JPS5978354A - 静電写真像形成部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は消電写真、特に勅規な光導、　’ｒｉ−＋、性
部相およびイの製法およびそれを使用Ｊ−る方法に関づ
−ろ。

ゼログラフィーの技術においては、光導電性絶縁層を＋
ＦＵ１−ろゼログラフィツクプレートに次のように像形
成する。まず、その表面を一様＋ｃ　ｆｉ４１電的Ｖｃ
帯＠１−る。それ力）ら、このプレートを洸のよう１４
：　’／ｉ！＋性ｉ［４、磁波のパターンに露出して、
光導電性絶縁体の光照射領域の電荷７ｙ　、’（＋３択
的に消失さゼイ）ことによって非照射領域にＷｆ電潜像
馨クシ１−１それから、この元導電性絶ｆ采層の５′受
面Ｖこ微細な検１江性マーキング粒子を刺着さぜろこと
い二よってこのＮ−４電泪像ケ現像して可視保′に！−
ることかできる。

ゼログラフィー用光１＝　’ｆＢ’、層はガラス質セレ
ンのような単−Ｉ料の同質層であってもよいし又は光導
寛体と別のＩ料を含有する６１合層であってもよい。ゼ
ログラフィーに使用されと）炉台５Ｙ；　ｉｑ、’ｔｌ
、’層の一例は木口ｉ’　Ｑ’ｒ＊ｌ′ａｎ　４．２６
５．９９０号に開示されているような少／、Ｃくとも２
層の電気作用層を有する彰光性部わである。その一方の
１（！５は１仕）・光発生しそして光発生した正孔ン１
１７＋＋接ハ荷輸送層に注入′ｆ石ことかで鍍る光導す
７層から１よる。−Ｌｉ夛に、この２層の外気作用層は
）５電層上に支持されているが、正孔ン光発生しそして
そのブ「発生したｊ、ヒ孔を注入することができる光導
７１・Ｉｉｔ′Ｔ＆ｉ’　ｌｉｑ・接４１・荷軸送局と
支持導電層との間に訃；げられてｔ・マリ、ｆ！・１荷
輛送層の外表部は通常負極性の一様電佃で帯電さ才１１
そして支持７ＪＩ棒は陽Ｖしとして第１１用さオフイ」
。明ら２ハ／にとであるが、電子馨光発生しそしてその
つ゛６発４’した間予ｆ　’ｒ：に、’倚ｑ’１ｉｌｉ
送局に注入丁し５ことができる光ψ重層と支持正極との
間に匍＃Ｊ輸送層が挾まれている場合にも支持俤、相７
は陽極として作用する。

勿論、この態様における１１Ｉ、荷幅送局は光導電７層
からの）°Ｃ発生覗子のυ：入乞支持（５ｕｐｐｏｒｔ
　）　Ｌそしてｉ１３’、　（ｆｊＪψ１１１送ｊ１ヤ
内で電子”ｘ　Ｍ送することができなげれば１．仁らな
い、 ’ｔＨ，４：ｊ１発発生および電狗輔１送層用のイソ料
は種々のｔｌｉ　６ｆｆｉわぜがイ鼻バ・Ｊされている
。例えば、米トレ１庁言乍ζｒ’ｒ　４−）　６５＋９
９０月に記載されている感光性部材けΣＩ？！１カーｚ
ｌｆｆネート拉１月１１と９寺定シアばン１４車以上と
から／、（る１（（値幅送局に１１！・・接した市りｊ
発生トド？乞使用している。正孔を光発生し子して正孔
乞篭狗輸送層へ汀入ずろ能力を有するう′Ｃ涛電層から
なる種イ１（の発生層が杉・８．１されている。発生層
に使用されているイ（表的なうＹ・導電性ｐ旧は無定形
セレン、三方晶系セレン、およびセレン合金例えばセレ
ン−テルル、セレンーテルルーヒ素、・セレンーヒ素、
およびそれ等混合物である。譬・、荷発生層は同質光導
質性林料から構成されてもよいし又は結合剤中に分散さ
れた粒状う°ｒ、ψηｊ性イ＝ｘ料てパ構／ｊｌｊされ
てもよい。その仙の回！（タイプおよびＰ合？￥ｌ−１
タイプの％Ｌ荷発生層σ）列は米１１１特許第４．２６
５．９９　ｎ号に開示されている。ポリ（ヒドロキンコ
゛−チル）　ｆｌ、Ｉ脂のような別種のＸ：；合イブ料
のｆｌｌは木ｆｆｊ（・と同Ｈに出ｊｌｉｌｌ′ｌされ
たレオンＡ、チコーシャ＝、フランクＹ、パンおよびイ
ーアンＤ、−ｒリスンの米国用Ｆ：「レイヤード・フオ
トレスボ゛ンシデ・イメージング−ディバイス」の中で
で、・示されている。この共Ｑ：：１による開示および
上記′Ｘド１！ｒ′？許第４，２６５，９９０号による
開示は全体的に本１９．ｌ’ｌの参堝忙なろ。−ヒ訓θ
）ような少なくとも２層の′市気作用層をイ１づ−る感
光性部材は一様な弁の訃矩、荷で弗電さｔｌ、ｉｔ）：
　Ｔｈシ：−＞’ｃされそれから微ｘ’＋ｔ＋な検１■
、性マーキングれ子で功怜されたときに仙′れた曲・係
ケ牛ずイ）シ、プハしプ、〔がら、匈”？′出。

性支持体がｂｙ化アルミニウノ、のよつな酸化物からな
る外面を有する金蔵力・らなろ場合には、（ｓｊψ用高
速初写機や印刷機におり゛るｒ・；化７５戸の第しいザ
イクル条件下ではこれ等感光性部材に問題が在る。

例えば、樹脂と粒状光導電体からなる砂、る重荷発生層
がアルミニウム電極の酸化アルミニウム層に距；、接す
る鳴合には、「サイクリングアップ」と云う′ｆＪ？象
が生ずることが慣１明した。サイクリングアップとはｔ
ド、子写真の繰り返しサイクル中にム、留電イψがＡゼ
［′１−ろことである。残留電位の蓄積はサイクル数が
多くなるにつれて徐々に増大して例えば３００ボルトも
高まることがある。従って、残留電位は表面１１．“圧
の増加を引き起す。残留電位および表面’１４、圧の蓄
積はゴーストを発生さゼ、イ１終的にコピー上のかぶり
を増加させるので８度の高い高速度叶産型扶り機や印刷
機には許されない。

米国特許第４．２６５．９９０号に開示さプ１ているよ
うＫＡ日２　Ｓｅ　３のような同質発生層Δ′有する感
光性部材は高速量産型初写機や印刷機における晶すイク
ル昏件にさらされたときに表面ｔ、　Ｊ−Ｔ−の［−サ
イクリングダウン」ヲ生ずると云うことが１′ＩＩ明し
た。

サイクリングダウンが１２・と、表面色圧および電荷つ
容性が低下し例えばＤ’ｓ　ｆｆｌ域、の昭涙、Ｆが増
大し、良／Ｊ１１．ｃ曲１佐をイ！するためのコントラ
スト化１もｌが下がるので像退行を生ずる。こ才１は望
ましくない疲労的問題であり、高速量産パリ分！Ｉ！Ｊ
では許容できｌ、（−い。

このように、賜杯電相および少１／：、−くとも２層の
電気作用層？有し負帯箱、像形成方式を利用１−４）感
うＹ：件部わの特性は量産用高速佇写伴塾や印刷機のホ
シしいザイクル条件下では欠陥を４１する。

発明の１！′を要 本発明の目的は４．・正、性金属１；１．冒「１・の金
属酔化Ｉ吻層上に扱榊された下記−舶弐ケ有する加水分
触されたシラン： ｙ またはぞの′Ｌ１１合物 （式中、Ｒ１は炭素１〜２０片子含重子含有アルキリデ
ン基、Ｒ３、Ｒ３およびＲ７け個別にＨ１炭素１〜３屈
１子含有低級アルキル基、およびフェニル基から）Ａ′
る粗から選らばｆｔ、、　　；＝は酸または陽性地の陰
イメンであり、ｎは１．２、ろまたは４であり、そして
ｙは１．２．３ま７こは４である）のル応牛成物のシロ
キサン被膜の土に、電荷発生Ｊ州およびｌＱ４：接ｌド
、彷Ｊ輸送局ケ包自する少なくとも２層の■・佳作用層
を有′１−る倚形成部本（乞提俳１−ることマー”　、
ｌ：、＋　２・。この伶形成部拐は、金属ｍ電性陽極層
の”’　Ｋ％　酸化物層上に加水分解されたシランのＰ
１１１層約４〜約１０溶液の被作物をイ・１着させ、こ
の反応生成物のＪｊりをル’＞　Ｐｊ＝　ｌ、てシ１３
キ゛リンネ）りｊ換を４ト成し、そしてこのシロキサン
被膜に届気作用層を設けることによつ−Ｃ３１１４造さ
れる。

