JPS62192600A - 横型電気鍍金用電極 - Google Patents
横型電気鍍金用電極Info
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- JPS62192600A JPS62192600A JP3072086A JP3072086A JPS62192600A JP S62192600 A JPS62192600 A JP S62192600A JP 3072086 A JP3072086 A JP 3072086A JP 3072086 A JP3072086 A JP 3072086A JP S62192600 A JPS62192600 A JP S62192600A
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、電気鍍金時にストリップのカテラリにより
生ずる電極長さ方向の電流密度の不均一化を防止する横
型電気鍍金用電極に関する。
生ずる電極長さ方向の電流密度の不均一化を防止する横
型電気鍍金用電極に関する。
横型電気鍍金装置は第５図（ａ）に示すよう番こ上下に
電極（１１（２）が配設され、且つ鍍金浴が満たされた
槽内に、コンダクタロール（３］によりマイナスに帯電
されたストリップ（４）を引き込み、その表面を電気鍍
金するものである。
電極（１１（２）が配設され、且つ鍍金浴が満たされた
槽内に、コンダクタロール（３］によりマイナスに帯電
されたストリップ（４）を引き込み、その表面を電気鍍
金するものである。
上記電極（ＩＪ （２３は通常ス） ＩＪツブ（４）に
平行に配設され、且つその間には一定の距離が保持され
ているが、前記ストリップ（４）に同図ら）に
□示すようなカテナリがある場合、電極（ＩＪ（２）と
ストリップ（４）との間の距離が、該電極（ＩＩ（２）
長さ方向で異なり、そのため電極（ＩＩ（２）長さ方向
□各位置での液抵抗が変化する。従って電極（
１）（２）からストリップ（４）へ流れる電流の電流密
度 □分布は電極（１１Ｃ２）長さ方向で不均一
となる。
平行に配設され、且つその間には一定の距離が保持され
ているが、前記ストリップ（４）に同図ら）に
□示すようなカテナリがある場合、電極（ＩＪ（２）と
ストリップ（４）との間の距離が、該電極（ＩＩ（２）
長さ方向で異なり、そのため電極（ＩＩ（２）長さ方向
□各位置での液抵抗が変化する。従って電極（
１）（２）からストリップ（４）へ流れる電流の電流密
度 □分布は電極（１１Ｃ２）長さ方向で不均一
となる。
これに対し、Ｆｅ−Ｚｎ、 Ｚｎ−Ｎｉｂ Ｚｎ−Ｍｎ
等の合金電気鍍金板の製造においては、電流密度番こよ
って鍍金皮膜中の合金組成、皮膜性能等が変化するため
、電流密度の均一化が必要となる。
等の合金電気鍍金板の製造においては、電流密度番こよ
って鍍金皮膜中の合金組成、皮膜性能等が変化するため
、電流密度の均一化が必要となる。
本発明は以上のような問題に鑑み創案されたもので、特
に合金電気鍍金の際使用される横型電気鍍金用電極を加
工することにより。
に合金電気鍍金の際使用される横型電気鍍金用電極を加
工することにより。
ストリップにカテナリ量がある場合に生ずる電流密度分
布の不均一を防止せんとするものである。
布の不均一を防止せんとするものである。
上述のようにストリップにカテナリがある場合、該スト
リップと電極の間の距離が電極長さ方向各位置で異なる
ことが原因で、その間の鍍金浴中の液抵抗が変化し電流
密度分布が不均一となっているのであるから、前記スト
リップと電極の間の距離を、該電極長さ方向のどの位置
でも等しくすることができるような構成につき検討を重
ね、本発明を創案するに到った。
リップと電極の間の距離が電極長さ方向各位置で異なる
