JPS598400B2 - 表面清浄化用組成物 - Google Patents

表面清浄化用組成物

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JPS598400B2
JPS598400B2 JP3919279A JP3919279A JPS598400B2 JP S598400 B2 JPS598400 B2 JP S598400B2 JP 3919279 A JP3919279 A JP 3919279A JP 3919279 A JP3919279 A JP 3919279A JP S598400 B2 JPS598400 B2 JP S598400B2
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JP
Japan
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present
surface cleaning
resin
same manner
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JP3919279A
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厳 久本
知明 前田
幸雄 大牟礼
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Daikin Industries Ltd
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Daikin Kogyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な表面清浄化用組成物に関する。
さらに詳しくは、ハロゲン化炭化水素系溶剤および特定
のフッ素化アルコールを主成分として含有する表面清浄
化用組成物に関する。本発明の目的とするところは、と
くに樹脂被膜やその他樹脂質を主体とする汚れを除去す
るための表面清浄化用組成物を提供するにある。
塗料、印刷インキ、研摩剤、焼付け後のフラックスなど
の樹脂被膜やその他樹脂質を主体とする汚れは溶剤には
殆んど溶解しないため、通常は基材表面を溶剤をしみ込
せた布などで拭き取る方法とか、あるいは無機性の強力
な酸、アルカリなどに浸漬して溶解、剥離する方法がと
られていた。
しかしながら、このように物理的に拭き取る方法では、
労力と時間とを要する欠点があり、一方無機性の強力な
酸、アルカリなどでは被処理物をいためたり、また取扱
上きわめて危険であるなどの不都合があつた。また電子
工業においてソルダーレジストなどの樹脂被膜を除去す
る際にも効果的な清浄化剤がなくアルカリ液が使用され
るなど、一般に樹脂被膜を除去する効果的な清浄化剤は
見当らないのが現状である。本発明者らは叙上の欠点を
排除し、改良された表面清浄化用組成物を提供するべく
種々検討を重ねた結果、ハロゲン化炭化水素系溶剤にあ
る種のフッ素化アルコールを配合してなる溶剤組成物が
前記の樹脂被膜やその他の樹脂質を主体とする汚れに対
し、良好な清浄化力を発揮し、これら汚れを短時間で容
易に取り除きうることを見出し、本発明を完成するにい
たつた。
すなわち本発明は(a)・・ロゲン化炭化水素系溶剤お
よび(b)一般式:X(CnF2n)CmH2m0H (式中、Xは水素またはフッ素、mは1〜3の整数、n
は1〜10の整数である)で示されるフッ素化アルコー
ルを主成分として含有し、(a)04b)が重量比で9
5〜30/ 5〜70である表面清浄化用組成物であつ
て、これを用いて前記の汚染物品を浸漬および(または
)超音波洗浄することにより、叙上の欠点が完全に排除
され、物品表面に固着する当該汚れが短時間のうちに簡
単に剥離ないし溶解除去され、物品表面を清浄にするこ
とができるというきわめて顕著な効果が奏されうる。
本発明の組成物で用する(a)成分、すなわちハロゲン
化炭化水素系溶剤としては、少なくとも1個の塩素、フ
ツ素または臭素で置換された炭化水素であつて、通常炭
素数1〜4のものが用いられる。かかるハロゲン化炭化
水素系溶剤の具体例を示せばメチレンクロライド、クロ
ロホルム、1・1−ジクロロエタン、1・2−ジクロロ
エタン、1・1・1−トリクロロエタン、トリクロロエ
チレンパークロロエチレン、トリクロロモノフルオロメ
タン、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリ
フルオロエタン、ジブロモテトラフルオロエタン、1・
3−ジクロロプロパン、2・2−ジクロロプロパン、1
・3−ジクロロブタン、1・4−ジクロロブタンなどが
あげられ、これらの単独または2種以上を混合して使用
される。本発明の組成物で用いる(b)成分、すなわち
特定のフツ素化アルコールとしては、1分子中に少なく
とも2個のフツ素を有する炭素数が2個以上のアルコー
ルであつて、前記一般式で示されるフツ素化アルコール
の具体的な化合物としては、式:(式中、A,.c,.
e,.gおよびiは1〜5の整数、B,.d,.f,.
hおよびjは1〜3の整数である)などが例示でき、こ
れらの1種または2種以上が用いられる。
また前記(a)成分と(b)成分との組成割合としては
、これら成分が相互に溶解する範囲内で配合して用いら
れるが、通常(a)/(5)が重量比で95〜30/5
〜701好ましくは90〜50/10〜50の割合で配
合して用いられ、これにより塗布または付着された樹脂
質の種類にかかわらず剥離ないし溶解除去効果が大とな
り、表面清浄上きわめて顕著な効果が奏される。
(a)成分と(b)成分との組成割合はとくに制限され
ないが前記範囲外のときは樹脂質の種類や付着状態によ
り除去可能な範囲が限定されることがある。本発明の表
面清浄化用組成物においては、(a)成分と(b)成分
との混合物が共沸混合物を形成するばあいには当該組成
物の回収、再使用が容易となり、さらに望ましく使用さ
れうる。
本発明の表面清浄化用組成物を用いる汚け物品の処理方
法としては、たとえば汚れ物品が該組成物液中に浸漬す
るか、あるいは汚れ物品に該組成物液を噴霧、塗布また
は散布したのち拭き取るなどにより容易に清浄化される
が、望ましくは前記組成物液中に汚れ物品を浸漬し、つ