発明の詳細 加水分触されたシランは下相１４ｊ’４　＞９ｒ　：ｉ
”、をイ１ｊろシラン乞加水分角゛イすることによって
作成できろ：Ｒ６０Ｒ３ 〔式中、Ｒ工は埃素１〜２０川・子を含有″１−るアル
キリデン基であり、Ｒ２およびＲ，＆’Ｊ、侃・別ＶＣ
Ｈ，炭翠１〜６ルｌ子ン含有する餘級アルキル基、フェ
ニル）占および）３′：す（エチレンアミノ）基からｉ
五らばれ、そしてＲいＲ５：ｔｔｒよびＲ６げイ１６．
別に駄素１〜４）に子ｆ、有１Ｂ、糾アルキル基から選
ら目、れる〕力１１７に分解可能なシランσ）代表回目
ろ一アミツブ９０ビ′ルトリエトキシシラン、Ｎ−アミ
ノエ′ｆルーう−アミノプロピルトリメトキシシラン、
６−゛アミノフ゛２０ビ°ルトリメトキシシラン、（’
Ｎ、Ｎ’−ジメチルろ−アミノ）プロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ。

Ｎ−ジメチルアミノフェニルトリエトキシシラン、Ｎ−
フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、トリメト
キシシリルデロビルシエチレントリア、ミンおよびそれ
等沼合物である。

Ｒ１がもつと長釧になると、その化合物は安定性が悪く
なる。Ｒ□が炭素約６〜約６原子を含有するシランはそ
の分子が安定で可撓性で歪の少ないことから好ましい。

Ｒｏが炭素６加子乞有する場合に最適結果が得られる。

Ｒ２およびＲ３がアルキル基である場合、渭、足な舶来
が得られる。・泪らかで均一な最適被膜はＲ２およびＲ
３が水素である加水分解シランによって作成される。Ｒ
４、Ｒ５およびＲ６が炭素１−４原子含有アルキル基で
ある場合、そのシランは満足な加水分Ｗ＋ｙｘ行うこと
ができる。アルキル基が炭素４原子を越えると、加水分
解は非実用的な程ゆっくりになる。アルキル基が炭素２
原子を有する曜７合、シランの加水分解はル良の結果を
生ずる。

上記のアミノシランの加水分角９中に、アルコキシ基は
ヒドロキシル基に置き携えられろ。力１１水分解が続行
するとき、力１１水分解されたシラン（ま下言己の中間
構造式をとる： ＨＯＲ３ 乾燥後、加水分解されたシランから生成さＪｚたシロキ
サン反応生成物はｎが６以上の太き℃・分子ン含有する
。加水分子ｖＩされたシランのＢ、　ｔ、Ｉｊ：成′吻
（まφｈ状であっても、一部架橋され°Ｃ１，・でも、
二１−ｒｉｆ本や三量体等であってもよ℃・。

加水分解されたシランの溶液番文ケイ素肺子に結合して
いるアルコキシ基を加水分Ｗ（するた、１７’）　Ｋ　
１−分な水を添カルて溶液にすることによってつくられ
る。水が不十分な場合にはＪＩＩＬ乱、力１層水分庁ト
さＪしタシランが望ましくないゲルになってＩ、まっ。

一般に、薄い溶液は〜、い被作物を得るブこａｒ）＆こ
投了ましい。満足な反応作成物被膜は溶液σ）全゛Ｉ扛
量にヌ寸して約し１．１〜約１−５　Ｎ′！；％のシラ
ンを含′有Ｊ−る溶液によって達成′１″ることかでき
る。均一な反応生成物層を作成するための安定な溶液を
得るに（プ溶液全重−ｊ＃　Ｋ対して約０．０５〜約０
．２重Ｍ％のシランを含有する溶液がｆＥましい。

電気的安定性を最適化づ−るためにはカ１１水分鋼され
たシランの溶液のＰＨを注意して制御１゛ることか必要
である。溶液のｐＨは約４〜約１０が好ましい。

溶液ｐ［（が約１０より高くなると、厚い反応生成物層
の形成が困勇１１、になる。さらに、約１０より高いＰ
Ｈを有する溶＃を使用すると、ル応住成物被膜の柔軟性
にも態影響がある。さらに、約１０より高い又は約４よ
り低いｐＨｗ有する加水分解シラン溶液は−）’ｃ：受
容体簀成品の貯蔵中に金属導電性陽極層例えばアルミニ
ウムを含何するものを苛酷に腐蝕づる傾向がある。Ｊ匿
過反応生成物層は約７〜豹８のＰ１１ケ有づ−る加水分
熱シラン溶液によって達成される：それはそれで処理さ
れた光受容体のツーイクリンクアップおよびサイクリン
グタウン特性の抑制が丸太になるからである。約４より
低いＰｆ（を有１−る加水分納アミノシラン溶液ではい
くらが許容できるサイクリングダウンが観渇された。

加水分解シラン溶液のＰｌｌの制御はｊ〆１当な有＋Ｓ
　ｃ）β、無機酸または酸性す島によってヲ゛行できる
。４（表的な有機酸、無機酸および酸性塩はＰｌｌ１−
酸、クエン酸、ギ酸、ヨウ化水素、リン酸、地化アンモ
ニウム、ヒドロフルオロケイ酸、ブロモクレゾールグリ
ーン、ブロモフェノールブルー、ｐ−トルエンスルホン
酸、等々を包含する。

必要ならば、金属導電性陽極層の４属酸化物層に対する
湿潤性を改善促進づ−るたＶ・に、加水分１９　ｆシラ
ンの水溶液は水線外の給性溶媒のような添加剤を含有し
てもよい。湿潤性の改善は加水分解シランと金属酸化物
層との間の反応をより均一にする。適当な極性溶媒添加
剤を使用してもよい。代表的な（・１・性溶媒はメタノ
ール、エタノール、インプロパツール、テトラヒドロフ
ラン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エトギシ
エタノール酢酸エチル、ギ酸エチルおよびそ１＋等混合
物ケ旬含する。ル遜湿潤性は極性溶媒添加剤としてエタ
ノールを使用することによって分１成されろ。一般に、
加水分解シラン溶液に添加される杉性溶媒の）８は溶剤
全型−階に対して約９５係未満である。

加水分角ｑシラン溶液ン金属導電性陽極層の金属酸化物
層に３ペア川するには過轟な技術が使用されろ６代表的
な適用技術は吹伺、浸漬塗布、ロール効イＩＪ、倦線ロ
ッド絡布、等々である。力１１水分角゛ｒシランの水溶
面は金属酸化物層への適用前に判ζ”Ｊ造することが々
イましいが、金属酸化物層に直接シランン遂１用してか
らこの（１着シラン被傑物を水蒸気で処理することによ
ってその場でシランを力１１水分解して金属酸化物ｊ；
イの表面上で上記ｅＪｌ範囲の加水分んシラン溶液？生
成１−ることも可能である。水蒸気は気流または洋った
空気の形態であってもよい。一般に、力１１水分解シラ
ンと金属酸化物層との反応生成物が約２０Ａ〜約２００
０Ｘの厚さの層になる時に満足な結果が達成される。反
応生成物層がこれより薄くなると、サイクリング不安定
性は増大する。反応生成物層の片さがこれまり増１−と
、反応生成物層は非導電性が増しそして電子捕獲によっ
て残留電荷が増大する傾向があり、またルい反応生成物
被膜は残留電荷の増大とラミう観点から不合格になる前
に脆弱化する傾向がある。勿論、ｌ１１１丸い被梓物は
可撓性光受容体（特に高速叩産型複写機や印刷機におい
て）Ｋとって小道、当である。

より均一な′１ｎ：気的性質的性質る反応生成物層を得
るため、％に力１１水分触□シランヲ９Ｌ全にシロキサ
ンに転化して未反応シラノール火卿＜１−ために、金属
酸化物層上の加水分触シランの乾燥または硬化はだいた
い室温より高い温度で行うべきである。

一般に、電気化学的性質を最大に安定化するたり）に約
１００°Ｃ−釣１５０℃の反応温〃漆が女イましい。

選択温度は使用されろ具体的な÷す属酸化物層にいくら
か左右され、また支持体σ）γ６シＩμ堝敏件によって
も制限される。最適電気ｆヒ学的安定４ツ１：を′イＩ
Ｉ−る反応生成物層は約１６５°Ｃ”、）　ｙｌ；’＋
、黒で反応ケ実行したときに得られる。斤応温爪はメー
プン、強１１ｊｌｌ空気炉、ラジアント加熱ランプ、等
々のような適当な技術によって維持することかでき４】
１、反応時間は反応温度に依存１−ろ。高いＪ又応ＮＹ
！　Ｊ、Ｉ！ｔ：をイサ・用１−れはｌ、要な反応時間
は短くなる。−舶に１反応時間が増′１−と、加水分解
シランの夕、１橋度が増大する。禍足な結りζはｉ６温
で約０．５分へ一約４５分の反応時１１４Ｊによってた
が成される。＄毘ゝＶけ、水溶液のＰＩＩが約４〜約１
０に維持される１り１りり、反応生成物ｊ・、→が乾煙
′１−る時間内で十分な架橋が達成される。