ことが原因で、その間の鍍金浴中の液抵抗が変化し電流
密度分布が不均一となっているのであるから、前記スト
リップと電極の間の距離を、該電極長さ方向のどの位置
でも等しくすることができるような構成につき検討を重
ね、本発明を創案するに到った。
第１図（ａ）は本発明の構成を有する電極（２）が設け
られた横型片面電気鍍金装置の模式図である。図中（３
）はコンダクタロール、（４）はストリップ、（５）は
バックアップロールである。
られた横型片面電気鍍金装置の模式図である。図中（３
）はコンダクタロール、（４）はストリップ、（５）は
バックアップロールである。
本発明に係る電極（２）は、その長さ方向ストリップ（
４）側表面に、該ストリップ（４）のカテナリ量に対応
した凹状の曲率を設けている。
４）側表面に、該ストリップ（４）のカテナリ量に対応
した凹状の曲率を設けている。
又同図（ｂ）は、同じく本発明に係る電極（１１（２７
が設けられた横型両面電気鍍金装置の模式図であり、電
極（２目こついては上記と同じであるが、電極（１］に
ついてはその長さ方向ストリップ（４）側表面に、該ス
トリップ（４）のカテナリ量に対応した凸状の曲率を設
けている。
が設けられた横型両面電気鍍金装置の模式図であり、電
極（２目こついては上記と同じであるが、電極（１］に
ついてはその長さ方向ストリップ（４）側表面に、該ス
トリップ（４）のカテナリ量に対応した凸状の曲率を設
けている。
尚、ストリップ（４）のカテナリ量はユニット張力を一
定とすればス） ＩＪツブ（４）の板厚によらず一定と
なるので、上記本発明の構成はユニット張力を変えない
限り、どのような板厚のストリップ（４）にも使用可能
である◎〔作 用〕 上記のように電極（川２）表面にスｌ−ＩＪツブ（４）
のカテナｌ ｆｉに対応した曲率を設けたことにより、
各電極（１１（２）とストＩＪツブ（４）との間の距離
は、夫々電極（１）（２）長さ方向各位置で等しくなる
ため、その間の鍍金浴中の液抵抗は各電極（１１Ｃ２）
長さ方向で同じとなり、Ｘ流蜜度分布を均一化せしめる
ことができる。
定とすればス） ＩＪツブ（４）の板厚によらず一定と
なるので、上記本発明の構成はユニット張力を変えない
限り、どのような板厚のストリップ（４）にも使用可能
である◎〔作 用〕 上記のように電極（川２）表面にスｌ−ＩＪツブ（４）
のカテナｌ ｆｉに対応した曲率を設けたことにより、
各電極（１１（２）とストＩＪツブ（４）との間の距離
は、夫々電極（１）（２）長さ方向各位置で等しくなる
ため、その間の鍍金浴中の液抵抗は各電極（１１Ｃ２）
長さ方向で同じとなり、Ｘ流蜜度分布を均一化せしめる
ことができる。
〔実施例１〕
本発明者等はまず横型の連続式両面電気鍍金装置に、第
２図（ａ）に示す普通の電極α■狙同図（ｂ）に示す本
出願人の他の提案に係る改良型電極ＣＩ痣ｅυ、同図（
ｃ）に示す本発明に係る電極（２）（イ）及び改良型を
更番こ改良した同図（ｄ）に示す本発明に係る他の電極
Ｃ１３（至）を各別に設置して硫酸亜鉛（Ｚｎ５Ｏ＋）
を含有する鍍金液を満たし。
２図（ａ）に示す普通の電極α■狙同図（ｂ）に示す本
出願人の他の提案に係る改良型電極ＣＩ痣ｅυ、同図（
ｃ）に示す本発明に係る電極（２）（イ）及び改良型を
更番こ改良した同図（ｄ）に示す本発明に係る他の電極
Ｃ１３（至）を各別に設置して硫酸亜鉛（Ｚｎ５Ｏ＋）
を含有する鍍金液を満たし。
夫々の場合−こおける電極長さ方向の電流密度分布を調
べる実験を行なった。ここで、第２図（ｂ）に示す改良
型電極αηａｌ）は、ス） ＩＪツブ（４０）の各点か
らコンダクタロールに到る間のストリップ板抵抗の相違
によりｔ流密度がストリップ（４０）長さ方向で不均一
な場合、これを均一化するための構成であり、電極ＣＬ