いで超音波により撹拌を行なう方法が採用される。
またこの汚れ物品の処理は室温または高温(通常、溶剤
の沸点まで)、さらには使用された(a)および(b)
成分の共沸混合物の沸点下において行なうことができる
。本発明の表面清浄化用組成物には、必要に応じさらに
他の溶剤や界面活性剤、安定剤などを配合することもで
きる。これら他の溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン、ペンタン、ヘキサンなどの無極性溶剤、ニトロ
メタン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランな
どの極性溶剤が使用される。また界面活性剤としては、
一般に洗剤用に使用される陽イオン界面活性剤、陰イオ
ン界面活性剤非イオン界面活性剤、両性界面活性剤など
が適宜用いられる。これら界面活性剤の好ましいものを
例示すれば、たとえばアルキルベンゼ・ンスルホン酸塩
類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸塩類
、アルキルトリメチル第4級アンモニウム塩類、ジまた
はモノアルキルアミン有機酸塩類、アルキルベタイン類
、アルキルイミダゾリン類、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフエニルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンゾルビタンエステル類、
ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類などがあげられる
。前記溶剤、界面活性剤または安定剤の配合量としては
(a)成分と(b)成分との混合物100部(重量部、
以下同様)に対してそれぞれ通常40部以下が用いられ
る。
本発明の表面清浄化用組成物は、前記のごとく樹脂被膜
やその他の樹脂質を主体とした汚れを効果的に剥離ない
し溶解、清浄化できるほか、力ーボン(油性ないしター
ル状を含む)などの通常の洗浄剤によつては容易に除去
することができない頑固な固形状ないし油状の汚れ物質
をも容易に剥離または溶解除去することができ、きわめ
て有用なものである。
つぎに実施例をあげて本発明の表面清浄化用組成物を具
体的に説明する。
実施例 1 フロン−113、塩化メチレンおよび H(CF2CF2)CH2OHを重量比35:35:3
0で混合して本発明の組成物をえた。
ついでアルキツド樹脂系塗料「アルキス #200](神東塗料(株)製)でコーティングされた
20u×501!Bの鉄板を本発明の組成物100m1
中に2分間浸漬し、塗膜の剥離除去の効果をみた。
塗膜の剥離性は塗膜の剥がれた面積割合を肉眼観察し、
剥離度合として評価した。
また比較のために、第1表に示す本発明に用いる溶剤以
外の他の溶剤についても、前記同様にして剥離性を評価
した。
これらの結果を第1表に示す。
実施例 2 フロン−112、塩化メチレンおよび H(CF2CF2)2CH20Hを重量比30:30:
40で混合して本発明の組成物をえた。
ついでフタル酸樹脂(トリメチレングリコール/無水マ
レイン酸/無水フタル酸共重合体)系塗料でコーテイン
グされたガラス基板を本発明の組成物の液中100m1
に浸漬し、超音波洗浄(28kHz1600W)を2分
間行ない、塗膜の除去を行なつた。
塗膜の剥離度合は実施例1と同様にして評価した。また
比較のために、第2表に示す本発明に用いる溶剤以外の
他の溶剤についても、前記同様にして剥離性を評価した
これらの結果を第2表に示す。
実施例 3 フロン−113、1・1・1−トリクロルエタンおよび
F(CF2CF2)2CH2CH20Hを重量比45:
45:10で混合して本発明の組成物をえた。
ついでハイブリツドIC用のはんだペーストではんだづ
けされたフレキシブル基板上のフラツクスを本発明の組
成物を用いて、超音波洗浄(28kHz、600W)を
1分間行なつた。
この結果フラツクスは完全に除去され、光沢のあるはん
だ表面がえられた。 f
炙 また比較のために、フロン−113と1・1・1−
トリクロルエタンを重量比50:50で混合した溶剤で
前記フレキシブル基板を前記同様にして洗浄を行なつた
が、フラツクスはかなり除去されたが、はんだ表面の光
沢に欠けていた。実施例 4〜6 フロン−113、トリクロルエチレンおよびF(CF2
CF2)(?H2CH2OHを第3表に示す重量比で混
合して本発明の組成物をそれぞれえた。
ついでセラミツク基板上のポリエステル系レジストの洗
浄除去を行なつた。洗浄は前記基板を本発明の組成物中
に浸漬し、超音波洗浄(28kHz1600W)を3分
間行なつた。レジストの剥離度合は実施例1と同様にし
て評価した。実施例 7フロン一113、トリクロルエ
チレン、トルエンおよびF(CF2CF2)CH2CH
2OHを第3表に示す重量比で混合して本発明の組成物
をえた。
ついでセラミツク基板上のポリエステル系レジストの洗
浄除去を実施例4と同様にして行ない、レジストの剥離
度合を実施例1と同様にして評価した。その結果を第3
表に示す。また比較のために、第3表に示す本発明に用
いる溶剤以外の他の溶剤についても、前記同様にして剥
離性を評価した。
これらの結果を第3表に示す。
実施例 8〜10 第4表に示される組成の本発明の組成物を調製し、これ
らを用いて鉄板上のアルキツド樹脂系塗二?膜の洗浄除
去を実施例1と同様にして行ない、塗膜の剥離度合を実
施例1と同様にして評価した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 (a)ハロゲン化炭化水素系溶剤および(b)一般
    式:X(C_nF_2_n)C_mH_2_mOH(式
    中、Xは水素またはフッ素、mは1〜3の整数、nは1
    〜10の整数である)で示されるフッ素化アルコールを
    主成分として含有し、(a)/(b)が重量比で95〜
    30/5〜70である表面清浄化用組成物。
JP3919279A 1979-03-30 1979-03-30 表面清浄化用組成物 Expired JPS598400B2 (ja)

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