Ｊ又応は大気圧または真空を包含１−る廼尚な圧力下で
ター施できる。反応を減圧下で行うとｄｌ、借な熱エネ
ルギ゛−はｆＪｌ、下１−ろ。

マシン壌Ｕ下で安定な電気化学的イに１．質乞イ了する
シロキザン反応生成物被膜ン生成するに十分な縮合＋＋
；　Ｊ：　ヒ架＆　カ起ったどうかは、シロキサン反応
生成′吻被Ｍｗ水、トルエン、テトラヒドロフラン、塊
化メチレンまたはシクロヘキサノンで単に洗浄しイして
この洗油シロキサンル応生成物被膜の約１０００〜約１
２０　（’ｌ　ｔ、＝、−ＩＬでの５ｉ−０−波長帯の
赤外吸収を比較検討することによって容易に判定するこ
とができる。５ｊ−０−波長帯が見えれば反応度は十分
である）；’＋１らバンドのピークが成る赤外吸収テス
トから次の赤外用′（収デストでυｌ、少しなげれば十
分な縮合と架橋が起つでいる。７．；公的に１１叫−卜
した反応生成物は同一分子＆（−シｒｆｆキサンとシラ
ノ一ルの両Ｔ；１３分馨有していると涛えられイ）。１
−７″１１３分市に重合した」と云う表現を使用したＩ
！１［４０ま、完全な重合は適冷ｌｐも苛酷な転炉１１
．寸たけ硬化条件−１でさえ追放できないからである。

加水分解シランは金１・”ｆ１酸化物層の細孔中で金１
１水ｒ３Ｎ化物勺子と反応づ−イ］と７顕われろ。

ｋ出した金属酸化物層ンイ１′１−る通導な金に４鵡・
、霜、住陽柳層をこσ】加水分％、ｊシランで処理する
。イ（″表的す導電層＆１アルミニウム、りｒＪム、ニ
ツク−ル、インジウム、錫、金’ｆｉ＝よυ・それキ）
の混合物であと）。

梼τＪ７層および金属酸化物層はウェブ、シート、ブル
−ト、ドラム等々のようなＪ＋　”３な形状Σ・とり得
る。金属導電性陽極層は必髪なｒ）はイσン−１・層の
ｐＪ撓性の、硬質の、下塗票・しの、ゴ、たＧ′１．下
塗された支持体によって支持されていでもよい。

本発明のシロギ′リーン反応年成物級膜ｌ・月１℃・て
１ｖｈいザイクリングアッフ０ケ派少さゼかつ４ｊＡ　
（Ｋ戸′、でσ）サイクリンゲタ゛ウンｌ−赳少に′１
−るためにに１゛、イＩ、°属釣電層令・陽混１・とじ
て使用しなければならず、またＬ・ν光性部拐を佼Ｌ１
１・・元画に一様に負帯電しなげねばｔ「巳ない。一般
に、少なくとも２層の電気作用層即ち少ンｃぐとも１層
の電荷輸送層および少なくとも１層の発生層を有１−る
感光件部相は負帯電され、そして金属導電性陽極層が使
用されており、その場合、正孔発生層が金属導電性陽極
層と正孔輸送層の間に介在す７．、）か又は電子輸送層
が金属導電性陽極層と電子発生層の間に介在する。

これ等２層の′電気作用層の適当な組合わせは負電荷の
Ｍ雷潜像を形成するために像様＊ｔｈ′１−る前にその
像形成表面上に一様な負電狗を受容できる１（Ｈ９いず
れを問わず本発明の力Ｆ１１層解シランと金属導電性陽
極層の金属酸化物層との反応化成物ケ使用できる。この
タイプの感光性徘徊における少なくとも２層の％佳作用
層は多数ｒ組合わぜが知らねている。少なくとも２層の
電気作用層を有し、金Ｂｉ梼電層が賜格・でありそし、
て傳？、′″Ａ−以前に一様狛弗電されろ鼾、光性部拐
の具１体例は米国製許第４，２６５，９９０号、米国特
許第　　　　　　号および本願と同日に米国１出７１．
＋＋されたレメンＡ、チューシャー、フランクＹ、パン
およびイーアンＤ、モリスンノルイヤード・７オトレス
ボ゛ンシプ−（メージング吻ディバイス」中にＧ）１示
されており、それ等開示は全体的に本願に利用される。

光導電性相料の層からなる拓荷発住層および分子量約２
０．０００〜約１２０．［：Ｉ　ＣＩ　Ｏのポリカーボ
ネート樹脂相料中に分散された一般式 （式中、Ｘは炭素１〜約４加子を有するアルキル基およ
び塩素からなる群から潅らばれる）の化合物１種以上約
２５〜約７５Ｔ「開チからなる面接電荷輸送−を有し、
上記光導電層は１Ｆ孔を光発生し注入する能カフ有し、
そして上記矩、荷軒・電層は上“記光梼電層が正孔をブ
Ｃ発ケして注入するスベクトル佃域で実質的に非吸収性
であるが上記光導電層からの光発生正孔の注入をサポー
トしかつ電荷輸送層内で該正孔を軸１送することが可能
であるイ象形成部拐にシロキザン反応生成物被膜を適用
した場合、サイクリングダウン効果およびサイクリング
ダウン効果をが小に抑制して優れた結果を速成できた。

電荷発生層の光発生正孔の注入乞サポートしそして正孔
を市２荷幅送層内で輸送づ−ろことかできろ電荷輸送層
の別の例は不活性樹脂結合剤中に分散されたトリフェニ
ルメタン、ビス（４−ジエチルアミン−２−１’チルフ
エニル）フェニルメタン、４／　、　４’／−ビス（ジ
エチルアミノ）　−２’　、７′−ジメチルトリフェニ
ルメタン等である。

多数の不活性樹脂結合剤わ料が電荷輸送層中に使用でき
、その中には例えば米国特約 第６．１２１．ＯＤ　６号（その開示は全体的に本願の
参考になる）に記載されているものが包含される。

？ハ、荷軸１電層用１％ｊ脂結合剤はｔ−・１荷発生ｊ
−に使用されるイｌｌＩ４脂結合剤Ｉ料と同じものであ
ってもよい。代表的な有機仙脂結合剤はポリカーボネー
ト、アクリレートポリマー、ビニルボリーンー、セ）Ｉ
／ロースポリマー、ポリエステル、ボ゛リシロキサン、
ボ゛リアミド、ポリウレタン、エポキシ等々である。こ
れ等フ１ぞリマーはブロック、ランダム、または交互コ
ポリマーであってもよい。硯れた結果は下記一般式のも
の力・らなる群〃ミら選らばれたポリ（ヒドロキシエー
テル）拐料からなる樹脂結合剤月利によって達成された
： ■。

および ■。

（式中、ＸおよびＹは個別に脂肪族基および芳香族基か
らなる群から選らばれ、２は水素、脂肪族基または芳香
族基であり、そしてｎは約５０〜約２００の数である） これ等ポリ（ヒドロキシエーテル）は一般にフェノキシ
校脂またはエポキシ樹脂として文献中に冷−１載されて
おり、いくつかはユニオンカーバイド社から市販されて
いる。

ポリ（ヒドロキシエーテル）の脂肪族基の例は炭素１〜
３０加子を有するものであり例えばメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘラ０チル、デ
シル、ペンタデシル、エイコブシル等である。好ましい
脂肪族基はメチル、エチル、プロピル、ブチルのような
炭素１〜６原子含有アルキル基を仲含する。芳香族基の
具体例はフェニル、ナフチル、アントリル等のような炭
素６〜２５原子を有するものであり、フェニルが好ま・
しい。種々の公知の置換基例えばアルキル、ハロゲン、
ニトロ、スルホ等で置換されていてもよい脂肪族基およ
び芳香族基は本発明の範囲に含まれる。

２置換基の例は水素、並びにここに規定されたような脂
肪族、芳香族、僅換脂肪族、およびｆμ換芳香族の基で
ある。さらに、２はカルボキシル、カルボニル、カーボ
ネートおよびその他類似の基から選らんで、例えばその
結−！；ｌ！相応するポリ（ヒドロキシエーテル）のＪ
ステルやカーボネートにしてもよい。

射ましいポリ（ヒドロキシフェニルラはＸとＹがアルキ
ル基例えばメチルであり、２が水素またはカーボネート
基であり、そしてＩ）は約７５〜約１００の範囲の数で
あるもの？包詔“丁４）。射ましいポ１１（ヒドロキシ
エーテル）の具体例はベークライト、フェノキシ樹脂Ｐ
ＫｎＨ，ユニオンカーバイＩ’社梨、２　、２−ビス（
４−ヒドロキシフェニルプロパン）即ちビスフェノ″−
ルＡとエビクロロヒドリンとの反応によってイリられろ
；エポキシ４ｒ１１脂、アラルダイ−６０９７、チバ拐
製；ボ゛す（ヒドロキシエーテル）のフェニルカーホネ
ート、Ｚがカーボネート基である、アライドケミカルネ
１かラ市販されている；並びに、シクロビスフェノール
Ａ１テトラクロロビスフエノールＡ１テトラブロモ′ビ
スフエノールＡ１　ビスフェノールＦ１　ビスフェノー
ルＡＯＰ　、　　ビスフェノールＬ１　ビスフェノール
ｖ１　ビスフェノールＳ等とエビクロロヒドリンとから
％Ｑ　Ｎ７＝されたポリ（ヒドロキシニーチット）であ
る。

光導柘性組成物および／または顔料、および樹脂結合剤
林料ケ含有する光発生層番Ｊ一般に約０．１７ｔ〜約５
．０μの厚さを有し、好ましくは約０．３μ〜約１μの
腫さン有１−る。これ等範囲外の厚さであっても、本発
明の目的が達成されれば、選択可能である。