η？ηからストリップ（４０）に電流が流れる場合の鍍
金浴中の液抵抗と、前記ストリップ板抵抗の和を電極α
η９１長さ方向で均一にするため、第２図（ｂ）１こ示
すように電極αルク〃表面ｔこ一定の曲率が設けられて
いる。ここで一定の曲率とは次式により決定される。
べる実験を行なった。ここで、第２図（ｂ）に示す改良
型電極αηａｌ）は、ス） ＩＪツブ（４０）の各点か
らコンダクタロールに到る間のストリップ板抵抗の相違
によりｔ流密度がストリップ（４０）長さ方向で不均一
な場合、これを均一化するための構成であり、電極ＣＬ
η？ηからストリップ（４０）に電流が流れる場合の鍍
金浴中の液抵抗と、前記ストリップ板抵抗の和を電極α
η９１長さ方向で均一にするため、第２図（ｂ）１こ示
すように電極αルク〃表面ｔこ一定の曲率が設けられて
いる。ここで一定の曲率とは次式により決定される。
ｐｘ （ｚ−が／２Ｌ）＝ｐ＊ｈ
ρ、ニストリップ（４０）の電気抵抗によって定まる定
数内：液抵抗によって定まる定数 Ｘ ： コンダクタロー）１１００但晴腑諒璋跣端から
の距離ｈ：曲 率 Ｌ：電極Ｑ刀？η長 しかし、このような構成であっても前記ストリデプ（４
０）にカテナリがある場合は、それが原因で電極α１）
６２η長さ方向で電流密度分布が不均一となる。そこで
第２図（ｄ）に示す電極（至）翰は前記改良型電極ａｎ
ａｎ表面の曲率にストリップ（４０）のカテナリ量に対
応した曲率を加えて修正したものが設けられている。
数内：液抵抗によって定まる定数 Ｘ ： コンダクタロー）１１００但晴腑諒璋跣端から
の距離ｈ：曲 率 Ｌ：電極Ｑ刀？η長 しかし、このような構成であっても前記ストリデプ（４
０）にカテナリがある場合は、それが原因で電極α１）
６２η長さ方向で電流密度分布が不均一となる。そこで
第２図（ｄ）に示す電極（至）翰は前記改良型電極ａｎ
ａｎ表面の曲率にストリップ（４０）のカテナリ量に対
応した曲率を加えて修正したものが設けられている。
又本実験では被鍍金材として板厚０．７ ｍのストリッ
プ（４０）を用い、このストリップ（４０）と前記各電
極の間には１５膿の間隔が設けられ、更にユニット張力
を調整してストリップ（４０）のカテナリ量は最大１．
８−になるようにした。更に前記各電極は長さ１４００
ｍｍの鉛錫（Ｐｂ−Ａｇ）製のものが用いられ、そのう
ち第２図（ｂ）の改良型電極ＣＩηｅ復表面にはその長
さ方向ｌｒ で表わされる曲率が、又同図（ｄ）の電極ｏ３（ホ）の
表面には、その曲率にストリップ（４０）のカテナリ量
に対応した曲率を加えて修正したものが設けられている
。更に鍍金液比抵抗は１１．ＩＱ ３ 、 ストリップ
比抵抗は１２．５Ｘ１０ ｎｃｍ であった。
プ（４０）を用い、このストリップ（４０）と前記各電
極の間には１５膿の間隔が設けられ、更にユニット張力
を調整してストリップ（４０）のカテナリ量は最大１．
８−になるようにした。更に前記各電極は長さ１４００
ｍｍの鉛錫（Ｐｂ−Ａｇ）製のものが用いられ、そのう
ち第２図（ｂ）の改良型電極ＣＩηｅ復表面にはその長
さ方向ｌｒ で表わされる曲率が、又同図（ｄ）の電極ｏ３（ホ）の
表面には、その曲率にストリップ（４０）のカテナリ量
に対応した曲率を加えて修正したものが設けられている
。更に鍍金液比抵抗は１１．ＩＱ ３ 、 ストリップ
比抵抗は１２．５Ｘ１０ ｎｃｍ であった。
以上の実験から第３図−〕乃至（ｄ）に示す結果を得た
。これらのグラフ図は、Ｘ軸にコンダクタロール側電極
先端からの距離、ｙ軸に電流密度を取って電極各点化お
ける電流密度をしるしたものであって、同図（ａ）乃至
（ｄ）は夫々前回（ａ）乃至（ｄ）に対応する実験結果
を示したものである。これによると第２図（ａ）に示す
従来の電極ＱＱ＠Ｊの電流密度は電極長さ方向で最大３
