JPS5959262A - 粉末供給制御装置 - Google Patents
粉末供給制御装置Info
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- JPS5959262A JPS5959262A JP58155118A JP15511883A JPS5959262A JP S5959262 A JPS5959262 A JP S5959262A JP 58155118 A JP58155118 A JP 58155118A JP 15511883 A JP15511883 A JP 15511883A JP S5959262 A JPS5959262 A JP S5959262A
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- Japan
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- powder
- valve
- outlet
- conduit
- canister
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/14—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas designed for spraying particulate materials
- B05B7/1404—Arrangements for supplying particulate material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/30—Mixing gases with solids
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラズマ溶射装置に関し、特にフラズマ溶射環
境下のガス流に粉末を制御の下に導入する装置に関する
。
境下のガス流に粉末を制御の下に導入する装置に関する
。
粉末が流動ガス流に選択的に導入されるプラズマ溶射装
置は周知である。そのような装置は5例えばムーエルベ
ルガ−(Muehlberger) らによる19g
2年5月4日付は米国特許第4,528,257号(こ
れは本出願と共通に譲渡されている)に開示されている
。ムーエルベルガーらの特許は、加工片への噴霧を効果
的にするため粉末を含むガス流を高温および超音速の速
度で室内へ導入する装置を開示している。
置は周知である。そのような装置は5例えばムーエルベ
ルガ−(Muehlberger) らによる19g
2年5月4日付は米国特許第4,528,257号(こ
れは本出願と共通に譲渡されている)に開示されている
。ムーエルベルガーらの特許は、加工片への噴霧を効果
的にするため粉末を含むガス流を高温および超音速の速
度で室内へ導入する装置を開示している。
ムーエルベルガーらの特許に記載されている型式のプラ
ズマ溶射装置において、粉末は種々の設計の粉末供給装
置を使用して流動ガス流に導入される。代表的な先行技
術の粉末供給装置において、粉末は下端部に細孔付きホ
イールを有し115°の角度で装着された円筒形キャニ
スタ(小容器)に装填される。そのホイールは、スロッ
トに粉末を充てんするように回転する、そしてそれらの
スロットはスロット内の粉末がガス流内に捕獲されるよ
うにガス流路内へ移動される。この種の粉末供給装置は
主として粉末供給の不均一性を含む多くの欠点を有する
ことがわかっている。
ズマ溶射装置において、粉末は種々の設計の粉末供給装
置を使用して流動ガス流に導入される。代表的な先行技
術の粉末供給装置において、粉末は下端部に細孔付きホ
イールを有し115°の角度で装着された円筒形キャニ
スタ(小容器)に装填される。そのホイールは、スロッ
トに粉末を充てんするように回転する、そしてそれらの
スロットはスロット内の粉末がガス流内に捕獲されるよ
うにガス流路内へ移動される。この種の粉末供給装置は
主として粉末供給の不均一性を含む多くの欠点を有する
ことがわかっている。
これは1発明の名称「粉末供給装置」で1982年6月
11日付けの前記ムーエルベルガーらの同時係属出願筒
387.356号に記載されている優れた粉末供給装置
の開発をもたらした。その出願に記載されている粉末供
給装置は粉末キャニスタ全直立(一般に鉛直)に配置し
、キャニスタ底部の第1回転ドライブ・シャフトに取り
付けた供給インペラとかくはん用スピンドルを利用して
、粉末をかくはん混合シ7.そして第1回転ドライブ・
シャフトがモータによって駆動される際にキャニスタ底
部の穴から制御された量の粉末を分与する。
11日付けの前記ムーエルベルガーらの同時係属出願筒
387.356号に記載されている優れた粉末供給装置
の開発をもたらした。その出願に記載されている粉末供
給装置は粉末キャニスタ全直立(一般に鉛直)に配置し
、キャニスタ底部の第1回転ドライブ・シャフトに取り
付けた供給インペラとかくはん用スピンドルを利用して
、粉末をかくはん混合シ7.そして第1回転ドライブ・
シャフトがモータによって駆動される際にキャニスタ底
部の穴から制御された量の粉末を分与する。
キャニスタ底部の穴を介して分与される制御された量の
粉末は導管によってハウジング上端の穴を経てモータに
よって回転駆動される第2ドライブシヤフトによって回
転駆動されるハウジング内に装着された供給ホイール外
周部の周方向に形成された複数のスロット(細孔)に向
けられる。大きさが均一なスロットは底面と、ガス流を
スロットに向けるべくフィード・ホイールに対して固定
位置に取り付けられた第1中空管とガス流およびスロッ
トに装填される粉末を受ける配置の対向する第2中空管
との間にフィード・ホイール上表面から上方へ伸びる対
向する羽根によって形成された両側面を有する。かくは
んスピンドル、フィードインペラおよびフィード・ホイ
ールの一定の動作が操作条件が変った場合にも比較的一
定で均一な粉末供給を提供する、 前記ムーエルベルガーらの出願特許に記載された粉末供
給装置および前述したもののような他の型式の粉末供給
装置において、ガス流はホース、チューブまたは他の導
管を経て粉末供給装置へ向けられる。そして次に制御さ
れた量の粉末が処理される場所を経て得られたガスと粉
末の混合体全プラズマ流に向けるもう1つの導管へ送ら
れる。
粉末は導管によってハウジング上端の穴を経てモータに
よって回転駆動される第2ドライブシヤフトによって回
転駆動されるハウジング内に装着された供給ホイール外
周部の周方向に形成された複数のスロット(細孔)に向
けられる。大きさが均一なスロットは底面と、ガス流を
スロットに向けるべくフィード・ホイールに対して固定
位置に取り付けられた第1中空管とガス流およびスロッ
トに装填される粉末を受ける配置の対向する第2中空管
との間にフィード・ホイール上表面から上方へ伸びる対
向する羽根によって形成された両側面を有する。かくは
んスピンドル、フィードインペラおよびフィード・ホイ
ールの一定の動作が操作条件が変った場合にも比較的一
定で均一な粉末供給を提供する、 前記ムーエルベルガーらの出願特許に記載された粉末供
給装置および前述したもののような他の型式の粉末供給
装置において、ガス流はホース、チューブまたは他の導
管を経て粉末供給装置へ向けられる。そして次に制御さ
れた量の粉末が処理される場所を経て得られたガスと粉
末の混合体全プラズマ流に向けるもう1つの導管へ送ら
れる。
吹付けが始まるとき、加圧ガス源を作動させてガス流を
導管および粉末供給装置へと流し始める。
導管および粉末供給装置へと流し始める。
粉末供給装置内の圧力を溶射を開始することができて粉
末流が一定になるレベルに上げるために、典型的には数
秒以上の期間(時間)を要する。その間に時間と粉末が
浪費される。溶射を終イつるときには、一般に次の溶射
工程に備えて装置から余分の粉末を除去する必要がちる
。粉末供給装置内の導管および粉末供給部分から残留粉
末を一掃することを含むこの操作を行うには10秒以上
を要し6時間と粉末がむだになる。ある種のプラズマ溶
射工程は、数秒間中にそれぞれ粉末を供給する必要があ
る。現在の粉末供給側#装置は典型的に、装置が残留粉
末の清掃と次にそれぞれO溶射再開始信号が出た後に溶
射圧力b;再び上がる短い16射間隔の間にかなりの遅
滞がある。そのような溶射工程は実際に過度の時間並び
に浪費粉末をもたらす結果となる。
末流が一定になるレベルに上げるために、典型的には数
秒以上の期間(時間)を要する。その間に時間と粉末が
浪費される。溶射を終イつるときには、一般に次の溶射
工程に備えて装置から余分の粉末を除去する必要がちる