う“ｒ＋発生糾成物または顔料は様々な量でポリ（ヒド
ロキシエーテル）樹脂結合剤６Ｄ成物中に存在するが、
−舶に、約１０〜約６０容量係の光発生顔料が約４０〜
・約９０容量チのポリ（ヒドロキシエーテル）結合剤中
に分散されており、好ましくは約２０〜約６０容量−の
う°Ｃ発生顔料が約７０〜約８０　’ＲＳ’＋　％のポ
リ（ヒドロキシエーテル）結合剤組成物中に分散されて
いる。本発明の非雷に好ましい態様においては、２５答
量饅の光発生顔料か７５容量チのポリ（ヒドロキシエー
テ／Ｌ−）　結合剤組成物中に分散されている。

興味のあることには、上記のポリカーボネート・誌接電
荷輸送層と共に使用されろ光ｉ５（電性Ｉ利のＲカ；ｌ
？　リビニル力ルバゾール中に分子ｉりされた三方晶糸
十しンを含有する場合、低湿度でσ）長期サイクリング
中に許容できないサイクリングダウンカー起、ｐ　：　
仙Ｓ、Ｊ：　記ノン］？　ＩＪ　カー　ｒＫ　４−　ト
１ｍｔ　接’Ｍｆ　’Ｏ’＋’　４’ｉ１ｉ＋送層と共
に使用されろ光尋電九グがポリ（ヒドロキシニーデル）
　１１．１脂中に分散された三方晶系セレン粒子の１・
１ツである場合又はＡｓ２Ｓｅ３の貝窒蒸后凹質層であ
ろノ易合、反則サイクリング中に望寸しくない丈イクリ
ングアップが起イ】。

その他の代表的な光導電へ′ツは１４Ｈ＋、定形セレン
千たはセレン合金例えばセレンーヒ素、セレンーテルル
ーヒ素、Ｊｌ？よびセレン−チル／ｌ／で゛ある。

−鍜″ｔ（、ｉｌ’１ｉｉ１送層の厚さは約５〜約１０
０μであるが、この１ｆ１２囲外の即さも使用できる。

、発生層がシロキサン反応生成物被膜と電荷輸送層との
間に介在する場合、電荷輸送層は光導電体１（３荷発生
層中に飴、荷を発生ぜしめるために使用される／＆長域
の光に対１−て非吸収性である。しかし１５【がら、尋
物１性陽極層が実質的に透明である場合ては、像露光は
サンドイッチの導電性陽杉Ｊ’ｆｔ　（１１１１から行
ってもよい。′７ｆ！：■゛日、・ｆ・１送層はイーの
上に置かれた古Ｊ１′屯荷が非照射下でｔｌ・電市像の
形成・滞留７枦う程速い速ＩＶで伝導しない程瓜に絶縁
体でなければならない。

一般に、ｔｌ、細軸電層：電荷発生層の厚さ比は約２：
１から２０１］：１までの間にあることが好ましいが場
合如よっては４００：１に及ぶこともある。

、（烏合によっては、接着性を′己（（善−ｒるため又
は電包的障壁層として作用せしめるため中間層ｔシロキ
サン反応生成物被膜とｌ！Ａ接発牛ＡｓまたはＩｉ’Ａ
ｉｉ送層との間電層求してもよい。このような層を使用
する。１尺合、イ、ｈ、は幹燥厚約０．１〜約５μを・
有することが好ましい。代表的な接着剤層はポリエステ
ル、ボ１リビニルプチラール、ポ゛リビニルビロリドン
、ポ″リウレタン、ポリメチルメタクリレート等のよう
な被膜形成性７］？リマーである。

摩耗面・ｊ件ケ改善するためにｆ（・意の表面神代ｋｊ
を使用してもよい。この表面彼棺層は’Ｆｌ−１：気絶
縁性Ｖ）又はやや半總電件の有様または無４ｉ！ポリマ
ーからなる。

シロキサン反応生成物被膜によって錯ニー成されイ）０
善された糸、′母４１は長期の電気サイクリング中にＡ
１）成されるものと米えられる。シロキサン反応４Ｉユ
成物ネＩ’ｉ膜はシロキサンのケイ素ハ；１千に糸−１
合していイ。

遊離ＯＨツノ；オθよびアンモニウム基と金在陶イメン
とのル応によって金属４Ｌ電性１貌枠層から移動する金
属陽イオンケ抽狗するので長い雷気的サイクリング中に
起る＋２ｉ３’気化学的反応乞安定化せしめイ）ものと
考えられる。金属陽イオンが移動する）と云うに拠は下
記丈施例１に記載されている朱処刊１元・受容体ｋ　１
５０．ｎ　［１０サイクル以上反後使用゛−たとき光沢
のある真壁蒸着アルミニウム２９１［’＋’、性陽極廠
が消滅したことにコニって崎められる、さらに、ＩＥＥ
Ｍ分析は未処理光受容体に１６いては陽椅にｌ＆＝’ｉ
接１−ろ届佳作用ｊ、４中に４）ハ（トイオンがイＴ在
−ｉ−２，ことる′示（５、−ン一して・ｒうペヴイの
シロキサンＪ（４応り一成物被脆が光＜＞箸休に（９・
川された場合には隣接寅気作用１−中にかｌ；ｉニリ少
７．Ｉ、い金属１鍛イオンしがイＪ在し７１い・ｉとを
示していａ）。シロキザン被ｊ摸による金わシ陽イオン
の捕ｖ１！：は大部分の金属陽イオンが剛接１し佳作用
層に入り込んでそオ（を汚染して悪影響を与えることを
ｍ１することによって長いサイクリング中の電気的性質
を顕著に安定化する。

下記に多数のす：施例が示されているがこれ等は本発明
の軍７ｉｉｉ：ｉにおいて使用できるいろいろな組成物
および条件乞説明するためのものである。割合は別Ｋｊ
：ｊ定しない限りに４て型判“による。上記オ６よび後
記の記載から本発明が多数のタイプの組成物をもって実
施できそして多様な用命ケ、１￥１゛ることは明らかで
ある。

実施例１ 粒径約０．０５μ〜約０．２０／ｌの三方晶糸セレン６
６容坦％とポリ（ヒドロキシエーテル）樹脂べ一りライ
トフエノギシＰＫＨＨ（ユニ図ンカーバイド社製）約６
７容量％の分散物約１．５ｇを、Ｎ　、　Ｎ’−ジフェ
ニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフコ−ニル）１、丁
−ビフェニル−４，４′−ジアミン約０．０２５　ｇ含
有テトラヒドロフラン溶液約２．５ｇに添加する。

この混合物を０．０００５インチのバードアプリケータ
によってアルミニウム蒸着ポリエステルフィルム即ちマ
イラ（このアルミニウムは約１５ＯＡの厚さを有する）
に塗布した。このアルミニウムの外表面は湿った空気に
さらされて既に酸化されていた。それから、この部＊Ａ
を１３５　’Ｏで６分＋１ｉ１乾燥することによって、
乾燥Ｊ！；を約ＣＪ、６μを有し、ポリ（ヒドロキシエ
ーテル）約７２　清１ｉｉ＄に分散された三方晶系セレ
ン約２８容蹟％全含イｊ″する止孔発生層を形成した。

それから、口の発生層の土にポリカーボネート樹脂マク
ロロン（バイエル社製）約５０重量％中に分散されたＮ
、Ｎ’−シフコニルーＮ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェ
ニル）１．１’−ビフェニル−４，４′−ジアミン約５
０重量％を含有する電荷輸送）′Ｉ：ｙ２５μ厚を被覆
した。こうして得た２層の電気作用層を有する感光性部
材は連続回転スキャナで約１０．（Ｊ　００回の電気サ
イクリングに使用した。この連続回転スキャナは６０イ
ンヂ／秒で回転する３０インチ円周のドラムに感光性部
材を固定して１回転の間に帯電と放電を行う装置である
。３６０°の各回転において、帯電はｏｏの位置で、帯
電表面電位の測定は２２．５°で、面光は５６．２５°
で、放電表面電位の測定は７８．７５０で、現仰表面電
位の測定は２’３６．２５°で、そしてイレーズ照射は
２５８．７５°で行った。

走査テストの結果はサイクル数に対する表面電位をプロ
ットして第１図に示した。曲線Ａは帯電後約０．０６秒
の表面電位を示す。曲ｌ１ｌｉｉｌＢは帯電後約０．２
秒の露光後表面電位を示す。曲線０は帯電俊約０．６秒
の現像後表面電位を示す。これ等曲線から明らかなよう
に、表面電位はサイクル数と共に顕著に増加するので、
この感光性部インは表面電荷の大きな変動を補償するた
めの市価でＰＭ　＆’ａ　’ＩＣ装置を使用しない限り
精密な■゛産用高速復写（７Ｆ＜や印刷機で品質の良い
画像を作成するだめのものとしては許容できない。

実施例２ 溶液全重量に対して約０．４４重量％の６−アミツプロ
ビルトリエトキシシランを含有する水溶液（０，００２
モル溶液）をつくった。この溶液は溶液（０，００２モ
ル溶液）の全重量に対して約９５重量％の変性エタノー
ルおよび約５重量％のインプロパツールも含有している
。この溶液はｐｔｌ　、ｆ％＋１０を有していた。この
溶液を０．０００５インチのバードアプリケーターによ
ってアルミニウム蒸着ポリエステルフィルムマイラの表
面上に塗布し、それから強制空気炉中で温度釣１６５℃
で約６分間乾燥してアルミニウム蒸着ポリエステルフ・
ｒルムの酸化アルミニウム層上に部分的に重合したシラ
ンの反応生成物層を形成し、赤外反則分光および偏光解
析によって測定したときに約１５０″Ａの厚さを示す乾
燥層を得た。それから、この加水分ｐｒｔシランの反応
生成物層に実施例１の正孔発生層と正孔輸送ハこ１を設
けた。こうしてＹ’Ｊた２層の電気作月１層をイアする
！感光性部材に１実施例１のように連続回転スキャナで
約１０，０００回の１ｌｌｃ気ザイクリングに使用した
。走査テストの結果はサイクル数に対する表「１ｊ′屯
位谷・プロットして第２図に示した。

