ図、第7図
(a) (b)は従来法における従来型′4極及び改良
m電極の配置状態を示す概略図である。 図中、fi+ 121は電極、(3)はコンダクタロー
ル、(4)はストリップを各示す。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 辻 原 利 2同
阿 南 達 部
第2 r)<1 板厚 −九 第 21・j (b) →入 &米 第 4 口 板厚 [mml
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電極長さ方向表面におけるコンダクタロ ール側のストリップ−電極間距離と、反対 側のストリップ−電極間距離の差を、スト リップ板厚に反比例させて変化せしめるこ とを特徴とする電気鍍金用電極の電流密度 調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4541386A JPS62205299A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 電気鍍金用電極の電流密度調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4541386A JPS62205299A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 電気鍍金用電極の電流密度調整方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62205299A true JPS62205299A (ja) | 1987-09-09 |
Family
ID=12718571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4541386A Pending JPS62205299A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 電気鍍金用電極の電流密度調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62205299A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010057966A (ko) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | 신현준 | 도금전극이 균일하게 소모되는 전기도금방법 |
CN104562168A (zh) * | 2015-01-07 | 2015-04-29 | 中冶南方工程技术有限公司 | 电镀槽阳极板位置调整装置 |
EP3763850A1 (en) * | 2019-07-10 | 2021-01-13 | Tata Steel IJmuiden B.V. | Anode and method for electrolytically depositing a metal layer onto a metal substrate |
-
1986
- 1986-03-04 JP JP4541386A patent/JPS62205299A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010057966A (ko) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | 신현준 | 도금전극이 균일하게 소모되는 전기도금방법 |
CN104562168A (zh) * | 2015-01-07 | 2015-04-29 | 中冶南方工程技术有限公司 | 电镀槽阳极板位置调整装置 |
EP3763850A1 (en) * | 2019-07-10 | 2021-01-13 | Tata Steel IJmuiden B.V. | Anode and method for electrolytically depositing a metal layer onto a metal substrate |
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