。粉末供給装置内の導管および粉末供給部分から残留粉
末を一掃することを含むこの操作を行うには10秒以上
を要し6時間と粉末がむだになる。ある種のプラズマ溶
射工程は、数秒間中にそれぞれ粉末を供給する必要があ
る。現在の粉末供給側#装置は典型的に、装置が残留粉
末の清掃と次にそれぞれO溶射再開始信号が出た後に溶
射圧力b;再び上がる短い16射間隔の間にかなりの遅
滞がある。そのような溶射工程は実際に過度の時間並び
に浪費粉末をもたらす結果となる。
従って、少しの遅れまたは遅滞時間がなく同時に粉末の
浪費が最小の方法で粉末の供給を開始しよび停止できる
ことが望まれる。また、最適の粉末供給のため粉末供給
装置内の所望圧力を迅速に得てそれを維持できるように
、粉末装填後に粉末キャニスタから余分の捕獲空気を除
去する装置を提供することが望まれる。さらに、粉末供
給制御装置並びに流動する粉末とガスの混合体を迅速か
つ効果的に遮断する必要がある他の用途に使用する優れ
た弁を提供することが望まれる。
浪費が最小の方法で粉末の供給を開始しよび停止できる
ことが望まれる。また、最適の粉末供給のため粉末供給
装置内の所望圧力を迅速に得てそれを維持できるように
、粉末装填後に粉末キャニスタから余分の捕獲空気を除
去する装置を提供することが望まれる。さらに、粉末供
給制御装置並びに流動する粉末とガスの混合体を迅速か
つ効果的に遮断する必要がある他の用途に使用する優れ
た弁を提供することが望まれる。
これらおよび他の目的は本発明による連1続ガス流を維
持する粉末供給制御装置によって達せられる。プラズマ
溶射工程へ供給するために粉末をガス流へ混合するとき
の間に、ガス流を粉末供給装置に向けるために弁と導管
の装置が使用される。
持する粉末供給制御装置によって達せられる。プラズマ
溶射工程へ供給するために粉末をガス流へ混合するとき
の間に、ガス流を粉末供給装置に向けるために弁と導管
の装置が使用される。
粉末の供給を止めるときは、そのガス流は粉末供給装置
を迂回するバイパスを通される。同時に。
を迂回するバイパスを通される。同時に。
ガス流への粉末供給開始に備えて最適の圧力を維持する
ために、導管および弁の装置が粉末供給装置を密閉する
。粉末の供給を再開するときは、弁および導管の装置が
ガス流路をバイパスから粉末供給装置内へと迅速にスイ
ッチして、殆んど遅滞なく所望の体積および圧力で粉末
の供給を開始する、溶射の終りには、ガス流は再び迅速
に粉末供給装置からバイパスへ向けられる。
ために、導管および弁の装置が粉末供給装置を密閉する
。粉末の供給を再開するときは、弁および導管の装置が
ガス流路をバイパスから粉末供給装置内へと迅速にスイ
ッチして、殆んど遅滞なく所望の体積および圧力で粉末
の供給を開始する、溶射の終りには、ガス流は再び迅速
に粉末供給装置からバイパスへ向けられる。
弁および導管の装置は粉末供給装置の直ぐ下流側に配置
され加圧ガスによって作動される粉末遮断弁を含む。粉
末の供給を止めるため流入ガス流が粉末供給装置からバ
イパスへ向けられるときと同時に、粉末供給装置から溶
射環境へ粉末がさらに供給されるのを防ぐために粉末遮
断弁が閉鎖される。その粉末遮断弁は、弁・・ウジング
内の穴に装着されて粉末が通過する中心穴を有するゴム
のような弾性材料の円筒形部材を含む。加圧空気または
他のガスをハウジングの側壁の穴を経てハウジング内り
穴と弾性部材の壁間の小空間内へ付加すると1弾性部材
と圧縮してその貫通中心穴を閉鎖する。
され加圧ガスによって作動される粉末遮断弁を含む。粉
末の供給を止めるため流入ガス流が粉末供給装置からバ
イパスへ向けられるときと同時に、粉末供給装置から溶
射環境へ粉末がさらに供給されるのを防ぐために粉末遮
断弁が閉鎖される。その粉末遮断弁は、弁・・ウジング
内の穴に装着されて粉末が通過する中心穴を有するゴム
のような弾性材料の円筒形部材を含む。加圧空気または
他のガスをハウジングの側壁の穴を経てハウジング内り
穴と弾性部材の壁間の小空間内へ付加すると1弾性部材
と圧縮してその貫通中心穴を閉鎖する。
粉末再充てん工程中に粉末供給装置のキャニスタへ導入
される粉末に捕獲される空気は、加圧空気源へ接続され
た人口、大気中へ接続された第1の出口および遮断弁を
制御するために接続された第2の出口衾有する二方弁を
含む装置によって迅速に一掃される。遮断弁は二方弁の
第2出口の制御下で真空源を粉末供給装置の内部へ接続
する。
される粉末に捕獲される空気は、加圧空気源へ接続され
た人口、大気中へ接続された第1の出口および遮断弁を
制御するために接続された第2の出口衾有する二方弁を
含む装置によって迅速に一掃される。遮断弁は二方弁の
第2出口の制御下で真空源を粉末供給装置の内部へ接続
する。
二方弁は通常、遮断弁を閉鎖保持して真空源を粉末供給
装置内部から遮断するために、加圧空気源を遮断弁へ接
続する位置にある。キャニスタ内に粉末を補充する際に
、二方弁は加圧空気源を遮断弁でなくて大気中へ接続す
るように作動する。これは、遮断弁を開口して真空源を
キャニスタ内部に接続し、それによって粉末にトラップ
された空気を全て排除する。二方弁の動作によって遮断
弁を再閉鎖した後、粉末供給装置へガスを瞬間的に付加
することによってキャニスタ内のガス圧は迅速に所望の
動作値に上昇される。
装置内部から遮断するために、加圧空気源を遮断弁へ接
続する位置にある。キャニスタ内に粉末を補充する際に
、二方弁は加圧空気源を遮断弁でなくて大気中へ接続す
るように作動する。これは、遮断弁を開口して真空源を
キャニスタ内部に接続し、それによって粉末にトラップ
された空気を全て排除する。二方弁の動作によって遮断
弁を再閉鎖した後、粉末供給装置へガスを瞬間的に付加
することによってキャニスタ内のガス圧は迅速に所望の
動作値に上昇される。
本発明による粉末供給制御装置の望ましい実施態様にお
けるニガソレノイド作動弁は流入ガス流を逆止め弁を経
て粉末供給装置内へ向けるかまたは供給バイパス管路へ
向けるように配列される。
けるニガソレノイド作動弁は流入ガス流を逆止め弁を経
て粉末供給装置内へ向けるかまたは供給バイパス管路へ
向けるように配列される。
粉末供給装置の出口は粉末遮断弁および共同する空気バ
イパスおよび逆止め弁を経てプラズマ溶射環境へ接続さ
れる。接続された供給バイパス管路の下流端部を有する
空気バイパスおよび逆止め弁は供給バイパス管路のガス
流を自由に出口通し同時にその流れが上流の粉末遮断弁
へ逆流するのを防ぐ働きをする。粉末遮断弁は2つの異
なる一方ソレノイド作動弁によって作動される。その1
つは通常、加圧空気を粉末遮断弁へ付加するように位置
決めされる、そしてその第2のものは粉末遮断弁が開口
されるとき加圧空気を粉末遮断弁からシャントするよう
に接続される。粉末遮断弁を制御する別の装置は、粉末
遮断弁を閉鎖または開口するかによってそれぞれ加圧空
気ケ粉末:a断弁へ交互に通すかまたは加圧空気を粉末
遮断弁からシャントするように配列されたニガソレノイ
ド作動弁を含む。
イパスおよび逆止め弁を経てプラズマ溶射環境へ接続さ
れる。接続された供給バイパス管路の下流端部を有する
空気バイパスおよび逆止め弁は供給バイパス管路のガス
流を自由に出口通し同時にその流れが上流の粉末遮断弁
へ逆流するのを防ぐ働きをする。粉末遮断弁は2つの異
なる一方ソレノイド作動弁によって作動される。その1
つは通常、加圧空気を粉末遮断弁へ付加するように位置
決めされる、そしてその第2のものは粉末遮断弁が開口
されるとき加圧空気を粉末遮断弁からシャントするよう
に接続される。粉末遮断弁を制御する別の装置は、粉末
遮断弁を閉鎖または開口するかによってそれぞれ加圧空
気ケ粉末:a断弁へ交互に通すかまたは加圧空気を粉末
遮断弁からシャントするように配列されたニガソレノイ
ド作動弁を含む。
第1図は本発明による粉末供給制御装置1を示す。制御
装置lは前記ムエールベルガーらの出願特許に記載され
ている型式の粉末供給装置10と連結して示されている
。粉末供給装置10ば、ムエールベルガーらの特許にか
なり詳しく記載さnているので、以下簡単に記載する。
装置lは前記ムエールベルガーらの出願特許に記載され
ている型式の粉末供給装置10と連結して示されている
。粉末供給装置10ば、ムエールベルガーらの特許にか
なり詳しく記載さnているので、以下簡単に記載する。
才り、他の型式の粉末供給装置も本発明による粉末供給
制御装置1に連結して使用−できることを理解すべきで
ある。
制御装置1に連結して使用−できることを理解すべきで
ある。
粉末供給装置10は、下ホッパ・アセンブリー16と電
子駆動制御アセンブリー18を囲む主シャシillの上
に装着された上ホッパ・アセンブリ−12を含む。
子駆動制御アセンブリー18を囲む主シャシillの上
