JPS598067B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPS598067B2
JPS598067B2 JP54011554A JP1155479A JPS598067B2 JP S598067 B2 JPS598067 B2 JP S598067B2 JP 54011554 A JP54011554 A JP 54011554A JP 1155479 A JP1155479 A JP 1155479A JP S598067 B2 JPS598067 B2 JP S598067B2
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JP
Japan
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manufacturing
sealing
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mold
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雅信 小原
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は可撓性絶縁テープに形成された開口部の周縁
から互に相対して内方向に張出した複数の導体に半導体
基板を取付ることにより製造される半導体装置の製造方
法に関するものである。
最近、ポリイミド等の有機材料で作られた可撓性絶縁テ
ープに複数群の外部導出用の導体を抱した複数のパッケ
ージ基板に半導体集積回路基板(以下ICチップと呼ぶ
)を各々取付け、この後前記ICチップを樹脂等により
封止するICの製造方法が採用されるようになつてきた
。このような製造方法はワイヤボンドとダイボンドを同
時にすることができると共に複数のICを順次高速に生
産することができるという特徴を有するためカメラ、時
計、電卓等用のICに広く採用されるようになつてきた
。第1図はこのような従来のモールド型ICの製造に使
用されるパッケージ基板の斜視図、第2図は第1図に示
すパッケージ基板を出発材料とする従来のモールド型I
Cの製造方法を示す工程別断面図である。
第1図に於て1はポリイミドフィルム等の可撓性絶縁テ
ープ、2は可撓性絶縁テープ1の中央部に形成されIC
チップが配置される開口部、3は開口部2から所定距離
を隔てた状態でこれを四方から囲繞する4つのスリット
状の長孔部、4は前記開口部2と前記長孔部3との間に
形成された口字状の導体支持部、5は長孔部3の周囲に
位置する外縁部、6は外縁部5から開口部2に張出すよ
うに延在した複数の導体、Tは1〜6から成るパッケー
ジ基板である。
このようなパッケージ基板1は一般にポリイミドフィル
ム等の可撓性絶縁テープ1に予め前記開口部2および長
孔部3を形成後、これらの孔を含むテープ計上に銅箔等
の金属箔を被着しその後写真製版法等により前記導体6
を形成することにより製造される。第2図aは第1図に
示すパツケージ基板rのa−a断面図であり、このパツ
ケージ基板7を出発材料としてこの開口部2に張出した
複数の導体6の一端6aに第2図bに示すようにこれら
に支持されかつ接続されるようにICチツプ8を取付け
る。
つぎに第2図cに示すように支持部4の両主面土とこの
支持部4内側に位置する導体6およびICチツプ8を包
囲するように開口部2にこの両面から封止樹脂9を滴下
に凝固する、いわゆるポツテイング法により樹脂封止す
る。
前記導体支持部4は封止樹脂9の開口部2からの流出を
防止する作用も有する。つぎに第2図dに示すように外
縁部5をIC本体に接続される導体6から切り離すこと
によりモールド型1C10が完成する。
このような従来の製造方法により製造されたモールド型
1C10は上述のようにポツテイング法により樹脂封止
するので、開口部2の両面の封止樹脂9は丸みをもつた
凸部を有する形状となり、しかも厚さ寸法が大きくなる
このためモールド型1C10を、第3図に示すようにガ
ラスエポキシまたはセラミツク等の絶縁基板11にパタ
ーン状に形成された複数の導体12を有する実装基板1
3等に実装しようとする場合、開口部2の両面に位置す
る封止樹脂9の厚さ寸法が大きいために多くの空間を要
することになり小型化が困難であつた。特にこの種のモ
ールド型1C10は前述のように専らカメラ、電卓、時
計等に使用され、最近小型化、薄型化の傾向が著しいた
め上記欠点は重大な問題となつている。またモールド型
1C10は実装基板13に実装の際その封止樹脂9の凸
部が絶縁基板11の表面に接するため第2図dに示すモ