ｆ”−１４’４ｉ　Ａは帯電後約０．［］　６秒の表面
電位を表わず。

曲線Ｂ６；［帯電後約０．２秒の像露光後表面電位を表
わす。曲線Ｃは帯電後約０．６秒の現像後表面電位を表
わす。これ等曲線から明らかなように、実施例１の部材
に見られたサイクル数と共に増加する表面電位の蓄積は
顕著に解消しており、従って、この感光性部材は表面電
荷の変動を補償するための高価で複雑な装置を必要とぜ
ずに精密な量産用高速饅写機や印刷機の長期サイクリン
グ条件下で高品質画像を作成するだめのものとして許容
できる。

実施例６ 溶液全重量に対して約０．４４重爪上％の６−アミノプ
ロピルトリエトキシシランを含有する水溶液をつくった
（　０．００２モル溶液）。この溶液１：ｌ　Ｗ、４液
全重鍬に対して約５重量％の２にりゞｊ、工々ノールお
よび約５爪川。％のインプロパツールも含有していた（
　０．０００４モル）。この溶液にヨウ化水素を添加し
てＰＨを約７．３にした。この溶液を０．０００５バー
ドパーによってアルミニウム蒸着ポリコｒ−スカルフィ
ルムマイラに塗布し、それから強制？、！気炉内で温度
約１３５°Ｃで約３分間乾燥してアルミニウム蒸着ポリ
エステルフィルムの酸化アルミニウム層上に部５’Ｊ重
合シランの反応生成物層を彫成し、厚さ約１４ｏＸｃ赤
外反射分光および偏光ＩＷ折によって測定）の乾燥層を
？！７だ。それから、この加水分解シランから生成され
た反ｊ心生戒４３７ハｉ上に実施例１の正孔発生層と正
孔輸送層を実ｈ１１）例１と同じ手法で設けた。こうし
てイυた２層のｔ＋＝気作佳作用・１・を有する感光性
部材を実施例１のように連続１；ｉｆ　４Ｐ＜スキャナ
で約１０．０　［］　［）回の′１１ｉＪ気ナイクリン
グｉＣ使用した。この走査テストの結果Ｇ」ザイクルｉ
（に対する表面電位をプロットしに第６図に示した。

曲線Ａは帯電後約０．０６秒の表面型ｆＶ、を表わ−ノ
“。

曲線Ｂは帯電後約０．２４ｊ：の像露光後表面′電位を
表わ−１０曲２Ａ　Ｃは帯電後約０．６秒の現像後表ｉ
ｉ’＋ｊ電位る一表わず。これ等曲線から明らかなよう
に、実施例１のＩＫ　Ａ’／＋に見られたサイクル数と
共に増加する表面’ｔ１．１位の蓄積は顕著に解消して
おり、従って、このＩＩ＆光性部材は着面電荷の菱動を
補償するための高価で複雑な装置ｄを必要とせずに１’
＋’７￥ｌにな貝産用高辻複写機や印刷機の長期サイク
リング条件下で高品質画像を作成するためのものとして
許容できる。

実施例４ 溶液全重量に対し”Ｃ約０．４４重鼠％の３−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン（０，００２モル）を含有す
る水溶液をつくった。この溶液は溶液全↓ｆ（：ｌＡｔ
に対して約９５重量％の変性エタノールと約５爪量％の
イソプロパツールも含有していた（　ｆＪ、００１モル
）。この溶液にヨウ化水素を添加してｒＩＩを約４．５
にした。この溶液を０．（Ｊ　００５バードバーによっ
てアルミニウム蒸着ポリエステルフィルムマイラに塗布
し、そり、から強制空気炉中で温度約１３５℃で約６分
１’ｊｌ　’ｉ０Ｖ’−して加水分解シランからのシロ
キサン反応生成物被膜：乾燥厚さｅｙ　１４０λ（赤外
反射分光また４Ｊ偏光解析によって測定）を生成した。

それから１、このシロキ′す°ン反反応生成物層」二に
実施例１の正孔先生層と正孔輸送層を実施例１と同じ手
法で＋ｔ１２　＆ｔ　１；二。この２　Ｊ＆／の電気作
用層を有する感光性部材は実ｊｈｉ例１のように連続回
転スキャナで約５０．ＯｔＪ　０回の電気サイクリング
に使用した。走査テストの結果はサイクル数に対する表
面電位をプロットして第４図に示した。曲線Ａは帯電後
約０．０６秒の表面電位を表わす。曲１ｌｉＩｉ！Ｂは
帯電後約０．２秒の像露光後表面電位を表わす。曲線Ｏ
は’Ｊ５電後約０．６秒の現像後表面電位を表わす。こ
れ等曲線から明らかなように、実施例１０部材に見られ
た一す“イクル数と共に増加する表面μ位の蓄積は征Ｉ
４著にｊ４１′消しており、従って、この感光性部材は
表面？！Ｅ荷の変動をｔｆｆｉｉ償するための高価で複
雑な装置を心火′とゼずに精密な量産用高速復写柿や印
刷イ：；”、の長期サイクリング架件下で高品質画像を
作ｈ（６するだめのものとじてｔ「容できる。

実施例 アルミニウム蒸着ポリエチレンテレフタレートフィルム
上に厚さ約０．１５／ＪのＡ　ｓ　２　Ｓ　ｅ　３層を
従来の蒸着技術（例えば米国特許第２，７５３，２７８
号および第２，９７　［］、９０６号に示されている）
によって設けた。電荷輸送層は塩化メチレン約８５．Ｐ
中のＮ、　Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メ
チルフェニル）　１．１’−ビフェニル−４，４’−ジ
アミン約７、！ＭをビスフェノールＡポリカーボネート
Ｌｅｘａｎ　（Ｇ、Ｊｉｉ、製）約７．５　、？　Ｉに
溶解せしめることによって作成した。この電荷輸送層は
バードフィルムアプリケーターによってＡｓ２Ｓｅ２　
　層上に塗布され、それから約８０℃で約１８時間真空
乾燥さり、て２５μ厚の乾燥層になった。それから、こ
の光受容体を実施例１の連続回転スキャナで評価した。

第５図は長期電気サイクリングの結果を示す。

曲線Ａ　４′ｉ帯電後約０．０６秒の表面電位を表わす
。

ｍ１腺Ｂは帯電後約０．２秒の像露光後表面電位を表わ
す。曲線０は帯電後約０．６秒の現像後表面電位を表わ
す。曲ｉＢとＣの傍訓から容易に解るように、サイクリ
ングダウンは約４サイクル後にはもう顕著になった。こ
のサイクリングダウン特性は表面電荷の大きな変動を補
償するために高価で複雑な装置を使用しない限り８’ｆ
Ｊ密な高速量産複写機や印刷機で高品質画像を作Ｊｊ’
２するには不適である。

実施例６ 厚さ約１５ＯＡのアルミニウムを蒸着したポリエステル
フィルム（マイラ）上に０．０００５インチのバードア
プリケーターによってポリエステル樹脂デュポン４９０
００　（Ｅ、１．デュポントヌムール製）の被Ｕ！を施
した。このポリエステル樹脂被漬物は乾燥されて厚さ約
０．０５μの被膜になった。

アルミニウム族ｙｌｌ　ホ！Ｊエチレンテレフタレート
フィルム上のポリエステル接着剤層上に厚さ約０．１５
μのＡｓ２５６３層を従来の真空蒸着技術（例えば米国
特許第２，７５３，２７８号および第２，９７０，９０
６号に示されている）によって作成した。電荷輸送層は
塩化メチレン約８５ｙ中のＮ　、　Ｎ’−ジフェニル−
Ｎ　ｐ　Ｎ’−ビス（６−メチルフェニル）　１　、１
’−ビフェニル−４，４′−シアミン約７．５　ｇＹ　
ヒスフェノールＡポリカーボネートＬｅｘａｎ’（Ｇ、
Ｅ、　ｇ）約７．５ｇ中に溶解せしめることによって作
成したつこの蹴荷輸送ノーはバードフィルムアプリケー
ターによってＡｓ２Ｓｅ３層上に塗イ■され、それから
約８ＤＣで約１８時間真空乾燥されて２５μ厚の乾燥層
になった。それから、この光受容体を実施レリ１の連続
回転スキャナで評価した。第６図は長期畦気サイクリン
グの結果暑示す。［１１１崖Ａは帯「ば後約０．０６秒
の表面電位を表わす。曲＃Ｂは帯嘔汲約０．２秒の像露
光後表面電位を表わす。曲線Ｃは帯亀後約０．６秒の現
像後表面電位を表わす。曲線ＢとＣの検討から容易に解
るように、サイクリングダウンは約５０，０００サイク
ル後に顕著になった。これ等曲線から明らかなように、
表面α位の早くて大きなサイクリングダウンのため、こ
り感光性部Ｉは表面電荷変動を補償する両画で該雑な装
置無しでは精密な高速量産複写機や印刷機で１偽品質画
像を作成するだめの長寿命使用に）ぽさない。