に装着された上ホッパ・アセンブリ−12を含む。
上ホッパ・アセンブリー12は、ガス流に供給する一定
量の粉末を含むため中空、一般に円筒形。
量の粉末を含むため中空、一般に円筒形。
鉛直配置の粉末キャニスタ(小容器)20を含む。
キャニスタ20は、そのベース26を主板22へ固定す
る複数のキャニスタ取付は金具2ヰによって主板22の
上表面に収り付けられる。粉末を充てんするためのキャ
ニスタ20へのアクセスは上部に圧力計30を装着して
いるキャニスタ窓サブアセンブリー(小組立部品)28
によって提供される。普通、キャニスタ20の上部に取
り付けられるキャニスタ窓サブアセンブリー28はキャ
ニスタ20が粉−末を充てんできるように複数の掛は金
32をはずすことによって取り外すことができる。掛は
金52によってキャニスタ20の上部適所に保持された
キャニスタ窓サブアセンブリー28で、粉末はキャニス
タ20内の密閉されて、キャニスタ20の内部に圧力が
加えられそれが維持される。圧力計30はキャニスタ2
0の上部およびキャニスタ20内の粉末上の圧力量を示
す。
る複数のキャニスタ取付は金具2ヰによって主板22の
上表面に収り付けられる。粉末を充てんするためのキャ
ニスタ20へのアクセスは上部に圧力計30を装着して
いるキャニスタ窓サブアセンブリー(小組立部品)28
によって提供される。普通、キャニスタ20の上部に取
り付けられるキャニスタ窓サブアセンブリー28はキャ
ニスタ20が粉−末を充てんできるように複数の掛は金
32をはずすことによって取り外すことができる。掛は
金52によってキャニスタ20の上部適所に保持された
キャニスタ窓サブアセンブリー28で、粉末はキャニス
タ20内の密閉されて、キャニスタ20の内部に圧力が
加えられそれが維持される。圧力計30はキャニスタ2
0の上部およびキャニスタ20内の粉末上の圧力量を示
す。
前記ムーエルベルガーらの出願特許に記載されているよ
うに、上ホッパ・アセンブリー12は、主板22の直上
のキャニスタ20ベースに配置されてキャニスタ20内
の粉末を混合、かくはんし、′制御された量の粉末を土
板22の直下に装着された第2のアセンブリーへ分配(
分与)する第1のアセンブリーヲ含む。第2のアセンブ
リーは第1のアセンブリーからの粉末が充てんされてそ
れをガス流内べ供給する複数のスロット(細孔)を含む
。ガス流は主導管56の一部分からなるホース部51を
介して粉末供給装置10に入る。粉末を供給されたガス
流はホース部38から粉末供給装置10を噴出し、そこ
からフラズマ溶射装置や他の利用装置へ向けられる。
うに、上ホッパ・アセンブリー12は、主板22の直上
のキャニスタ20ベースに配置されてキャニスタ20内
の粉末を混合、かくはんし、′制御された量の粉末を土
板22の直下に装着された第2のアセンブリーへ分配(
分与)する第1のアセンブリーヲ含む。第2のアセンブ
リーは第1のアセンブリーからの粉末が充てんされてそ
れをガス流内べ供給する複数のスロット(細孔)を含む
。ガス流は主導管56の一部分からなるホース部51を
介して粉末供給装置10に入る。粉末を供給されたガス
流はホース部38から粉末供給装置10を噴出し、そこ
からフラズマ溶射装置や他の利用装置へ向けられる。
主シャシ111は対向する前、後の板ll0142、両
側板44および制御板1I6i含む。対向する側板11
4の各々は粉末供給装置10の運搬を容易にするために
取シ付けたハンドル118を有する。
側板44および制御板1I6i含む。対向する側板11
4の各々は粉末供給装置10の運搬を容易にするために
取シ付けたハンドル118を有する。
生シャシillは上ホッパ・アセンブリー12の領域に
おける下ホッパ・アセンプ!J−16に囲んテイル。m
1記ムーエルベルガーらの出願特許に記載されているよ
うに、下ホッパ・アセンブリー16は上ホッパ・アセン
ブリー12内の第1および第2のアセンブリーを駆動さ
すため各種のンヤフトおよび歯車を介して接続されたモ
ータを含む。そのモータ並びに粉末供給装置lOの種々
の他の部分は電子駆動制御アセンブリー 1 gによっ
て制御される、電子駆動制御アセンブリー18の部分は
制御盤116上に収り付けられかつ土シャシlit内に
含まれる。制御盤16はフユーズ、表示燈およびトグル
・スイッチを含む。キャニスタ20の外側に装着した加
熱体(図示せず)によってキャニスタ20内に貯えられ
た粉末に加えられる熱のようなものを制御するために種
々の制御装置が使用される。特に、制御盤116上に示
す制御装置はガス流に導入される粉末の量を正確、精密
に制御するサーボ・システム(機構)を利用する。ホー
ス部3gを介して噴出するガス流内の粉末の量は測定さ
れ、サーボ機構に送られて、キャニスタ20のベースに
ある第1および第2のアセンブリーを駆動するモータの
速度を制御する。
おける下ホッパ・アセンプ!J−16に囲んテイル。m
1記ムーエルベルガーらの出願特許に記載されているよ
うに、下ホッパ・アセンブリー16は上ホッパ・アセン
ブリー12内の第1および第2のアセンブリーを駆動さ
すため各種のンヤフトおよび歯車を介して接続されたモ
ータを含む。そのモータ並びに粉末供給装置lOの種々
の他の部分は電子駆動制御アセンブリー 1 gによっ
て制御される、電子駆動制御アセンブリー18の部分は
制御盤116上に収り付けられかつ土シャシlit内に
含まれる。制御盤16はフユーズ、表示燈およびトグル
・スイッチを含む。キャニスタ20の外側に装着した加
熱体(図示せず)によってキャニスタ20内に貯えられ
た粉末に加えられる熱のようなものを制御するために種
々の制御装置が使用される。特に、制御盤116上に示
す制御装置はガス流に導入される粉末の量を正確、精密
に制御するサーボ・システム(機構)を利用する。ホー
ス部3gを介して噴出するガス流内の粉末の量は測定さ
れ、サーボ機構に送られて、キャニスタ20のベースに
ある第1および第2のアセンブリーを駆動するモータの
速度を制御する。
曲板llOには一対の止めブロック50.52が収り付
けられている。止めブロック50.52の上表面はそれ
ぞれ上ホッパ・アセンブリー12が粉末ダンピング姿勢
(位置)ヘビボットされるときに一対のストッパー51
1.56”、r受ける。上水ソバ・アセンブリー12の
ダンピング位置への移動はキャニスタ20の側部へ結合
されそこから外側へ伸びるダンプ用ハンドル58によっ
て助けられる。粉末ダンピング位置は粉末供給装置10
全体全さかさまにすることなくキャニスタ20内の粉末
を空にすることができる。
けられている。止めブロック50.52の上表面はそれ
ぞれ上ホッパ・アセンブリー12が粉末ダンピング姿勢
(位置)ヘビボットされるときに一対のストッパー51
1.56”、r受ける。上水ソバ・アセンブリー12の
ダンピング位置への移動はキャニスタ20の側部へ結合
されそこから外側へ伸びるダンプ用ハンドル58によっ
て助けられる。粉末ダンピング位置は粉末供給装置10
全体全さかさまにすることなくキャニスタ20内の粉末
を空にすることができる。
ガス流は、加圧ガス源(図示せず)と三方ルノイド作動
弁62との間に接続されたホース部60を介して粉末供
給制御装置1へ導入される。三方ソレノイド作動弁62
はホース部60に接続された人口64と一対の出口66
.68を有する。出口66は主導管56の一部分を形成
し、そしてホース部70と逆止め弁72を介してホース
部う4へ接続される。出口68は供給装置バイパス導管
76からなるホース部714へ接続される。
弁62との間に接続されたホース部60を介して粉末供
給制御装置1へ導入される。三方ソレノイド作動弁62
はホース部60に接続された人口64と一対の出口66
.68を有する。出口66は主導管56の一部分を形成
し、そしてホース部70と逆止め弁72を介してホース
部う4へ接続される。出口68は供給装置バイパス導管
76からなるホース部714へ接続される。
三方ソレノイド作動弁62は、その人口611′(I−
その出口66か6gのいずれかに接続するために電気的
に作動される。従って、ホース部60内のガス流は弁6
2によって決まるように主導管う6か供給装置バイパス
導管76のいずれかに向けられる。三方ソレノイド作動
弁62が作動して入口6++’(i=出口66へ接続す
る場合、ホース部60からのガス流はホース部70、逆
止め弁72およびホース部うIIを経て粉末供給装置1
0内へ向けられる。逆止め弁72は粉末供給装置10内
の粉末が三方ソレノイド作動弁62へ逆行するのを防ぐ
、ホース部311からのガス流が粉末供給装置10へ入
る際に、ガス流はホース部3sを介して粉末供給装置1
.0から出る前に所望量の粉末をピックアップするため
に回転ホイールの羽根の間に向けられる。この操作は前