ールド型1C10の形状のま\ではその姿勢が不安定に
なりやすく、このため複数の導体6の外側端部を各々同
様の曲げ加工を施して、安定的な姿勢を保つことができ
るようにして第3図に示すように装着する必要があり装
着作業に多大な工数を要する等の問題があつた。さらに
゛口字状の導体支持部4を有する構造であるため長手方
向の寸法が大きくなり装着に要する空間が大きく成ると
共に前記導体支持部4を形成するための多大な材料費お
よび加工費を要する0上述の封止樹脂9の凸部に起因す
る二つの問題については、これを解決するために例えば
第4図に示すように絶縁基板11の封止樹脂9の凸部に
接する部分に貫通孔14を形成し、この貫通孔14に封
止樹脂9の凸部をはめ込むようにすれば上述の装着上の
問題は除去でき、また厚さ寸法″による問題も改善され
る。しかしながらこうすれば実装基板13の導体12の
収容度が低下するという別の問題を生ずる。この発明は
上記従米の問題を取除くためになされたものであり、表
面の少なくとも一方が平坦であり長手方向寸法が小さい
半導体装置を製造することができる半導体装置の製造方
法を提供するものである。第5図はこの発明の一実施例
に使用されるパツケージ基板を示す斜視図、第6図はこ
のパツケージ基板を出発材料とするこの発明の一実施例
になるモールド型1Cの製造方法を示す工程別断面図で
ある。
図中第1図、第2図と同一符号は相当部分を示すもので
あり説明は省略する。第5図に於て15は可撓性絶縁テ
ープ1に形成され、ICチツプ8とこのICチツプ8に
接続される複数の導体6が各々設けられる開口部であり
、前記導体6は開口部15の外縁部16から互いに相対
して内方向に張出すと共に延在するように設けられる。
17は前記1,6,15,16から成るパツケージ基板
である。
このようなパツケージ基板17は前記従来のモールド型
1C10の製造に使用されるパツケージ基板rと同様の
製造方法で作られるが前記従来のもののような長孔部3
や導体支持部4を有さない形状であるので加工費および
材料費を低減できると共にモールド型1Cを小型化する
ことができる。第6図aは第5図に示すパツケージ基板
1rのVIa−VIa断面図であり、このパツケージ基
板17を出発材料としてこの開口部15に張出した複数
の導体6の一端6aに第6図bに示すようにこれらに支
持されかつ接続されるICチツプ8を取付ける。
つぎに第6図cに示すようにICチツプ8よりもその表
面の面積が大きく前記開口部15よりもその表面の面積
が小さい樹脂またはセラミツク等で作られた平板18を
エポキシ等の接着樹脂19を介してICチツプ8の導体
6が接続された表面にこの表面を被うように装着する。
つぎに第6図dに示すようにICチツプ8の平板18が
接着された表面と逆の表面側からこのICチツプ8およ
びこのICチツプ8に接続される複数の導体6の一端6
aを完全に包囲するように封止樹脂9を滴下して凝固す
るいわゆるポツテイング法により樹脂封止する。
この場合封止樹脂9は可撓性絶縁テープ1まで封止しな
いように上記絶縁テープと離隔して形成する。つぎに第
6図eに示すように絶縁テープ1の外縁部16を切り離
すことによりモールド型1C20が完成する。
上記この発明の一実施例になる製造方法によれば封止樹
脂9による封止は前述の従来の製造方法と同様にポツテ
イング法により行なわれるが、この樹脂封止の前に予め
ICチツプ8の一方の表面を、この表面よりも面積が大
きく開口部15よりも面積が小さい平板18で被つてい
るので完成したモールド型1C20のいずれか一方の表
面は平坦に形成され、しかも前述の製造方法で製造され
たモールド型1C10よりも厚さ寸法は小さくなる。
したがつてこの発明の一実施例になる製造方法により製
造されたモールド型1C20を第r図に示すように実装
基板13に実装した場合、前述の従来の製造方法により
製造されたモールド型1C10よりも占有空間を小さく
することができる。
しかもモールド型1C20の一表面が平坦に形成される
から、このモールド型1C20を第7図に示すように絶
縁基板11の表面に前記平板18が接するように載置し
た後モールド型1C20の導体6を実装基板13の導体
12に接続すれば、この接続作業は前記従来の実装方法
より格段に容易になる。また上記この発明の一実施例に
なる製造方法により製造されたモールド型1C20は出
発材料となるパツケージ基板17に前記従来の製造方法
によるモールド型1C10に使用されたパツケージ基板
7のような口字状の導体支持部4を有さないので、この
モールド型1C20を実装基板13に取付けた場合の占
有面積を小さくできると共にパツケージ基板17の加工