０％程度の差が生ずるのに対し、同図（ｅ）に示す本発
明の電極（６）（２）では両電極共、電極長さ方向で２
Ｏ４程度の電流密度の差が生ずるだけで、本発明の構成
により電流密度分布の不均一化が改善されていることが
わかる。
。これらのグラフ図は、Ｘ軸にコンダクタロール側電極
先端からの距離、ｙ軸に電流密度を取って電極各点化お
ける電流密度をしるしたものであって、同図（ａ）乃至
（ｄ）は夫々前回（ａ）乃至（ｄ）に対応する実験結果
を示したものである。これによると第２図（ａ）に示す
従来の電極ＱＱ＠Ｊの電流密度は電極長さ方向で最大３
０％程度の差が生ずるのに対し、同図（ｅ）に示す本発
明の電極（６）（２）では両電極共、電極長さ方向で２
Ｏ４程度の電流密度の差が生ずるだけで、本発明の構成
により電流密度分布の不均一化が改善されていることが
わかる。
更に、第２図（ｂ）に示す改良型電極αＵ＊］）の電流
密度は電極長さ方向で上下電極αη（２９共１０囁程度
の差が生ずるのに対し、同図（ｄ）に示す改良型を更に
改良した本発明の電極Ｕに）では電流密度が電極長さ方
向のどの点でも一定であり、本発明の構成ｔこより電流
密度分布の均一化が達成されたことがわかる。
密度は電極長さ方向で上下電極αη（２９共１０囁程度
の差が生ずるのに対し、同図（ｄ）に示す改良型を更に
改良した本発明の電極Ｕに）では電流密度が電極長さ方
向のどの点でも一定であり、本発明の構成ｔこより電流
密度分布の均一化が達成されたことがわかる。
〔実施例２〕
欠番ζ１セルからなる連続式両面電気鍍金装置で長さ１
４００■の前実施例第２図（ａ）に示す従来の電極αり
Ｇｌ）、同長さの同じく同図（ｂ）に示す改良温電極圓
ｃ２ル、同長さの同じく同図（ｃ）に示す本発明に係る
電極四（２）及び同長さの改良型を史に改良した同図（
ｄ）に示す本発明に係る電極（６）（イ）を用いて板厚
０．７■のス） ＩＪツブ両面にＦｅ−Ｚｎ合金電気鍍
金を行ない、ＧＤＳにより分析し、各鍍金層深さ方向に
おけるＦ’ｅ含有量の分布を調べ、第４図（ａ） （ｂ
） （ｃ）に示す結果を得た。この時の鍍金条件は次の
通りである― 鍍金条件 使用セル数 １ 電極長１４００ｍＸ２ 平均電流密度 ５０ Ａ／ ｄｍ” ライン速度 １５ｒｌｐｍ 付着量１５９７ｍ” 鍍金ｉ１ｋ ＦｅＳＯ４・７Ｈ＊Ｏ／（ＦｅＳＯ４・７
ＨｓＯ十ＺｎＳＯ４・ ７Ｈ１０） ＝ ０．７Ｐ
Ｈ＝２．５ ストリップ板専 ０，７簡 カテナリ量 １．８■ ｍ４図（ａ）及び（ｃ）から、第２図（＆）の従来電極
（ト）翰に比べ同図（ｃ）の本発明電極（ロ）磐を使用
してＦｅ−Ｚｎ合金電気鍍金をした場合の方が。
４００■の前実施例第２図（ａ）に示す従来の電極αり
Ｇｌ）、同長さの同じく同図（ｂ）に示す改良温電極圓
ｃ２ル、同長さの同じく同図（ｃ）に示す本発明に係る
電極四（２）及び同長さの改良型を史に改良した同図（
ｄ）に示す本発明に係る電極（６）（イ）を用いて板厚
０．７■のス） ＩＪツブ両面にＦｅ−Ｚｎ合金電気鍍
金を行ない、ＧＤＳにより分析し、各鍍金層深さ方向に
おけるＦ’ｅ含有量の分布を調べ、第４図（ａ） （ｂ
） （ｃ）に示す結果を得た。この時の鍍金条件は次の
通りである― 鍍金条件 使用セル数 １ 電極長１４００ｍＸ２ 平均電流密度 ５０ Ａ／ ｄｍ” ライン速度 １５ｒｌｐｍ 付着量１５９７ｍ” 鍍金ｉ１ｋ ＦｅＳＯ４・７Ｈ＊Ｏ／（ＦｅＳＯ４・７
ＨｓＯ十ＺｎＳＯ４・ ７Ｈ１０） ＝ ０．７Ｐ
Ｈ＝２．５ ストリップ板専 ０，７簡 カテナリ量 １．８■ ｍ４図（ａ）及び（ｃ）から、第２図（＆）の従来電極
（ト）翰に比べ同図（ｃ）の本発明電極（ロ）磐を使用
してＦｅ−Ｚｎ合金電気鍍金をした場合の方が。
鍍金層深さ方向でのＦｅ宮有量が上下両極で同一となり