記ムーエルベルガーらの出願特許に詳細に記載されてい
る。ホース部58を介して粉末供給装置10を吐出する
粉末とガスの混合体は粉末遮断弁78および空気バイパ
スおよびる。出口ホース部82は粉末とガスの混合体を
前記ムーエルベルガーらの米国特許第1+、 52 g
、 25 ?れる、 粉末遮断弁78は一対の一方ソレノイド作動弁84と8
6によって制御される。−万〕Vノイド作動弁811は
ホース部g8と一対のホース部90゜92によって加圧
空気源(図示せず)と粉末遮断弁7gとの間に接続され
る。ホース部90と92はそれらを接続しiT−型継手
91It=する。T−型継手91+は、一方ルノイド作
動弁86をホース部90と92によって形成される一方
ソレノイド作動弁811と粉末遮断弁78間の導管へ接
続する。加圧空気iT型縦継手4へ付加すべく通常は開
口している一方ンレノイド作動弁81I−は加圧空気源
を粉末遮断弁78から遮断したいときは閉鎖することが
できる。T−型継手91Iにおける加圧空気はホース部
92を介して粉末遮断弁78へ選択的に付加されるか或
いは一方ソレノイド作動弁86の作用によって粉末遮断
弁78からシャントされる。
その出口66か6gのいずれかに接続するために電気的
に作動される。従って、ホース部60内のガス流は弁6
2によって決まるように主導管う6か供給装置バイパス
導管76のいずれかに向けられる。三方ソレノイド作動
弁62が作動して入口6++’(i=出口66へ接続す
る場合、ホース部60からのガス流はホース部70、逆
止め弁72およびホース部うIIを経て粉末供給装置1
0内へ向けられる。逆止め弁72は粉末供給装置10内
の粉末が三方ソレノイド作動弁62へ逆行するのを防ぐ
、ホース部311からのガス流が粉末供給装置10へ入
る際に、ガス流はホース部3sを介して粉末供給装置1
.0から出る前に所望量の粉末をピックアップするため
に回転ホイールの羽根の間に向けられる。この操作は前
記ムーエルベルガーらの出願特許に詳細に記載されてい
る。ホース部58を介して粉末供給装置10を吐出する
粉末とガスの混合体は粉末遮断弁78および空気バイパ
スおよびる。出口ホース部82は粉末とガスの混合体を
前記ムーエルベルガーらの米国特許第1+、 52 g
、 25 ?れる、 粉末遮断弁78は一対の一方ソレノイド作動弁84と8
6によって制御される。−万〕Vノイド作動弁811は
ホース部g8と一対のホース部90゜92によって加圧
空気源(図示せず)と粉末遮断弁7gとの間に接続され
る。ホース部90と92はそれらを接続しiT−型継手
91It=する。T−型継手91+は、一方ルノイド作
動弁86をホース部90と92によって形成される一方
ソレノイド作動弁811と粉末遮断弁78間の導管へ接
続する。加圧空気iT型縦継手4へ付加すべく通常は開
口している一方ンレノイド作動弁81I−は加圧空気源
を粉末遮断弁78から遮断したいときは閉鎖することが
できる。T−型継手91Iにおける加圧空気はホース部
92を介して粉末遮断弁78へ選択的に付加されるか或
いは一方ソレノイド作動弁86の作用によって粉末遮断
弁78からシャントされる。
三方ソレノイド作動弁62がガス流を主導管36を介し
て粉末供給装置lOを流通するように位置決めされてい
るとき、粉末遮断弁78はT−型継手における加圧空気
をシャントすべく開口位置に保持されている一方ソレノ
イド作動弁86の作用によって開口保持される。粉末の
ガス流への供給を止めたいときは、三方ソレノイド作動
弁62を作動させて人口611f:f:出口68へ接続
し、それによってガス流全流入ホース部60からバイパ
ス導管76へそらす(向ける)。三方ソレノイド作動弁
62の切換えと実質的に同時に、一方ソレノイド作動弁
86は閉鎖され、そして一方ソレノイド作動弁811(
閉鎖している場合)は開口される。
て粉末供給装置lOを流通するように位置決めされてい
るとき、粉末遮断弁78はT−型継手における加圧空気
をシャントすべく開口位置に保持されている一方ソレノ
イド作動弁86の作用によって開口保持される。粉末の
ガス流への供給を止めたいときは、三方ソレノイド作動
弁62を作動させて人口611f:f:出口68へ接続
し、それによってガス流全流入ホース部60からバイパ
ス導管76へそらす(向ける)。三方ソレノイド作動弁
62の切換えと実質的に同時に、一方ソレノイド作動弁
86は閉鎖され、そして一方ソレノイド作動弁811(
閉鎖している場合)は開口される。
この動作は加圧空気をT−型継手9’ll経てホース部
92を介して粉末遮断弁78へ付加する。第5図〜第7
図に関して後述するように、粉末遮断弁78への加圧空
気の付加は内部の弾性材料全収縮させて中心孔を閉鎖し
粉末供給装置10からの粉末流がそれ以上出口ホース部
82へ流れるのを止める作用を有する。粉末遮断弁78
は、粉末供給装置10からの極めて高い粉末供給圧力に
もかかわらず粉末流を効果的にかつ粉末の研磨性にもか
かわらず余り摩耗することなく遮断することができるよ
うに設計されている。三方ソンノイド作動弁62が再び
スイッチングされてガス流を主導管56そして粉末供給
装置10へ向けるとき、一方ルノイド作動弁86はT
−H2継手911における加圧空気を粉末遮断弁78か
らンヤントすべく実質的に同時に開口され、それによっ
てガスおよび粉末混合体の詐れに対して粉末遮断弁7g
’l開口する。同時に、一方ソレノイド作動弁gllが
閉鎖されて加圧空気の′r−型継手911への供給を遮
断する。
92を介して粉末遮断弁78へ付加する。第5図〜第7
図に関して後述するように、粉末遮断弁78への加圧空
気の付加は内部の弾性材料全収縮させて中心孔を閉鎖し
粉末供給装置10からの粉末流がそれ以上出口ホース部
82へ流れるのを止める作用を有する。粉末遮断弁78
は、粉末供給装置10からの極めて高い粉末供給圧力に
もかかわらず粉末流を効果的にかつ粉末の研磨性にもか
かわらず余り摩耗することなく遮断することができるよ
うに設計されている。三方ソンノイド作動弁62が再び
スイッチングされてガス流を主導管56そして粉末供給
装置10へ向けるとき、一方ルノイド作動弁86はT
−H2継手911における加圧空気を粉末遮断弁78か
らンヤントすべく実質的に同時に開口され、それによっ
てガスおよび粉末混合体の詐れに対して粉末遮断弁7g
’l開口する。同時に、一方ソレノイド作動弁gllが
閉鎖されて加圧空気の′r−型継手911への供給を遮
断する。
ガスと粉末の混合体を出口ホース部g2へ供給すべくガ
ス流が主導管56および粉末供給装置10全通されると
き、空気バイパスおよび逆止め弁80はそのガスと粉末
の混合体を粉末遮断弁78から出口ホース部82に流し
、同時にその混合体がホ−ス部711 ’、!?介して
三方ソレノイド作動弁62へ流れるのを防ぐ。逆に言え
ば、流入ガス流が三方ソレノイド作動弁62によってホ
ース部74に向けられるとき、空気バイパスおよび逆止
め弁80はガス全出口ホース部82へ自由に流入させる
。
ス流が主導管56および粉末供給装置10全通されると
き、空気バイパスおよび逆止め弁80はそのガスと粉末
の混合体を粉末遮断弁78から出口ホース部82に流し
、同時にその混合体がホ−ス部711 ’、!?介して
三方ソレノイド作動弁62へ流れるのを防ぐ。逆に言え
ば、流入ガス流が三方ソレノイド作動弁62によってホ
ース部74に向けられるとき、空気バイパスおよび逆止
め弁80はガス全出口ホース部82へ自由に流入させる
。
同時に、粉末遮断弁78が閉鎖されて、ガスがホース部
5gへ流入するのを防ぐ。空気バイパスおよび逆止め弁
goの例は第5図〜第7図に関連して後述する。
5gへ流入するのを防ぐ。空気バイパスおよび逆止め弁
goの例は第5図〜第7図に関連して後述する。
本発明による粉末供給制御装置1の利点は第2図および
第5図を参照することによってさらによく理解すること
ができる。第2図は粉末供給装置10に関連した先行技
術による代表的な粉末供給間隔装@を示す。加圧ガスは
流入ホース部96によって粉末供給装置10へ供給され
る。流出ホース部9gは粉末供給装置10iプラズマ溶
射環境へ接続する。粉末を供給する場合、粉末をガス流
を導入するために、ガス源を作動してガス全ホース部9
6から粉末供給装置10へ流入させる。得られた粉末と
ガスの混合体は次にホース部98を経てプラズマ溶射環
境へ流れる。ガスと粉末の混合体の供給を止める場合は
、ガス流がホース部96を経て粉末供給装置10へ流入
するのを終わらせるべく、ガス源を単に止める。ガスと
粉末の混合体を再び供給したい場合は、ガス諒全再び作
動させてガス流出ホース部96から粉末供給装置10へ
流入させる。粉末供給装置10内のガス圧がガスと粉末
の混合体をプラズマ溶射環境へ最適に供給するのに必要