実施例７ 溶液全重量に対して約０．４４重量％の６−アミツツロ
ビルトリエトキシシランを含有する水ｔｇ　７１Ｅをつ
くった（　０．００２モル溶液）。この溶液はｔｄ液全
全重量対して約５貞量チの変性エタノールおよび約５貞
量チのイソプロパツールも含イイしていた。この溶液に
ヨウ化水素約０．０００４モルＹ　ｒｉｉ≦〃０してＰ
１］を約７．５にした。この溶液を０．０００５バード
バーによってアルミニウム蒸層ポリエステルフィルムマ
イラに塗布し、それから強制空気炉内で温度約１６５０
で約６分間乾燥してアルミニウム（約１０　ＯＡ　）Ｊ
着ホ＋）エステルフィルムの１液化アルミニウム層上に
一部基合シランの反応生成物層を形成し、厚さ約１５Ｏ
Ａ（偏光解析によって測定）の乾燥シロキサン被膜ヲ得
た。それから、アルミニウム蒸着ポリエステルの酸化ア
ルミニウム層上の一部重合シロキサン被膜上に実施例６
のポリエステル１１１脂に始まる各層を実施列６と同じ
手法によって設けた。それからこの光受容体を実施例１
の連続回転スキャナで評価した。第７図は長期電気サイ
クリングの結果を示す。曲線Ａは帯亀汲約０．０６秒の
表面′電位を表わす。曲線Ｂは帯砿後約肌２秒の１砿露
光後表面亀位を表わす。

曲線Ｃは帯ｄ後約０．６秒の現像後表面電位を表わす。

曲線ＢとＣの検討から容易に屏ろように、サイクリング
ダウンはほとんど解消した。この安定したザイクリング
表面帯電特性は、表面祇萌の大巾なｆ動を補償するため
の市価で仮雑な装置無しで梢密な市１ｇ童産型複写４表
や印刷機で尚品質画Ｉ域を作成する場合に非雷に望まし
い。

実施例８ 厚さ約１５ＯＡのアルミニウムを？Ａ７７４したポリエ
ステルフィルム（マイラ）ｆＫ［］、０００５インチの
バードアプリケーターによってポリエステルイ正１月旨
デュポン４９０００　（Ｌｌ、デュポンドヌムール製）
の被覆ヲ施した。このポリエステル樹脂岐覆物は乾燥さ
れて厚さ約０．０５　ｐの被膜になった。

粒径約０．０５μ〜０．２μの三方晶系セレンｏ、ａ　
ｇおよびテトジヒドロフラン約７　ｍｅとトルエン約７
ｍｌ中のｒＪｓリビニル力ルバゾール約０．８ｇからな
るスラリ塗布液を０６０００５インチのバードバーによ
って塗布し、強制空気炉中で約１３５　”Ｏで約５分間
乾燥して厚さ約１．６μのＩＥ孔発生層を生成した。電
荷輸送層は塩化メチレン約８５ｇとビスフェノールＡポ
リカーボネートＬｅ’ｘａｎ　（Ｇ、Ｆ、４Ｊ　）約７
．５ｇ中にＮ　、　Ｎ’−ジフェニル−Ｎ　、　Ｎ’−
ビス（６−メチルフェニル）　１　、１’−ビフェニル
−４゜４′−ジアミン約７．５ｇを溶解することによっ
て作成した。この屯１ｄｉ桶送材料をバードフィルムア
プリケーターによって発生層上に塗布し、それから約１
６５０でｆＪ５分間乾燥して正孔桶送材料の２５μ厚の
乾燥層を得た。それから、この光受容体を相対湿度１０
％で実施例１の連続回転スキャナで１００，０００サイ
クル使用した。サイクリングダウンは約６７０Ｖであっ
た。サイクリングダウン値は試験初ル」の値からの表面
電位の偏差を表わすものであり、この１直はｓ　ｏ、ｏ
　ｏ　ｏサイクル以上での帝ｔｅ約０．６秒の現像後に
測定したものである。この大きなサイクリングダウン変
動のためこの光受容体は祷密な量産用高速複写機や印刷
機用には望ましくない。

実施例９〜１２ シロキサン被膜をポリエステル層と発生層との間に設け
た以外は実施例８と同じ２層の一気作用層を竹する光受
容体を同じ手順および材料によって製造した。シロキサ
ン層は６−アミツプロピルトリエトキシシランの０．２
２％ｃ　ｏ、ｏ　ｏ　ｉモル）浴液Ｙ０．００１５イン
チのバードバーによってポリエステル層上に塗布するこ
とによって作成した。

この付着ｍ１漠を強制空気炉中で１６５０で乾燥した。

乾燥時間は変動させた。優られた被膜の厚さはいずれも
１２０Ａであった。それぞれの乾燥時間および実施例１
のスキャナで試験した時の１　［１０，０００サイクル
段の表面電位のサイクリングダウンは下記の通りである
： ／／１０１５分　　　　　　　　　　１１０ボルト／／
１１７５秒　　　　　　　　　　１６０ボルト／／　　
１２　１１５秒　　　　　　　　　１７０ボルトこの安
定したザイクリング表凹・計市特１生は、表面重荷の大
きな変動を補償するだめの高側で直Ｊな装置を具備しな
い精笛な量産用高速イ叔写磯や印刷機で高品質１１ｉＩ
Ｉ像を得るために非虜に望ましい。

異なるシロキサン一度’＆Ｉｆ用ずろこと及び０、ＯＬ
Ｉ　Ｏ５インチのバードバーによって加水分１’Ｊイシ
ランを塗布すること以外は実施例９と同じ手法１６よび
材料を用いて２層のぼ佳作用層を有する光受容体を製造
した。乾燥時間はいずれの場合も約５分（約１３５　＝
Ｏに於いて）でめった。それぞれのシロキサン被膜厚、
シロキサン濃度および実〃鍾例１のスキャナで試験した
時のｓ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏサイクル後の表面磁位ダウンは
下記の通りである：１３　　　０．２２％　　　　８０
Ａ　　　　１６０１４　　　０．１１％　　　　６ＯＡ
　　　　１２０１５　　　０．０４４チ　　　４０Ａ　
　　　１００１６　　　０．０２２％　　　２０Ａ　　
　　１２０これ等のサイクリングダウン表面４位変動は
精密な量産用高速複写機や印刷機にとってｌ蒔足の行く
ものであった。

実施例１７ シロキサン被膜ヲ使用する以外は実施例１６〜１６と同
じ手法および材料で実施した。実ＪＭ？！ｌ　１のスキ
ャナで試験したときのｓ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏサイクル後の
表面磁位のサイクリングダウンは５８０ボルトでめった
。表面磁位がこのように大きくサイクリングダウンする
ので、この４１料は精密な尚速量並複写５餞や印刷機で
高品質画１域を作成するための長寿命を必安どする使用
に適さなかった。

実施例１８ シロキサン被膜をポリエステル層と発生層との間に設け
た以外は実施例８と同じ２層の電気作用層を有する光受
容体を同じ手順およびイ」科によってｄａしたつこのシ
ロキサン層は全溶液の０．４４車量係の６−アミツプロ
ビルトリエトキシソラン（０，００２モル）および全漬
液の０．４４重道チリ酸性酸（０，００２モル）を０．
０００５インチのバードバーによってポリエステル層に
塗布することによって作成した。この付着塗膜を強１ｂ
１１空気炉内で１３５　’Ｏで乾燥した。実施Ｉ＋ｌ１
１のスキャナで試験したときの５０，０００ザ・ｆクル
後の表面屯ＩＩ′１ツーイクリングダウンは相対湿度１
５％で９０ボルトであった。長いサイクリング条件下で
のこの′ゲ定した表面′電位は、表面電荷の大Ｉ＋］な
変動な補１ｊｔするための１鵜価で腹雑な装置無しで精
密な筒速電産型複写機や印刷機で高品質−１＃！を作成
する場合に非常に望ましい。

実施例１９〜２４ 威性咳の代りに櫨々譲度のヨウ化水素１夜（ＨＩ）を使
用する以外は実施例１８と同じ手順および材料を用いて
２層の電気作用層を有する光受容体を製造した。

１９　　　０．００２　　　０．０００１　　１００２
［Ｊ　　　　Ｏ，００２０，０００２１００２１０，０
０２０，０００５１２０ ２２０，００２０，００１１８０ ２５０，００２０１８０ ２４０，００２０３６０ 実施例２４の先受容体以外のサイクリングダウン表面電
位変動は精密な量産用高速複写機や印刷機にとって満足
なものであった。

実施例 実施例２の６−アミツプロビルトリエトキシシランの代
りにＮ、Ｎ−ジエチル−３−アミメゾロビルトリメトキ
シシランを使用する以外は実施例と同じ手順および成分
量および材料を用いて２層の電気作用層を有する光受容
体を製造した。実施例１のスキャナで試験したときの１
０，０００サイクル後の表面電位サイクリングアップは
１２０ボルトであった。サイクリングアップ値は試験初
期の表面電位からの偏差であり、この値は１０．０００
サイクル後の帯電後約０．６秒の現像後に測定したもの
である（例えば、第１〜７図の曲線Ｏに相当）。この比
較的安定な処理された感光性部材は、表面電荷の大巾な
変動を補償するための高価で複雑な装置無しで精密な高
速量産型複写機や印刷機における長期サイクリング条件
下で高品質画像を作成するために許容できる。