、且つ、その変動幅も小さくなっていることがわかる。
、且つ、その変動幅も小さくなっていることがわかる。
又第４図（ｂＪ及び（ｃ）から、第２図（ｂ）の改良型
電極α］ＪＣ２１ｊこ比べ改良型を更に改良した同図（
ｄ）の本発明電極（至）（イ）を使用した場合の方が、
鍍金層深さ方向でのｒｅ含有量が上下両極で同一となる
ばかりではなく、その変動幅がほとんどなくなり、均一
化していることが明らかである。従って本発明の構成か
らなる電極の方は鍍金層中の合金組成及び皮膜性能が安
定することになる。
電極α］ＪＣ２１ｊこ比べ改良型を更に改良した同図（
ｄ）の本発明電極（至）（イ）を使用した場合の方が、
鍍金層深さ方向でのｒｅ含有量が上下両極で同一となる
ばかりではなく、その変動幅がほとんどなくなり、均一
化していることが明らかである。従って本発明の構成か
らなる電極の方は鍍金層中の合金組成及び皮膜性能が安
定することになる。
以上説明したように本発明の電極によれば、ス） ＩＪ
フッと、電極の間の距離が該電極長さ方向のどの位置で
も等しくなるため。
フッと、電極の間の距離が該電極長さ方向のどの位置で
も等しくなるため。
電極長さ方向での電流密度分布を均一化することができ
るようになり、その結果合金電気鍍金に使用した場合に
鍍金層中の合金組成及び皮膜性能を安定化させることが
できるという優れた効果を有している。
るようになり、その結果合金電気鍍金に使用した場合に
鍍金層中の合金組成及び皮膜性能を安定化させることが
できるという優れた効果を有している。
＃！１図（ａ） （ｂ）は本発明に係る電極を使用した
場合の横皺片面電気鍍金装着及び横型両面電気鍍金装置
の説明図、８２図（ａＪら） （ｃ） （ｄ）は従来電
極、改良型電極９本発明電極及び改良型を更に改良した
本発明の電極を夫々使用した場合の横型両面電気鍍金装
置の概略図、第３図（ａ） （ｂ） （ｃ） （ｄ）は
上記各電極を使用して電気鍍金を行なった場合の各電極
長さ方向における電流密度を示すグラフ図、第４図（ａ
）（ｂ） （ｃ）は同じく上記各電極を使用してＦｅ−
ｚｎ合金電気鍍金を行なった場合の各鍍金層中のｒｅ含
有量の分布を調べたグラフ図、第５図（ａ）Φ）は従来
型の電極を配した横型電気鍍金装置の概略図である。 図中（１１αＣＩ ＨＵ ｏ３（２Ｊ Ｈ０３） ＨＨ
？−１！ 極、（３） Ｏｆ） ハコンダクタロール、
（４）（４０）はストリップ、（５）（５０）はバック
アップロールを各示す。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 辻 原 利 ２同
阿 南 達 部第５図 第 ５ 図 第 １ 図 第２図 第 ２ 図 第 １ 図 ′Ｘ２ 第 ２ 図 （Ｃ） 第 ２ 。 ゛２３ 第 ３ 図 第 ３ 口 （ｂ） ０ ′ 第 ３ 図 （Ｃ） 鍼 −１０− 第 ３ 図 （ｄ） 碧 −５″− φ −１０μ ｍ ］Ｌ
場合の横皺片面電気鍍金装着及び横型両面電気鍍金装置
の説明図、８２図（ａＪら） （ｃ） （ｄ）は従来電
極、改良型電極９本発明電極及び改良型を更に改良した
本発明の電極を夫々使用した場合の横型両面電気鍍金装
置の概略図、第３図（ａ） （ｂ） （ｃ） （ｄ）は
上記各電極を使用して電気鍍金を行なった場合の各電極
長さ方向における電流密度を示すグラフ図、第４図（ａ
）（ｂ） （ｃ）は同じく上記各電極を使用してＦｅ−
ｚｎ合金電気鍍金を行なった場合の各鍍金層中のｒｅ含
有量の分布を調べたグラフ図、第５図（ａ）Φ）は従来
型の電極を配した横型電気鍍金装置の概略図である。 図中（１１αＣＩ ＨＵ ｏ３（２Ｊ Ｈ０３） ＨＨ
？−１！ 極、（３） Ｏｆ） ハコンダクタロール、
（４）（４０）はストリップ、（５）（５０）はバック