なレベルになるのに典型的には数秒以上かかる。そうし
ている間に、痕跡刊の粉末が減圧下で供給されて、プラ
ズマ溶射工程の制御を困難にする。
第5図を参照することによってさらによく理解すること
ができる。第2図は粉末供給装置10に関連した先行技
術による代表的な粉末供給間隔装@を示す。加圧ガスは
流入ホース部96によって粉末供給装置10へ供給され
る。流出ホース部9gは粉末供給装置10iプラズマ溶
射環境へ接続する。粉末を供給する場合、粉末をガス流
を導入するために、ガス源を作動してガス全ホース部9
6から粉末供給装置10へ流入させる。得られた粉末と
ガスの混合体は次にホース部98を経てプラズマ溶射環
境へ流れる。ガスと粉末の混合体の供給を止める場合は
、ガス流がホース部96を経て粉末供給装置10へ流入
するのを終わらせるべく、ガス源を単に止める。ガスと
粉末の混合体を再び供給したい場合は、ガス諒全再び作
動させてガス流出ホース部96から粉末供給装置10へ
流入させる。粉末供給装置10内のガス圧がガスと粉末
の混合体をプラズマ溶射環境へ最適に供給するのに必要
なレベルになるのに典型的には数秒以上かかる。そうし
ている間に、痕跡刊の粉末が減圧下で供給されて、プラ
ズマ溶射工程の制御を困難にする。
第2図に示す先行技術の配置は粉末の供給が数秒毎の間
隔で断続的に行う必要がある点において特に不利である
。粉末の供給を止め次に再び供給を始めるのに必要な時
間は各粉末供給間隔よりも数倍長い、これは比較的遅く
効率の悪い溶射操作をもたらす。その問題は、粉末の供
給が終わる時毎に残留粉末全系(装置)から−掃する必
要がある場合にさらに倍加される。残留粉末の一掃には
ある装置においては10秒以上もかかる。
隔で断続的に行う必要がある点において特に不利である
。粉末の供給を止め次に再び供給を始めるのに必要な時
間は各粉末供給間隔よりも数倍長い、これは比較的遅く
効率の悪い溶射操作をもたらす。その問題は、粉末の供
給が終わる時毎に残留粉末全系(装置)から−掃する必
要がある場合にさらに倍加される。残留粉末の一掃には
ある装置においては10秒以上もかかる。
第5図は本発明による粉末供給制御装置1全ソレノイド
制御装置100に関係したブロック図で示す、ソレノイ
ド制御装置100は三方ソレノイド作動弁62と一方ソ
レノイド作動弁811と86を作動するために接続され
る。粉末をプラズマ溶射環境へ供給する場合、ソレノイ
ド制御装置1. OOはホース部60iホース一部−7
0へ接続するように三方ソレノイド作動弁62を位置決
めする。ガスは逆止め弁72を経て粉末供給装置10へ
流入する。粉末供給装置1oからの得られたガスと粉末
の混合体は粉末遮断弁78と空気バイパスおよび逆止め
弁go’l経て出口ホース部82へ流れそこからプラズ
マ溶射環境へ供給される。粉末遮断弁78は、T−型継
手911における加圧空気を粉末m新井78からシャン
トすべく一方ルノイド作動弁86を開口位置に保つソレ
ノイド制御装置100によって開口保持される。丑た。
制御装置100に関係したブロック図で示す、ソレノイ
ド制御装置100は三方ソレノイド作動弁62と一方ソ
レノイド作動弁811と86を作動するために接続され
る。粉末をプラズマ溶射環境へ供給する場合、ソレノイ
ド制御装置1. OOはホース部60iホース一部−7
0へ接続するように三方ソレノイド作動弁62を位置決
めする。ガスは逆止め弁72を経て粉末供給装置10へ
流入する。粉末供給装置1oからの得られたガスと粉末
の混合体は粉末遮断弁78と空気バイパスおよび逆止め
弁go’l経て出口ホース部82へ流れそこからプラズ
マ溶射環境へ供給される。粉末遮断弁78は、T−型継
手911における加圧空気を粉末m新井78からシャン
トすべく一方ルノイド作動弁86を開口位置に保つソレ
ノイド制御装置100によって開口保持される。丑た。
ソレノイド制御装置100は、粉末遮断弁78が開口保
持されているときに一方ソレノイド作動弁8耳全通常は
閉鎖する。粉末の供給を止めるときは、ソレノイド制御
装置100は三方ソレノイド作動弁62および一方ソレ
ノイド作動弁86,81Iの位atはソ同時に変える。
持されているときに一方ソレノイド作動弁8耳全通常は
閉鎖する。粉末の供給を止めるときは、ソレノイド制御
装置100は三方ソレノイド作動弁62および一方ソレ
ノイド作動弁86,81Iの位atはソ同時に変える。
この動作は、流入ガス流を供給バイパス導管76に向け
るべくホース部60(5供給バイパス導管76からなる
ホース部71Iへ接続する。一方ルノイド作動弁8Gと
とllの同時閉鎖は加圧空気全粉末遮断弁78内へ向け
て弁78を閉じ、さらに粉末の出口ホース部82への供
給を防ぐ。そうしている間に、供給バイパス導管76内
のガス流は自由に空気バイパスおよび逆止め弁80を経
て出口ホース部82へ流入する。プラズマ溶射環境への
粉末供給を再び始めるとき、ノンノイド制御装置100
が再び三方ソンノイド作動弁62と一方ソレノイド作動
弁86,811の位置をはy同時に変える。従って、流
入ガスは再び粉末供給装置10内へ向けられ、粉末遮1
1)?弁78ははソ同時に開口して得られたガスと粉末
の混合体をプラズマ溶射環境へ供給すべく出口ホース部
82へ流す。− 第2図に示す先行技術の粉末供給制御装置は圧力を粉末
供給に最適のレベルに再び上げるのにかなりの時間を要
するが、第5図に示す本発明の装置は粉末を公称圧力で
殆んど瞬間的に供給することができる。三方ソレノイド
作動弁62がガス流を供給バイパス導管76に向けるべ
く作動している時に、粉末供給装置10Fi二方ソレノ
イド作動弁62と粉末遮断弁7gによって殆んど瞬間的
に密閉される。これは、粉末供給装置10を次の粉末供
給再開に備えて実質的に公称圧力に保つ。三方ルノイド
作動弁62が再びガス流を粉末供給装置10に向けるべ
く位置決めされると、ガスと粉末の混合体は殆んど瞬間
的に公称圧力で出口ホース部82へ向けられる。均一、
な粉末流およびガス流を得るために公称圧力を維持する
能力は大量の粉末を保持するために大型またはスタック
・キャニスタが使用される多くの工業的用途において特
に重要である、 第1図および第5図に示す粉末供給制御装置lの特殊な
配置における粉末遮断弁7gは前述のように2つの異な
る一方ソレノイド作動弁811と86によって制御され
る。第4図は単一の三方ソレノイド作動弁102を利用
する粉末遮断弁78制御用の別な配置を示す。その三方
ソレノイド作動弁102はホース部106を介して加圧
空気源へ接続された人口1O1lを有する。三方ソレノ
イド作動弁102はホース部110を介して粉末遮断弁
7gへ接続された第1の出口通路108と、ホース1l
li部を介して大気中へ接続した第2の出口通路112
を有する。第う図に示したルノイド制御装置100は出
口Lollを出口通路108へ接続するかまたは出口通
路10gを出口通路112へ接続すべく三方ソレノイド
作動弁102を制御するだめに用いられる。粉末遮断弁
78は加圧空気全入口1011に通す三方ソレノイド作
動弁102を位置決めすることによって閉鎖される、従
って加圧空気は第1の出口通路108を経て、ホース部
110を介して粉末遮断弁78へ付加される。
るべくホース部60(5供給バイパス導管76からなる
ホース部71Iへ接続する。一方ルノイド作動弁8Gと
とllの同時閉鎖は加圧空気全粉末遮断弁78内へ向け
て弁78を閉じ、さらに粉末の出口ホース部82への供
給を防ぐ。そうしている間に、供給バイパス導管76内
のガス流は自由に空気バイパスおよび逆止め弁80を経
て出口ホース部82へ流入する。プラズマ溶射環境への
粉末供給を再び始めるとき、ノンノイド制御装置100
が再び三方ソンノイド作動弁62と一方ソレノイド作動
弁86,811の位置をはy同時に変える。従って、流
入ガスは再び粉末供給装置10内へ向けられ、粉末遮1
1)?弁78ははソ同時に開口して得られたガスと粉末
の混合体をプラズマ溶射環境へ供給すべく出口ホース部
82へ流す。− 第2図に示す先行技術の粉末供給制御装置は圧力を粉末
供給に最適のレベルに再び上げるのにかなりの時間を要
するが、第5図に示す本発明の装置は粉末を公称圧力で
殆んど瞬間的に供給することができる。三方ソレノイド
作動弁62がガス流を供給バイパス導管76に向けるべ
く作動している時に、粉末供給装置10Fi二方ソレノ
イド作動弁62と粉末遮断弁7gによって殆んど瞬間的
に密閉される。これは、粉末供給装置10を次の粉末供
給再開に備えて実質的に公称圧力に保つ。三方ルノイド
作動弁62が再びガス流を粉末供給装置10に向けるべ
く位置決めされると、ガスと粉末の混合体は殆んど瞬間
的に公称圧力で出口ホース部82へ向けられる。均一、
な粉末流およびガス流を得るために公称圧力を維持する
