JPH0826350B2 - 超音波洗浄機用洗浄剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は超音波洗浄機用洗浄剤に関する。詳しくはス
クリーン印刷版用の超音波洗浄機に適する洗浄剤に関す
る。

［従来の技術］ 超音波洗浄は現在種々の洗浄に使用されているが、通
常、洗浄剤は塩素系溶剤または水系の洗浄剤が使用され
ている。各種インキを用いて印刷する際に使用するスク
リーン版は種々の塩素系溶剤で超音波洗浄されていて、
塩素系溶剤としては1,1,1−トリクロロエタン、ジクロ
ロエチレン等が使用されている。非塩素系の洗浄剤とし
ては、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセ
トン等のケトン類、酢酸ブチル等のエステル類等が使用
されている。

［発明が解決しようとする課題］ 塩素系溶剤は洗浄性、難燃性については優れているも
のの作業環境の悪化、地下水への混入による環境破壊の
問題から使用が規制されつつある。また非塩素系の洗浄
剤は、引火点がスクリーン版を超音波洗浄する温度より
低いため火災の危険性が高い。

［課題を解決するための手段］ 上記の問題点に鑑み、本発明者らは、難燃性で環境を
破壊しない、かつ各種インキの洗浄に適する洗浄剤につ
いて鋭意研究した結果、本発明を完成した。

即ち、本発明は下記一般式（１）で示される化合物
（Ａ）と、下記一般式（２）で示される化合物（Ｂ）と
からなるグリコールエーテル類を主成分とし、60℃以上
の引火点を有する超音波洗浄機用洗浄剤である。

一般式 R₁O（CH₂CH₂O）_nH （１） 式中、R₁は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは１〜３の
整数を表す。

一般式 R₂O（CH₂CH₂O）_mR₃ （２） 式中、R₂、R₃はそれぞれ炭素数１〜８のアルキル基、
ｍは１〜３の整数を表す。

一般式（１）、（２）において、R₁、R₂およびR₃の炭
素数１〜８のアルキル基としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、イソプロピル基、ter−ブチル基、２−エチル
ヘキシル基などがあげられる。R₂、R₃は同一でも異なっ
ていてもよい。アルキル基の炭素数が８を越えるものは
洗浄性が悪くなる。

ｎ、ｍは１〜３の整数で好ましくは２である。３を越
えるものは洗浄性が悪くなる。

一般式（１）で示される化合物（Ａ）としては、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルモノペンチルエーテル、エチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、エチレングリコールモノオクチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノペンチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、
ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノペンチルエー
テルなどの（ポリ）エチレングリコールのモノアルキル
エーテル類があげられる。

一般式（２）で示される化合物（Ｂ）としては、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレ
ングリコールジブチルエーテルなどの（ポリ）エチレン
グリコールのジアルキルエーテル類などがあげられる。

本発明の洗浄剤は、化合物（Ａ）と（Ｂ）とからな
り、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて、（Ａ）が80
〜90重量％、（Ｂ）が10〜20重量％である。

本発明の洗浄剤はグリコールエーテル類を主成分とす
るものであるが、洗浄剤の洗浄効果を更に高めるため
に、他の洗浄剤を含有することも可能である。またさら
に難燃化するために水を含有することも可能である。

他の洗浄剤としては、特に限定されるわけではない
が、例えば、ノニルフェノールのエチレンオキシド付加
物、オクチルフェノールのエチレンオキシド付加物等の
界面活性剤類、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パ
ーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等のフッ素
系の界面活性剤類等があげられる。

本発明の洗浄剤において、グリコールエーテル類の含
有量は、洗浄剤の重量に基づいて、通常50〜100重量
％、好ましくは80〜100重量％である。

含有可能な他の洗浄剤の含有量は、本発明の洗浄剤の
合計重量に基づいて、通常０〜20重量％、好ましくは0.
005〜10重量％である。20重量％を越えると被洗浄物に
対する影響がある。