費や材料費も低減できる。
なおこの発明の一実施例になる製造方法により製造され
たモールド型1C20を第r図に示すように実装しても
封止樹脂9の凸部の高さが所要寸法内に入らない場合に
は第8図に示すようにモールド型1C20の平板18が
接する絶縁基板11の表面に凹部21を形成すればよい
。第9図はこの発明の他の実施例になる製造方法により
製造されたIC3Oを示す断面図である。
この他の実施例は前記一実施例の第6図bに示す工程を
経たIC(7)ICチツプ8の導体6が接続された表面
にこの表面よりもその表面の面積が大きく、その表面の
面積が開口部15よりも小さい平板18を接着樹脂19
を介して前記1Cチツプ8の表面および導体6の一端6
aを被うように接着すると同時に前記1Cチツプ8の導
体6が接続された表面と反対の表面側に前記1Cチツプ
8を被うように頂部に平坦面を有しセラミツク樹脂また
は金属等で作られたキヤツプ22を前記接着樹脂19に
より平板18に接着してICチツプ8を封止することに
より行なわれる。このような他の実施例になる製造方法
により製造されたIC3Oも上記一実施例になる製造方
法により製造されたモールド型1C20と同様の効果を
有すると共に厚さ寸法をさらに薄くすることができ実装
に於ける占有空間をさらに小さくできるO上記説明のよ
うにこの発明は可撓性絶縁テープの開口部に周縁から内
方向に複数の導体を設け、導体の先に半導体基板を接続
し、半導体基板の導体が接続された方の表面にこれを被
うように接着樹脂を介して平板を接着すると共に、半導
体基板と導体の端部とを封止部材でテープから離隔した
状態で封止することにより、半導体装置は封止部分な平
坦面が形成されるために厚さ寸法を薄くすることができ
、実装作業が容易になる。
また、導体の先が平板に接着されるため導体を互いに補
強することができる。さらに素材となる可撓性絶縁テー
プの形状が簡単かつ小型化されることにより材料費や加
工費が低減でき、実装に於る占有空間も小さくできると
いう優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のモールド型1Cの製造に使用さ・れるパ
ツケージ基板の斜視図、第2図は第1図に示すパツケー
ジ基板を出発材料とする従来のモールド型1Cの製造方
法を示す工程別断面図、第3図、第4図は各々従来の製
造方法によるモールド型1C10を実装基板13に実装
した状態を示す実装状態図、第5図はこの発明の一実施
例に使用されるパツケージ基板の斜視図、第6図は第5
図に示すパツケージ基板を出発材料とするこの発明の一
実施例になるモールド型1Cの製造方法を示す工程別断
面図、第r図、第8図は各々この発明一実施例によるモ
ールド型1C20を実装基板13に実装した状態を示す
実装状態図、第9図はこの発明の他の実施例によるモー
ルド型1C30を示す断面図である。 図中同一符号は相当部分を示す。 1は可撓性絶縁テープ、6は導体、8はICチツプ、9
は封止樹脂、15は開口部、18は平板、19は接着樹
脂、22はキヤツプ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 開口部とこの開口部の周縁から互に相対して内方向
    に張出した複数の導体が設けられた可撓性絶縁テープを
    準備し、つぎに上記可撓性絶縁テープの上記開口部に半
    導体基板を配置すると共にこの半導体基板と上記複数の
    導体を接続し、その後上記半導体基板の上記導体が接続
    された方の表面にこの表面を被うように接着樹脂を介し
    て平板を接着すると共に、上記半導体基板と上記導体の
    上記半導体基板と接続された端部とを封止部材で封止し
    、かつ封止部材を上記可撓性絶縁テープから離隔して形
    成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 2 封止はホツテイング法により滴下される封止樹脂を
    使用して行なわれる特許請求の範囲第1項記載の半導体
    装置の製造方法。 3 封止は平板と接着樹脂を介して結合されこの平板の
    主面と並行な平面を有するキャップ状の包装容器を使用
    して行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の半導体装置の製造方法。
JP54011554A 1979-02-02 1979-02-02 半導体装置の製造方法 Expired JPS598067B2 (ja)

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