能力は大量の粉末を保持するために大型またはスタック
・キャニスタが使用される多くの工業的用途において特
に重要である、 第1図および第5図に示す粉末供給制御装置lの特殊な
配置における粉末遮断弁7gは前述のように2つの異な
る一方ソレノイド作動弁811と86によって制御され
る。第4図は単一の三方ソレノイド作動弁102を利用
する粉末遮断弁78制御用の別な配置を示す。その三方
ソレノイド作動弁102はホース部106を介して加圧
空気源へ接続された人口1O1lを有する。三方ソレノ
イド作動弁102はホース部110を介して粉末遮断弁
7gへ接続された第1の出口通路108と、ホース1l
li部を介して大気中へ接続した第2の出口通路112
を有する。第う図に示したルノイド制御装置100は出
口Lollを出口通路108へ接続するかまたは出口通
路10gを出口通路112へ接続すべく三方ソレノイド
作動弁102を制御するだめに用いられる。粉末遮断弁
78は加圧空気全入口1011に通す三方ソレノイド作
動弁102を位置決めすることによって閉鎖される、従
って加圧空気は第1の出口通路108を経て、ホース部
110を介して粉末遮断弁78へ付加される。
粉末遮断弁78は、入口10I4を閉じるべく三方ソレ
ノイド作動弁102を位置決めすることによって加圧空
気源へ開口される。まだ、この動作は、ホース部110
内の圧力を解放するだめに第1の出口通路10gを第2
の出口通路112へ接続する。
ノイド作動弁102を位置決めすることによって加圧空
気源へ開口される。まだ、この動作は、ホース部110
内の圧力を解放するだめに第1の出口通路10gを第2
の出口通路112へ接続する。
第5図〜第7図に粉末遮断弁78と空気バイパスおよび
逆止め弁80の望捷しい配置を示す。粉末遮断弁78は
一般に円筒形の穴118を内蔵した一般に矩形のハウジ
ング116を有する。ノ1ウジング116の両端@12
0と122の間に伸びる穴118id一定の直径を有す
る。ノ・ウジング116の端部122上に端部取付物1
28が固定される。端部取付物128はホース部58を
粉末遮断弁7gへ接続するために使用される。取付物(
部品)130を装着する。部品1う0は、端部取付物1
2gの穴1う4の中にあって穴11g内へ伸びるニップ
ル1′52を有する。
逆止め弁80の望捷しい配置を示す。粉末遮断弁78は
一般に円筒形の穴118を内蔵した一般に矩形のハウジ
ング116を有する。ノ1ウジング116の両端@12
0と122の間に伸びる穴118id一定の直径を有す
る。ノ・ウジング116の端部122上に端部取付物1
28が固定される。端部取付物128はホース部58を
粉末遮断弁7gへ接続するために使用される。取付物(
部品)130を装着する。部品1う0は、端部取付物1
2gの穴1う4の中にあって穴11g内へ伸びるニップ
ル1′52を有する。
ハウジング116内の穴、118は中心軸158を有す
る。端部取付物128内の穴1う4は中心軸138と共
軸である。同様に、取付物128はその内部に中心軸1
38と共軸である中心穴1嶋2を有する。粉末遮断弁7
gを通り中心穴142によって形成される導管はゴムの
ような弾性材料のはソ円筒形部材11Gの間に入る中心
・穴1111によって延長される。ノ・ウジング116
の円筒穴118内に装着される部材1116は端部取付
物128と弁78の反対側端部120間に伸びて。
る。端部取付物128内の穴1う4は中心軸138と共
軸である。同様に、取付物128はその内部に中心軸1
38と共軸である中心穴1嶋2を有する。粉末遮断弁7
gを通り中心穴142によって形成される導管はゴムの
ような弾性材料のはソ円筒形部材11Gの間に入る中心
・穴1111によって延長される。ノ・ウジング116
の円筒穴118内に装着される部材1116は端部取付
物128と弁78の反対側端部120間に伸びて。
円筒穴118の直径より少し小さい長手方向に沿って均
一な外径を有する。その結果、比較的小さな空間l11
8が部材1116の外表面と円筒穴118の内壁間に部
材146の長さのかなりの部分に渡って画定される、部
材11i6の第1端部150はニップル152にぴった
りはまる。部材1116の反対側の第2端部152は/
・ウジング116の端部120に配置された全屈シール
・リング1511の片側によって形成されたニップル1
55にぴったりはまる。部材lI46の両端150,1
52と、円筒穴118の両端間の密封低合は円筒穴1.
18の両端におけるその壁内のスロット158と160
の内にそれぞれ配置されたQ −IJソング55と15
6によって保証される。0−リング155は。
一な外径を有する。その結果、比較的小さな空間l11
8が部材1116の外表面と円筒穴118の内壁間に部
材146の長さのかなりの部分に渡って画定される、部
材11i6の第1端部150はニップル152にぴった
りはまる。部材1116の反対側の第2端部152は/
・ウジング116の端部120に配置された全屈シール
・リング1511の片側によって形成されたニップル1
55にぴったりはまる。部材lI46の両端150,1
52と、円筒穴118の両端間の密封低合は円筒穴1.
18の両端におけるその壁内のスロット158と160
の内にそれぞれ配置されたQ −IJソング55と15
6によって保証される。0−リング155は。
Q −リング155と端部取付物12g間のスロット1
28に配置されたアルミニウム支えリング161によっ
て部材lI46の端部150ヘプレスされる。同様に、
0−リング156は、0−リング156と金属密封リン
グ15++の円板状中心部165間のスロット160に
配置されたアルミニウム支えリング162によって部材
1116の端部152ヘプレスされる。
28に配置されたアルミニウム支えリング161によっ
て部材lI46の端部150ヘプレスされる。同様に、
0−リング156は、0−リング156と金属密封リン
グ15++の円板状中心部165間のスロット160に
配置されたアルミニウム支えリング162によって部材
1116の端部152ヘプレスされる。
空間IL1gはハウジング116の側壁内ノねじ付人1
61Iと穴165を介して通じている。ねじ付人164
は粉末遮断弁7gを第う図の装置におけるホース部92
へ、または第4図の装置におけるホース部92へ接続す
るだめに使用される。第5図の一方ソレノイド作動弁8
6と811.または第4図のニガソレノイド作動弁10
2の作用によって加圧空気が穴164へ提供されるとき
、圧力が穴1611によって空間14gへ接続される。
61Iと穴165を介して通じている。ねじ付人164
は粉末遮断弁7gを第う図の装置におけるホース部92
へ、または第4図の装置におけるホース部92へ接続す
るだめに使用される。第5図の一方ソレノイド作動弁8
6と811.または第4図のニガソレノイド作動弁10
2の作用によって加圧空気が穴164へ提供されるとき
、圧力が穴1611によって空間14gへ接続される。
その結果、中心穴1111jを閉鎖しそれによって粉末
遮断弁78を閉鎖するために1部材l116はその長さ
のかなシの部分に渡って収縮する(つぶれる)。
遮断弁78を閉鎖するために1部材l116はその長さ
のかなシの部分に渡って収縮する(つぶれる)。
その圧力は1部材の両端のシールを保証するシール・リ
ング155と156の作用のため空間内l118に限定
される。粉末遮断弁7gを開口するために、第5図の一
方ソレノイド作動弁86と釧の作用まだは第4図の三方
ソレノイド作動弁1020作用によって加圧空気は穴1
611からンヤントされる。これは1弾性部材11t6
を第5図に示す自然の無変形状態に戻す。この作用が中
心穴11111を開けて、粉末供給装置10からの粉末
とガスの混合体を流動さす。
ング155と156の作用のため空間内l118に限定
される。粉末遮断弁7gを開口するために、第5図の一
方ソレノイド作動弁86と釧の作用まだは第4図の三方
ソレノイド作動弁1020作用によって加圧空気は穴1
611からンヤントされる。これは1弾性部材11t6
を第5図に示す自然の無変形状態に戻す。この作用が中
心穴11111を開けて、粉末供給装置10からの粉末
とガスの混合体を流動さす。
第5図〜第7図に示す粉末遮断弁7gの配列は多くの利
点を有する。弾性部材1116uその長さのかなりの部
分に渡って収縮することによって加圧空気の付加に対応
するので、粉末の研磨作用が分散されて1つの局部に集
中しない。これは弁78の使用寿命を著しく長くする効
果を有する。取付物162に付加される空気の圧力は取
付物1つ0における圧力に関係する。従って、取付物1
30における流入ガスおよび粉末の混合体の圧力にもか
かわらず、取付物150における流入圧に打勝つて、中