ランの代りにＮ−メチルアミノノロピルトリメトキシシ
ランを使用する以外は実施例と同じ手順および成分量お
よび材料を用いて２層の電気作用層を有する光受容体を
製造した。実施例１のスキャナで試験したときのｉ　ｏ
、ｏ　ｏ　ｏサイクル後の表面畦位サイクリングアップ
は１００ポルトであった。

サイクリングアップ値は試験初期の表面ｉＬ位からの偏
差であり、この値はｉ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏサイクル後の帯
電後０．６秒の現像後に値は１０，０００サイクル陵の
帯覗後０．６秒の現像後に測定したものでるる（例えば
、第１〜７図の曲線Ｃに相当）。この比較的安定な感光
性部材は、表面・電荷の大巾なに励を補償するだめの高
価で複雑な装置無しで精密な高速量産型複写機や印刷機
におけろ長期サイクリング粂件−ドで高品質画像を作成
するためにｌ「容でランの代りにビス（２−ヒドロキシ
エチル）アミノプロピルトリエトキシシランを使用する
以外は実施例２と同じ手順および成分はおよび材料を用
いて２ノーの嘔気作用層を・角ずろ光受容体を製造した
。実施例１のスキャナで試験したときの１０．Ｕ００サ
イクル後の表面電位サイクリングアップは１８０ボルト
でめった。サイクリングアップ１直は試験初期の弐面電
位からの偏差でめり、この値は１０　、０００ザイクル
後の帯′［を後０．６秒の現織泌に測定したものである
（例えば、第１〜７図の曲ｉｆ＋ｌＪＩ　Ｃに相当）。

この比較的安定な感光性部材は、表面１Ｅ荷の犬１１Ｊ
な変＃を補償するだめの動画で峻雑な装置無しで精密な
高速量産型複写機や印刷機におけろ長期サイクリング条
件下で高品質画像ヲ作成゛ノーろために許容できる。

実施例２８ 実施例２の６−アミノプロピルトリエトキシシランの代
りにＮ−）リメトギシシリルプロビルーＮ、Ｎ−ジメチ
ル°アンモニウムアセテートヲ１更用する以外は実施例
２と同じ手＋＋−ｍおよび成分量および材料を用いて２
層の眠気作用層を有ずろ光受容体を製造した。実施例１
のスキャナで試験したときの１　ｔ）、０００サイクル
後の表面電位サイクリングアップは６０ボルトでめった
。サイクリングアップ１直は試験初Ｊすｊの表−′１Ｅ
位がらの・間座であり、この値は１０，０００ザイクル
後の帯祇後帆６秒の現１家後に測定したものである（例
えば、第１〜７図の曲１ｔｊｌ　Ｃに相当）。この比較
的安定な感光性部材は、表面電荷の大巾な変動を補償す
るための高価で複雑な装置無しで精密な高速量産型複写
機や印刷機における長期サイクリング条ｆ＋’Ｆで高品
質画像を作成するために許容できる。

実施例２９ 実施例２の６−アミノプロピルトリエトキシシランの代
りにＮ−トリメトキシシリルゾロビル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−ト
リメチルクロリドを使用する以外は実施例２と同じ手順
および成分量および材料を用いて２層の電気作用層を有
する光受容体を製造した。実施例１のスキャナで試験し
たときの１０．０００ザイクル陵の表面電位サイクリン
グアップは１Ｕボルトであった。サイクリングアップ値
は試験初１υ」の表面４位からの偏差であり、この値は
１０，０００サイクル欽の帝屯後０．６秒の現隙後に測
定したものである（列えば、第１〜７図の曲線Ｃに相当
）。この比較的ゲ定な感光性部材は、表面電荷の大ｒＩ
Ｊな変＃ｌＪを補償するだめの市価で仮雑な装置無しで
精密な高速量産型複写機や印刷機における長期サイクリ
ング条件下で尚品質画像を作成するために許容できる。

実施例６０〜６１ 実施例８のアルミニウム成極の代りに異なる金属陽極を
使用しそして連続回転スキャナでの試験ザイクル故がｉ
　ｏ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏではｌよ＜　１０，０００である
こと以外は実施例８と同じ手順および材料で実施例 ６Ｕ　　ニッケル　　　　１２０μ　　　　ノ゛工し　
　　　　６００■６１　　クロム　　　　　２００Ａ　
マイラフィルム　　　２６０ｖ本発明のシロキサン被膜
な持たｉＺいこれ晋光受谷体は精密な高速量産型複写機
および印刷機用として望ましくない表面電位サイクリン
グダウンを示し／ζ。

表〃１Ｍ七ンリ６２ 実施例８のアルミニウム成極の代りに異なる金属陽極を
使用しそして連続回転スキャナでの試験サイクル叔が１
００，０００ではなく　ｉ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏであること
以外は実施例８と同じ手順および材料で実施例 ６２　　　ニッケル　　　　１２０μ　　　なし　　　
　　１６０■３６　　　　クロム　　　　　２００Ａ　
　　マイラフィルム　　　　８０Ｖ本発明のシロキサン
被膜で処理されたこれ等光受容体は対応する先の実施例
６０および６１の未処理光受容体よりかなり小さいサイ
クリングダウンを示した０これ等被膜逃埋光受容体は旨
速量座型腹写愼：′Ｆ６よび印刷機用として許容できろ
電気的性能を示した。

以上、本発明ケ好ましい具体的態様によって説明したが
、本発明はこれ等に限定σれろものではなく、当業者で
あれば本発明の思想の範囲内で多様な変形例があること
を認識で＠＾であろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は導電性金属陽極層の截属ｒ設化物層Ｆに２層の
６式・作用層をイアする感光性部材リサイクリングアッ
プ特性を示すグラフである。 第２図は導電性金属陽極層と２Ｊｖ４の一気作用層との
間にシロキサン被）換が介在している感光性部材のサイ
クリング効果を示すグラフである。 第６図は導電性金属陽極層と２層の一気作用層との間に
シロキサン被膜が介在している別の感光性部材のサイク
リング効果を示すグラフであゐ。 第４図は導電性金属陽極層と２層のＩＩＬ気作気層用層
間にシロキサン波１模が介在している別の感光性部材リ
サイクリング効果をボすグラフで％　ｌ＞。 第５図は導電性金属陽極層の址属酸化吻層上に２層の゛
成佳作用層欠有する感光性部材σ）−リ゛イクリングダ
ウン特性を示すグラフである。 第６図は導電性金属陽極層と２　Ｊ＃のｉｌｊ気作気層
ｍ層間に接着剤層が介在している感光性＋ＸＩＳ、＋Ａ
のサイクリングダウン特性を示すグラフである。 第７図は導電性金属陽極層と２層の一気作用層との間に
シロキサン被ｊ模が介在している感光性部Ｉリサイクリ
ング効果７示すグラフでｈ　？ｓ。 代理人　　浅　利　　　皓