アップロールを各示す。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 辻 原 利 ２同
阿 南 達 部第５図 第 ５ 図 第 １ 図 第２図 第 ２ 図 第 １ 図 ′Ｘ２ 第 ２ 図 （Ｃ） 第 ２ 。 ゛２３ 第 ３ 図 第 ３ 口 （ｂ） ０ ′ 第 ３ 図 （Ｃ） 鍼 −１０− 第 ３ 図 （ｄ） 碧 −５″− φ −１０μ ｍ ］Ｌ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 横型電気鍍金装置内でストリップに平行 に配設された横型電気鍍金用電極において、該電極長さ
方向に対してその電極のストリ ップ側表面に、該ストリップのカテナリ量 に対応した曲率を設けたことを特徴とする 横型電気鍍金用電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072086A JPS62192600A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 横型電気鍍金用電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072086A JPS62192600A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 横型電気鍍金用電極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62192600A true JPS62192600A (ja) | 1987-08-24 |
Family
ID=12311479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3072086A Pending JPS62192600A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 横型電気鍍金用電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62192600A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6174417B1 (en) | 1998-05-20 | 2001-01-16 | Process Automation International Ltd. | Electroplating machine |
| US6261425B1 (en) | 1998-08-28 | 2001-07-17 | Process Automation International, Ltd. | Electroplating machine |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP3072086A patent/JPS62192600A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6174417B1 (en) | 1998-05-20 | 2001-01-16 | Process Automation International Ltd. | Electroplating machine |
| US6241860B1 (en) | 1998-05-20 | 2001-06-05 | Process Automation International, Ltd. | Electroplating machine |
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