心穴11i11を閉鎖するために穴161Iにおける空
気の圧力をより大きくすることだけが必要である。弾性
部材1116fd単に収縮して圧力の増加と共に犬きく
圧縮されるので、過剰の空気圧力による粉末遮断弁78
を傷つける危険は少ししかない。
点を有する。弾性部材1116uその長さのかなりの部
分に渡って収縮することによって加圧空気の付加に対応
するので、粉末の研磨作用が分散されて1つの局部に集
中しない。これは弁78の使用寿命を著しく長くする効
果を有する。取付物162に付加される空気の圧力は取
付物1つ0における圧力に関係する。従って、取付物1
30における流入ガスおよび粉末の混合体の圧力にもか
かわらず、取付物150における流入圧に打勝つて、中
心穴11i11を閉鎖するために穴161Iにおける空
気の圧力をより大きくすることだけが必要である。弾性
部材1116fd単に収縮して圧力の増加と共に犬きく
圧縮されるので、過剰の空気圧力による粉末遮断弁78
を傷つける危険は少ししかない。
空気バイパスおよび逆止め弁80は円筒形の穴168を
内蔵する一般に矩形のハウジング166を含む。ハウジ
ング166は粉末遮断弁78のハウジング116の端部
120へ接続される。が〈接続されたハウジング166
で、その内部の穴16gは遮断弁78の円筒穴118の
中心軸158と共軸である。穴168は、その一端にあ
る金属シール・リング1511に隣接したスロッ)17
0とその反対側の端部にあるねじ付人172を除いて、
その長さに沿って一定である直径を有する。
内蔵する一般に矩形のハウジング166を含む。ハウジ
ング166は粉末遮断弁78のハウジング116の端部
120へ接続される。が〈接続されたハウジング166
で、その内部の穴16gは遮断弁78の円筒穴118の
中心軸158と共軸である。穴168は、その一端にあ
る金属シール・リング1511に隣接したスロッ)17
0とその反対側の端部にあるねじ付人172を除いて、
その長さに沿って一定である直径を有する。
ねじ付人172は空気バイパスおよび逆止め弁8゜を出
口ホース部82へ接続する取付物174を受は入れる。
口ホース部82へ接続する取付物174を受は入れる。
穴168は、ハウジング166の側壁にある穴176と
ねじ付人178によって供給バイパス導管76を形成す
るホース部711に接続される。
ねじ付人178によって供給バイパス導管76を形成す
るホース部711に接続される。
可撓性のプラスチック状材料製の中空2円筒体180が
ハウジング166の穴168内に装着されるので、その
外表面は穴168の壁にある。中空、円筒体180はそ
の一端182をニップル15うから金属/−ル・リング
15+1の反対側のニップル184にびっだシ嵌合させ
ている。中空円筒体igoは粉末遮断弁78のハウジン
グ116へ中心軸158と共軸の円穴1g5を有する。
ハウジング166の穴168内に装着されるので、その
外表面は穴168の壁にある。中空、円筒体180はそ
の一端182をニップル15うから金属/−ル・リング
15+1の反対側のニップル184にびっだシ嵌合させ
ている。中空円筒体igoは粉末遮断弁78のハウジン
グ116へ中心軸158と共軸の円穴1g5を有する。
穴168に対する中空円筒体i8oの端部181Iのシ
ールはスロット170内に配置された。−リング188
によって提供される。○−リングIggは、0−リング
18gと金属シール・リングの円板状中心部165間の
スロノ)70内に配置されたアルミニウム支えリング1
90によって中空円筒体IF50の端部1g+1上へ押
し付けられる。
ールはスロット170内に配置された。−リング188
によって提供される。○−リングIggは、0−リング
18gと金属シール・リングの円板状中心部165間の
スロノ)70内に配置されたアルミニウム支えリング1
90によって中空円筒体IF50の端部1g+1上へ押
し付けられる。
中空円筒体180の端部180は粉末供給装置10から
のガスと粉末の混合体を受は入れるだめに空気バイパス
および逆止め弁8oの第1人口を形成する。ねじ付人1
78は供給バイパス導管76からのガス流を受は入れる
ために空気バイパスおよび逆止め弁80の第・2人口を
形成する。取付物1711は空気バイパスおよび逆止め
弁80の出口を形成して、弁80をホース部&2を介し
てプラズマ溶射環境へ接続する働きをする。空気バイパ
スおよび逆止め弁goはその2つの入口のいずれかを出
口に接続し、同時にねじ付人178によって形j戊され
た入口を中空円筒体180の端部1811によって形成
された入口から隔離する働きをする。
のガスと粉末の混合体を受は入れるだめに空気バイパス
および逆止め弁8oの第1人口を形成する。ねじ付人1
78は供給バイパス導管76からのガス流を受は入れる
ために空気バイパスおよび逆止め弁80の第・2人口を
形成する。取付物1711は空気バイパスおよび逆止め
弁80の出口を形成して、弁80をホース部&2を介し
てプラズマ溶射環境へ接続する働きをする。空気バイパ
スおよび逆止め弁goはその2つの入口のいずれかを出
口に接続し、同時にねじ付人178によって形j戊され
た入口を中空円筒体180の端部1811によって形成
された入口から隔離する働きをする。
ガスと粉末の混合体が粉末供給装置10から出口ホース
部82へ提供されるとき、その混合体は中空円筒体1g
Oの穴1g5内に限定され、それによって取付物171
Iへ向けられ、同時に穴176を経て供給バイパス導管
76へ流入することが防止される。換言すると、ガス流
が供給バイパス導管76に向けられるとき、そのガス流
はねじ付17gおよび穴176へ流入し1次に中空円筒
体180の外表面上へ流れる。中空円筒体igoは。
部82へ提供されるとき、その混合体は中空円筒体1g
Oの穴1g5内に限定され、それによって取付物171
Iへ向けられ、同時に穴176を経て供給バイパス導管
76へ流入することが防止される。換言すると、ガス流
が供給バイパス導管76に向けられるとき、そのガス流
はねじ付17gおよび穴176へ流入し1次に中空円筒
体180の外表面上へ流れる。中空円筒体igoは。
ガスが穴176から取付物174へ流れて出口ホース部
82から吐出するのに十分な量まで変形する。
82から吐出するのに十分な量まで変形する。
再び第1図を参照して、キャニスタ20に粉末を充てん
するだめに掛は金52がキャニスタ窓サブアセンブリ2
8のキャニスタ20からの取外しを可能にすることを前
に述へた。キャニスタ20に粉末を充てんするとき、一
定量の空気をキャニスタ20に導入することは珍しくな
い。その空気は粉末にトランスされるようになり、キャ
ニスタ20の内部空所に存在する。その後、装置を作動
して粉末を選択的に供給する除に、粉末およびキャニス
タ20内の湿った空気の存在は粉末の均一流および粉末
のガス流への飛来同伴を妨げる。空気の存在はまた熱ス
プレーコーティング工程中に酸化物の生成をもたらす。
するだめに掛は金52がキャニスタ窓サブアセンブリ2
8のキャニスタ20からの取外しを可能にすることを前
に述へた。キャニスタ20に粉末を充てんするとき、一
定量の空気をキャニスタ20に導入することは珍しくな
い。その空気は粉末にトランスされるようになり、キャ
ニスタ20の内部空所に存在する。その後、装置を作動
して粉末を選択的に供給する除に、粉末およびキャニス
タ20内の湿った空気の存在は粉末の均一流および粉末
のガス流への飛来同伴を妨げる。空気の存在はまた熱ス
プレーコーティング工程中に酸化物の生成をもたらす。
有害な空気をキャニスタ2oから一掃する装置を第1図
にそしてそのブロック図を第8図に示す。
にそしてそのブロック図を第8図に示す。
該装置はホース部1つ11によって加圧空気源(第1図
には示さず、それはホース部8gを介し、て一方ルノイ
ド作動弁gqに接続される源と同一である)へ接続され
た入口を有する三方ソレノイド作動弁192を含む。三
方ソレノイド作動弁192はホース部196を介して大
気中へ接続された第1の出口とホース部19gを介して
遮断弁200へ接続された$2の出口を有する。遮断弁
200はその一端をホース部202を介して真空源また
は他の減圧源(図示せず)へ接続し、他端をホース部2
011を介してT−型継手206へ接続してイル。1゛
−型継手206はキャニスタ2oの内部並びに圧力IJ
IJ−フ弁208へ接続される。
には示さず、それはホース部8gを介し、て一方ルノイ
ド作動弁gqに接続される源と同一である)へ接続され
た入口を有する三方ソレノイド作動弁192を含む。三
方ソレノイド作動弁192はホース部196を介して大
気中へ接続された第1の出口とホース部19gを介して
遮断弁200へ接続された$2の出口を有する。遮断弁
