JPS5983994A - 単結晶の製造方法 - Google Patents

単結晶の製造方法

Info

Publication number
JPS5983994A
JPS5983994A JP19002382A JP19002382A JPS5983994A JP S5983994 A JPS5983994 A JP S5983994A JP 19002382 A JP19002382 A JP 19002382A JP 19002382 A JP19002382 A JP 19002382A JP S5983994 A JPS5983994 A JP S5983994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
crystal
raw material
single crystal
melt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19002382A
Other languages
English (en)
Inventor
Kengo Ono
小野 賢悟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokin Corp
Original Assignee
Tohoku Metal Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tohoku Metal Industries Ltd filed Critical Tohoku Metal Industries Ltd
Priority to JP19002382A priority Critical patent/JPS5983994A/ja
Publication of JPS5983994A publication Critical patent/JPS5983994A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • C30B11/04Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
    • C30B11/08Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt every component of the crystal composition being added during the crystallisation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、るつぼ内で融液がら単結晶を製造する方法に
関する。
るつは向凝固法による単結晶の製造法とじてブリッジマ
ン法がある。これは、古くから知られている優れた単結
晶の作製法である。しかしながら、ブリッジマン法では
、広い固溶領域をもつ材料の単結晶を目的とする場合に
は、結晶内に組成の偏析が生じるのは原理的に避けられ
ない。
このブリッジマン法がもつ結晶中の組成の偏析をカバー
するために、るつぼに少量の原料を装填し、ブリッジマ
ン法と同様にるつぼ先端部から結晶化せしめつつ、るつ
ほの上部から、棒状、粉末状または顆粒状の固体原料を
供給して。
結晶の成長を行なう方法が提案されている。
この方法は、結晶の成長速度に合せて原料を装填するこ
とにより、融液の深さを制御することができ、さらにこ
のために組成の偏析を制御することができる。融液の深
さを薄くすることは、結晶組成の偏析を抑える上で有効
である。
しかしながら、融液の中に固体原料を装填することは、
溶融の潜熱を必要とし、これがため融液内の温度変動を
招き、あるいは融液相の゛−時的凝固を引起すこともあ
る。このことは、結晶の成長速度に変動を生じ、結晶内
の組成偏析t」、もとより、結晶品質にも悪影響を及ぼ
すことは明らかである。
従って9本発明の目的は1組成偏析が少なく。
かつ高品質の単結晶を得ることができる単結晶の製造方
法を提供することにある。
以■1図面を参照して本発明の実施例について説明する
第1図を参照すると9本発明の一実施例による結晶製造
の様子が示されている。第1図にトいて、1は電気炉で
ある。この電気炉1−菖第2図に示L7だ如く、炉内位
置の中火部で最高温となり、該中火部から上下方向に離
れるに従って温度が下がる温度分布を有している。電気
炉1内でるつぼ5の中に少量の原料を装填し、まず、こ
れを電気炉1の最高温部で溶融させる。
その後、るつぼ5を所定速度で降下させて、その先端部
から単結晶2を成長させつつ、上方からは棒状の結晶原
料4を挿入し、その先端を電気炉1内の最高温部によっ
て溶液させ、融液面上ニ滴下させることによって、融液
6が補給される。結晶原料4の挿入速度(単位時間あた
りの挿入量)を、るつぼ5内の結晶成長速度、つまりる
つは5の降下速度に一致させることにより、融液5の深
さは一定に制御され、かつ融液3の温度変動を最小に維
持することができる。
その結果、結晶中の組成偏析を小さくシ、かつ高品質結
晶を得ることが可能となる。なお、第1図において、6
はるつぼ支持棒である。
以上説明したように1本発明によれば、固体結晶原料を
溶融したものを融液面上に滴下させることによって、融
液の補給を行なうようにした単結晶の製造方法が得られ
1組成偏析が少なく、かつ高品質の単結晶を得ることが
できる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は2本発明による結晶作製の様子を模式的に示し
た断面図、第2図は第1図の電気炉1内の」皿上方向温
度分布を示した図である。 1:電気炉  2:単結晶  6:融液4:棒状の結晶
原料  5:るつぼ 6:るつぼ支持棒 第1図 招2図 5五及

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、」二下方向に所定の温度勾配を有する電気炉内に配
    置したるつぼの下部に結晶原料を装填、溶融せしめ、か
    つ該るつぼ先端部から単結晶を成長させた状態において
    、該るつぼ内に上方から棒状の結晶原料を挿入し、該棒
    状の結晶原料を干一端から順次溶融・滴下せしめること
    によって融液を補給し、同時にるつぼを所定速度で降下
    させることによって単結晶を製造することを特徴とする
    単結晶の製造方法。
JP19002382A 1982-10-30 1982-10-30 単結晶の製造方法 Pending JPS5983994A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19002382A JPS5983994A (ja) 1982-10-30 1982-10-30 単結晶の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19002382A JPS5983994A (ja) 1982-10-30 1982-10-30 単結晶の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5983994A true JPS5983994A (ja) 1984-05-15

Family

ID=16251081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19002382A Pending JPS5983994A (ja) 1982-10-30 1982-10-30 単結晶の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5983994A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6042293A (ja) * 1983-08-18 1985-03-06 Sony Corp 単結晶の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6042293A (ja) * 1983-08-18 1985-03-06 Sony Corp 単結晶の製造方法
JPH0366277B2 (ja) * 1983-08-18 1991-10-16 Sony Corp

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4894206A (en) Crystal pulling apparatus
EP0340941A1 (en) Method and apparatus for manufacturing silicon single crystals
JPH02133389A (ja) シリコン単結晶の製造装置
US5785758A (en) Single crystal growing apparatus
JPS5983994A (ja) 単結晶の製造方法
JP2758038B2 (ja) 単結晶製造装置
JPS6136192A (ja) 単結晶製造用るつぼ
JP4576571B2 (ja) 固溶体の製造方法
JPS5997592A (ja) 単結晶の製造方法
JP3660604B2 (ja) 単結晶の製造方法
JPS61242981A (ja) 単結晶の製造方法
JPH0699228B2 (ja) 単結晶の引上方法
JP3647964B2 (ja) 単結晶基板の製造方法および装置
JP2001072488A (ja) 固溶体単結晶の製造方法
JPS59141488A (ja) 単結晶育成装置
JPH09227280A (ja) 単結晶育成方法
JPH09142982A (ja) 単結晶育成装置及び単結晶の育成方法
JPH03215384A (ja) 結晶成長装置
JPH09255471A (ja) 単結晶の製造方法及び製造装置
KR20030058714A (ko) 실리콘 단결정 잉곳 성장장치의 열실드 및 그를 이용한실리콘 단결정 잉곳 제조방법
JPH0442890A (ja) 結晶成長装置
JPS61155288A (ja) 帯状シリコン結晶製造方法
JPS63218594A (ja) 単結晶の製造方法
JPH03131591A (ja) 結晶成長方法及び結晶原料溶解装置
JPS5850954B2 (ja) 結晶育成装置