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｆｌ］　　シロキサンのケイ素原子に結合した反応性Ｏ
   Ｈノルとアンモニウム基乞有する加水分触されたシラン
   のシロキザン汐応住成物からなる被膜の上に電狗軽送層
   とト接鶏、荷発住層からなる少なくとも２層の？１）、
   気作用層ケ有し、該゛被膜は〜？箪性金属陶砂層の金属
   酸化物層に置接し、該導電性陽極層は該２層の′「１う
   、気作用層の一方の側にあり、そして像形成表面は該２
   １（！ｊの電気作用層の反対側にある負帯電性静電写真
   稼形成部相乞製造する方法であって、水溶液乞生成する
   に十分な水の中の およびその混合物からなる荏１から選らばれた一般式〔
   式中、Ｒ１は炭素１〜２０原子を有するアルキリデン基
   であり、Ｒ２およびＲ３は４（６＋別にＨ１炭素１〜３
   原子含有低級アルギル基、フェニル基および、Ｉｆす（
   エチレンアミノ）糸からなる訃からＪν■らばれ、Ｒ７
   けＨ１炭素１〜乙原子含有低級アルキル基、およびフェ
   ニル基からなる群から選らはれ、Ｘは酸育たば酸性塩か
   らなる陰イオンであり、ｎけ１．２．６または４であり
   、ぞしてｙは１．２．３または４である〕を有する加水
   分片１されたシランを伊給１−る一方該水浴欣を酸、順
   性墳およびその混合物からなる計から、＜ζらはれた酸
   性組ノＪＩ−物によってｐＨ約４〜約１０に維持し、該
   水溶液と」二記導電性陽Ｍ層の上記金属酸化物層を接触
   させて被嫁物ン形成し、該被覆物を乾燥して上記金属酸
   化物層上にシロキサン反応生成物の被膜を午成し、そし
   て該被膜に上記２層の電気作用層を設けることをｌに１
   徴とする像形成部材の製造方法。 （２）一般式 〔式中、Ｒ１は炭素１〜２０原子を有するアルキリデン
   基であり、Ｒ２およびＲ３は個別にＨ１炭素１〜６原子
   含有低級アルキル基、フェニル基およびポリ（エチレン
   アミノ）基からなる群から選らばれ、そしてＲ，ｌ、、
   Ｒ，およびＲ６は個別に炭素１〜４加子含有低級アルキ
   ル基から選らばれる〕を有する加水分解可能なシラン乞
   水溶液生成に十分な水中で加水分角与する一方畝水溶液
   １Ｐ１４約４〜約１０に維持することによって上記の加
   水分解されたシランな調製することケ包含する、特許請
   求の範囲第１項の像形成部材の製造方法。 （３）上記水溶液を有機酸、無機「１層１有機酸性４　
   ％無機ｒｐ性塩およびそれ等混合物からなる群から選ら
   ばれた酸性組成物によってｐＨ約４〜約１０に維持する
   ことを特徴する特許請求の範囲第１功の像形成部材の製
   造方法。 （４）上記水溶液馨酸性組成物によってＰＨ約７〜約８
   に維持することを包含１−る、特許請求の梯（（１＋」
   第１項の像形成部材の製造方法。 （５）上記水溶液は上記シランの力１１水分Ｍ’を前に
   上記水溶液の全重量に対して約０．１〜約１．５重％％
   の加水分解可能なシランを含有１−る、４ｆＦＩ’請求
   の範囲第１項の像形成部材の製造方法。 （６）上記水溶液は上記シランの力ｐ水分７％前に上記
   水浴液の全重量に対して約０．０５〜約０．２垂邦チの
   加水分解可能なシランを含有づ−ろ、特許請求の範囲第
   １項の倍形成部拐の製造方法。 （７）上記反応生成物は上記被怪物の軒燥後に約１０に
   〜約２０ＯＯＡの卿さを有する、特許請求の範囲第１項
   の像形成部材の製造方法。 （８）上記水溶液は極性非水溶Ｓを特徴する特許請求の
   範囲第１項の像形成部材の製造方法。 （９）上記極性非水溶媒はエタノールである、特許請求
   の範囲第８項の像形成部材の製造方法。 （１０）　　シロキサンのケイ素原子に結合した反応性
   ＯＨ基とアンモニウム基ケ有する加水分片「されたシラ
   ンのシロキザン乾燥反応生成物からなる被膜の上に１！
   −１、荷輸送層と隣接電荷発生層からなる少なくとも２
   層の電気作用層を有する、負帯電性静電写真像形成部材
   であって該被膜は導電性金属陽極層の金属酸化物層に陣
   接し、該導電性陽極層は該２ｊ畜の′「Ｉ℃気佳作用１
   の一方の側にあり、そして像形成表面は該２層の電気作
   用層の反対側にあり、該加水分角＋１されプこシランは およびその混合物からなる群から選らばれた一紋式〔式
   中、Ｒ１は炭素１〜２０加子を有するアルキリデン基で
   あり、Ｒ２およびＲ３は＠別にＨ１炭炭素１〜２加子含
   有低アルキル基、フェニル基およびポリ（エチレンアミ
   ノ）基からなる群がら選らばれ、Ｒ６はＨ１炭素１〜６
   原子含有低級アルキル基、およびフェニル基からなる群
   がら選らばれ、Ｘはｌ！＃または酸性塩からなる陰イオ
   ンであり、ｎは１．２．３または４であり、そしてｙは
   １．２．６または４である〕を有′１−る、伴、形成部
   、ｌｆｌ。 （１〇　　一般式 または Ｘ またはその宙、合物〔式中、Ｒ□は炭素１〜２０原子Ｚ
   有するアルキリデン基であり、Ｒ２およびＲ３＆ま個別
   にＨ１炭素１〜３加子含有低紛アルキル、４、フェニル
   基およびポリ（エチレ７７　ミ／　）Ｍ力）らなる群か
   ら選らばれＮ　”７はＨ１炭炭素１〜２原子Ｚ有低アル
   キル基、およびフエニ、シ基力）らノＺる群から選らば
   れ、Ｘは酸または酸性塩からなる陰イオンであり、ｎは
   １．２、ろ庁たは４であり、イしてｙは１．２、ろ寸た
   ＆’ｊ１．４である〕ン有する加水分解されたシランと
   春柘性陽極層とσ）間σ）反応生成物からなる層の土に
   １１℃荷発生層と１（１、Ｊむ１を荷輸送局を有し、像
   露ブＬ前に一様な狛σ）　Ｗｊ：ｉ’牝、布「を受答で
   きろ像形成部Ａ／ｌ。 θ２）上記電荷４ＩＩ＋・、送局は分子量約２０．００
   ０〜近！′、１１２０．０００σ）ポリカーボネー　ト
   ｔ７ｔＪ脂オ、々よ０：そグ）中に分動された一般式 （式中、又は炭素１〜杯）４加子６・有するアルキル基
   および塩素からなる群から〕−ヰら＋：！′．ｉ１．る
   ）σ）・〔ヒ合物１種以」二組２５〜約７５■咀チから
   な９、−ＬＨトシ電荷発生層は正孔ン光発生し注入−３
   −　６　ｉｊＦ　ｊコを有し、そして上記預，荷輸送層
   は上記″ｉ−に＋’，　１７１発生１台カ玉正イ１、を
   光発生して注入するスペクトル領域で実質的に非吸収性
   であるが上記■、荷発生層から光発生正孔の注入欠支持
   しがつ電信輸送層内で該正孔乞Ｍ・島送することが可能
   である、特許請求の範囲第１１項σ）像形成部材。 （１３）　　上記ポリカーボネート樹脂はポリ（４．４
   ’−イソプロぎりデンジフェニレンカーボネート）であ
   る、特許請求の範囲第１２項の像形成部材。 （１４）上記ポリカルボネート樹脂は分子量約２５　、
   　［１００〜約４　５．ｔ’）　０　０ン有する、特許
   請求の範囲第１２項の像形成部材。 （１５）　　上記ボ゛リカー７１？ネート樹脂は分子量
   約５０．［１（１０〜１　２　［’．１．０　０　０　
   Ｙ　Ｗ　ｊ　ル、特許請求の範１ｆｌＪ　第１　２項の
   像形成部材。 （１６１　　上記１１を荷発生層は無定形セレン、三方
   晶系セレン、および、セレン−テルル、セレンーテルル
   ーヒ素、セレンーヒ素およびそれ等混合物からなる群か
   ら選ばれたセレン合金、からなる沿：から遠目−れた光
   導電註相料からなる、特許請求の範囲第１１頃の像形成
   部材、。 同　上記雷，荷発生層は樹脂ｒ１（７合剤中に分！！シ
   されたｔ’ｅ導電導電子粒子なる、ｆｌｋｅｔ賠１１１
   求の範ｊ７ｉ１　ｇ６　１　’ｌ珀の像形ＩＪｙ１７１
   ！月，７ （１８）上記霜７荷発生層はボ゛リビニルプＩルバ炉−
   ／Ｉ／中に分散された光堺電性粒子からブ．１ニア、、
   ４Ｉ＋’　；：’１ｊ／ｆテ１（の範囲第１１項のイど
   だ形成部４ｉ。 ０１η　上記電荷発生層は次式 （式中、スオ（ζよびＹは（６Ｈ別に脂肪族基および芳
   香１１（基かＩ’）　７”、（ろ１１からｉ冑らばれ、
   ２は７に素、月旨肋族基゛牛たは）ｔ２省族基であり、
   峰し７てｎは約１・０〜約７００のシブである）からな
   るＢ「から選らばれた７１？す（ヒトｒ−＋キシエーテ
   ル）からなる樹脂結合剤の中に分散されたう゛Ｃ鎮η貫
   、性粒子からなる、’ｌ’＞Ｆｌ請求σ）範囲第１１項
   の像形成部材。 ◇！Ｉｌｌ　　クイ素原子ＦＣ結合した反応性ＯＨ基と
   アンモニウム、−Ｉ；火イ〕゛する加水分解されたシラ
   ンのシロギサン反応生成物からなる級膜の上に電荷発生
   層と隣接’Ｆｉｓ、’　石Ｉｉ；ｌ送局からする少１ｘ
   　＜　トモ２　Ｐ、ｐ６　ノ％、　佳作用Ｎ’４を有す
   る、俳に与−光導に一様な９の？ｊ＋牝、荷を受容でき
   る像形成、＊１５セン用意し；但し、該物膜は堝電住金
   属陽柩層の金属酸化物１層に敞接し、該湧電性陽極層は
   該２層の電気作用層の一方の側にあり、そして像フ［イ
   成表面は該２層の電気作用層の反対側にあり、該加水分
   角イされたシランは およびその混合からなる群から選らばれた一銀式〔式中
   、Ｒ１は炭素１〜２０原子を′￥ＴＩ−るアルキリデン
   基であり、Ｒ２およびＲ９は（ｌｅｉｌ別にＨ，７力素
   １〜３原子官有低級アルキル基、フェニル基およびポリ
   （エチレンアミノ）基からなる群力）ら選らばれ、Ｒ’
   ＦはＨ１炭素１〜６原子官有但私アルキル基、およびフ
   ェニル基からなる群から選ばれ、又は酸または酸性塩か
   らなる陰イメンであり、ｒｌは１．２．３または４であ
   り、イしてｙは１．２．６または４である〕を有する； 繰り返し、該像形成表面上に一様な負の静電荷火刺着さ
   せ、そして該像形成表面を放電させて該禮・電性金属陽
   析層から該像形成表面の方向へ金属陽イオンを移動させ
   て該陽イオンと核ケイ素原子Ｋｆｆ？合している該反応
   性ＯＨ基およびアンモニウム基とを尺応させることを包
   含する電子′４具伶形成方法。