水の含有量は本発明の洗浄剤の合計重量に基づいて、
通常０〜50重量％、好ましくは０〜20重量％である。50
重量％を越えると洗浄性が悪くなる。

本発明の洗浄剤の引火点は60℃以上、引火性のより少
ない点から好ましくは100℃である。一方、引火点60℃
未満のものは臭気、および引火性の問題で超音波洗浄用
洗浄剤として使用できない。

本発明の洗浄剤は超音波洗浄機用洗浄剤として用いら
れる。この超音波洗浄機としては、一般に市販されてい
る超音波洗浄機でよいが、スクリーン印刷版用の超音波
洗浄機であることが取扱いの面で好ましい。

スクリーン印刷は現在、種々の媒体への印刷に利用さ
れている。例えば電子機器産業分野における回路板への
印刷、アート分野における各種紙への印刷、衣料分野に
おける各種布への印刷、プラスチック分野におけるポリ
エチレン、ポリプロピレン、アクリル等への印刷、金属
分野におけるアルミ、鋼板への印刷があるが、本洗浄剤
はこれらの印刷に使用されるスクリーン版の超音波洗浄
に使用される。使用方法は従来と同様でよい。

［実施例］ 以下、本発明を実施例および比較例により、具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。実施例中％は特記しないかぎり重量％を示
す。

参考例１ 本発明の洗浄剤 エチレングリコール モノブチルエーテル 100％ 参考例２ 本発明の洗浄剤 ジエチレングリコール モノブチルエーテル 100％ 実施例１ 本発明の洗浄剤 ジエチレングリコール モノブチルエーテル 80％ ジエチレングリコール ジメチルエーテル 20％ 実施例２ 本発明の洗浄剤 ジエチレングリコール モノブチルエーテル 90％ トリエチレングリコール ジメチルエーテル 10％ 実施例３ 本発明の洗浄剤 ジエチレングリコール モノブチルエーテル 80％ トリエチレングリコール ジメチルエーテル 10％ 水 10％ 比較例１ 洗浄剤 ノニルフェノールエチレン オキサイド（２モル）付加物 １％ 水 99％ 比較例２ 洗浄剤 1,1,1,− トリクロロエタン 100％ 比較例３ 洗浄剤 イソプロピルアルコール 100％ 比較例４ 洗浄剤 アセトン 100％ 本発明の洗浄剤および比較の洗浄剤の洗浄性と引火点
を下記の方法に従って試験した。その結果を表−１に示
す。

洗浄性 スクリーン版に各インキを塗布乾燥後、超音波洗浄機
（シャープシステムプロダクト社製スクリーン版超音波
洗浄機UC−4101S5を使用）で洗浄温度40℃洗浄時間５分
で洗浄し、スクリーンのインキの付着状態を観察した。

○：インキの付着無し △：一部インキの付着あり ×：インキは殆ど付着したまま 引火点 JISK2265原油及び石油製品引火点試験方法による。

比較例２は塩素系の洗浄剤であるため、洗浄性が良
く、引火性もないが地下水への混入による環境破壊の問
題がある。

［発明の効果］ 本発明の洗浄剤は、非塩素系であり環境の破壊の恐れ
が無い。且つ引火点も高く通常のスクリーン印刷版を洗
浄する40℃〜50℃での使用では引火の心配も少ない。洗
浄性については超音波洗浄をする限り塩素系のものと同
等の洗浄性を有している。優れた洗浄剤である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（１）で示される化合物（Ａ）
   と、下記一般式（２）で示される化合物（Ｂ）とからな
   るグリコールエーテル類を主成分とし、60℃以上の引火
   点を有する超音波洗浄機用洗浄剤。 一般式 R₁O（CH₂CH₂O）_nH （１） 式中、R₁は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは１〜３の整
   数を表す。 一般式 R₂O（CH₂CH₂O）_mR₃ （２） 式中、R₂、R₃はそれぞれ炭素数１〜８のアルキル基、ｍ
   は１〜３の整数を表す。
2. 【請求項２】（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて
   （Ａ）が80〜90重量％、（Ｂ）が10〜20重量％である請
   求項１記載の洗浄剤。