200はその一端をホース部202を介して真空源また
は他の減圧源(図示せず)へ接続し、他端をホース部2
011を介してT−型継手206へ接続してイル。1゛
−型継手206はキャニスタ2oの内部並びに圧力IJ
IJ−フ弁208へ接続される。
遮断弁200は、粉末遮断弁78のハウジング116の
端部120がその反対側端部122の取付物130のよ
うな取付物を備えることを除いて。
端部120がその反対側端部122の取付物130のよ
うな取付物を備えることを除いて。
第5図および第6図に示す粉末遮断弁78の構造と同一
である。遮断弁200の場合には金属シール・リング1
511と空気バイパスおよび逆止め弁80は存在しない
。三方ソレノイド作動弁192からのホース部198は
、ホース部191を内の加圧空気が部材1116を囲む
空間1)↓8へ三方ソレノイド作動弁192によって選
択的に付加されるように、ねじ付人1611へ接続され
る。端部取付物128内に収り付けた取付物130はホ
ース部202によって真空源へ接続される。弁ハウジン
グ116の取付は端およびその反対側端部はホース部2
011によってT−型継手206へ接続される。
である。遮断弁200の場合には金属シール・リング1
511と空気バイパスおよび逆止め弁80は存在しない
。三方ソレノイド作動弁192からのホース部198は
、ホース部191を内の加圧空気が部材1116を囲む
空間1)↓8へ三方ソレノイド作動弁192によって選
択的に付加されるように、ねじ付人1611へ接続され
る。端部取付物128内に収り付けた取付物130はホ
ース部202によって真空源へ接続される。弁ハウジン
グ116の取付は端およびその反対側端部はホース部2
011によってT−型継手206へ接続される。
操作において、三方ソレノイド作動弁192は通常、ホ
ース部191i内の加圧空気をホース部198を介して
遮断弁200へ接hツcシて遮11Ji弁200を閉鎖
位16に保つ。これ(グ真空諒をキャニスタ20の内側
から遮断する作ハ=+’lもつ。キャニスタに粉末を充
てんした後、加圧空気の遮目)1弁200への流れを遮
断するために三方ソレノイド作動弁192を遮断弁20
0に切換え、同時にホース部19gをホース部196へ
接続して遮断弁200からの圧力を解放するこ−とによ
って内部の有害な空気を一掃する。これは、遮断弁20
0を開けて真空源を承1当な時間の間キャニスタ20の
内部へ接続させる。次に三方ソレノイド作動弁192を
もとの位置に戻す、その位置において遮新井200を閉
じそれによって真空源をキャニスタ20内部から遮断す
るために加圧空気が付加される。
ース部191i内の加圧空気をホース部198を介して
遮断弁200へ接hツcシて遮11Ji弁200を閉鎖
位16に保つ。これ(グ真空諒をキャニスタ20の内側
から遮断する作ハ=+’lもつ。キャニスタに粉末を充
てんした後、加圧空気の遮目)1弁200への流れを遮
断するために三方ソレノイド作動弁192を遮断弁20
0に切換え、同時にホース部19gをホース部196へ
接続して遮断弁200からの圧力を解放するこ−とによ
って内部の有害な空気を一掃する。これは、遮断弁20
0を開けて真空源を承1当な時間の間キャニスタ20の
内部へ接続させる。次に三方ソレノイド作動弁192を
もとの位置に戻す、その位置において遮新井200を閉
じそれによって真空源をキャニスタ20内部から遮断す
るために加圧空気が付加される。
圧力リリーフ弁208は所望の安全性を提供する。なん
らかの理由でキャニスタ20の内部に圧力が増加したら
、その過剰の圧力はす17−7弁20gによって出され
る。
らかの理由でキャニスタ20の内部に圧力が増加したら
、その過剰の圧力はす17−7弁20gによって出され
る。
キャニスタ20に粉末を充てんし、真空源をキャニスタ
20の内部に数秒間または必要に応じてそれ以上の時間
接続することによって有害な空気を粉末から除去または
一掃した後、流入ガス流を逆止め弁72を介して粉末供
給装置10へ接続するため第1図および第5図に示す三
方ソレノイド作動弁62の位置を望ましくは瞬間的に変
える。
20の内部に数秒間または必要に応じてそれ以上の時間
接続することによって有害な空気を粉末から除去または
一掃した後、流入ガス流を逆止め弁72を介して粉末供
給装置10へ接続するため第1図および第5図に示す三
方ソレノイド作動弁62の位置を望ましくは瞬間的に変
える。
これはガスをキャニスタ20に充てんさせてキャニスタ
20内のガス圧を作動圧力にする。次に三方ンレノイド
作動弁62を作動して、粉末供給を始める時間まで流入
ガス流を供給バイパス導管76へ付加する、 第5図および第6図に示す粉末遮断弁γgは摩耗、耐久
性並びに他のファクターの視点から有利であることを1
11に述べた。これは弁7gを通過する粉末の研磨作用
が弾性材料の円筒部材1116のはy全長に渡って分散
することから得られる。同様のことが遮断弁200と同
じ構造の弁の使用にあてはまる。男児てん後、キャニス
タ20の内部から一掃される空気は異なる量の混合粉末
を有する。従って、遮断弁200は粉末の研磨作用に抵
抗することができる。
20内のガス圧を作動圧力にする。次に三方ンレノイド
作動弁62を作動して、粉末供給を始める時間まで流入
ガス流を供給バイパス導管76へ付加する、 第5図および第6図に示す粉末遮断弁γgは摩耗、耐久
性並びに他のファクターの視点から有利であることを1
11に述べた。これは弁7gを通過する粉末の研磨作用
が弾性材料の円筒部材1116のはy全長に渡って分散
することから得られる。同様のことが遮断弁200と同
じ構造の弁の使用にあてはまる。男児てん後、キャニス
タ20の内部から一掃される空気は異なる量の混合粉末
を有する。従って、遮断弁200は粉末の研磨作用に抵
抗することができる。
以上、望ましい実施態様について本発明を記載。
説明したが、本発明の意図および範囲から逸脱すること
なく形状および詳細において神々の変化がありうること
を理Mされたい8
なく形状および詳細において神々の変化がありうること
を理Mされたい8
第1図は本発明による粉末供給制御装置の斜視図;第2
図は代表的な先行技術による粉末供給制御装置のブロッ
ク図;第う図は本発明による第1図の粉末供給制御装置
のブロック図、第4図は第5図の装置の一部分の別な配
列を示すブロック図;第5図は第1図および第5図の装
置に使甲される遮断弁と、空気バイパスおよび逆止め弁
を組合せたものの断面図;第6図は第5図の線6−6に
ついての断面図;第7図は第5図の線7−7についての
断面図;そして第8図は第1図の粉末供給制御装置内に
設けた。有害空気を粉末貯蔵用キャニスタから一掃する
装置のブロック図である、FIG、 1 FIG、2
図は代表的な先行技術による粉末供給制御装置のブロッ
ク図;第う図は本発明による第1図の粉末供給制御装置
のブロック図、第4図は第5図の装置の一部分の別な配
列を示すブロック図;第5図は第1図および第5図の装
置に使甲される遮断弁と、空気バイパスおよび逆止め弁
を組合せたものの断面図;第6図は第5図の線6−6に
ついての断面図;第7図は第5図の線7−7についての
断面図;そして第8図は第1図の粉末供給制御装置内に
設けた。有害空気を粉末貯蔵用キャニスタから一掃する
装置のブロック図である、FIG、 1 FIG、2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L スプレー装置において、ガス流を提供する手段、出
口、粉末源、粉末源を含む第1の管路を介してガス流を
出口へ選択的に接続する手段、および粉末源を迂回する
第2の管路を介してガス流を出口へ交互に接続する手段
からなることを特徴とする粉末供給制御装置。 2、 前記スプレー装置がプラズマ溶射装置からなり;
前記粉末源が密封可能な粉末含有キャニスタを有する粉
末供給装置からなり;そして前記選択的に接続する手段
および交互に接続する手段が共にガス流を受は入れるべ
く接続された入口導管と、該人口導管に接続された人口
と一対の出口を有してその入口を該一対の出口のいずれ
か1つに接続する動作をする三方ソレノイド作動弁と、
加圧空気の付加に対応して出口端を入口端から閉鎖する
動作をする粉末遮断弁と、前記三方ソレノイド作動弁の
対の出口の1つと前記粉末遮断弁の入口との間に前記粉
末供給装置を直列に接続する主導管と、一対の入口と出
口を有し該出口が該一対の人口の各々に接続され該一対
の人口が互に隔離されかつその一対の人口の1つが前記
粉末遮断弁の出口端へ接続される構成の空気バイパスお
よび逆止め弁と、前駆三方ルノイド作動弁の一対の出口
の第2の出口k n’J 記空気バイパスおよび逆止め
弁の一対の人口の第2の入口へ接続するバイバ″ス導管
と。 加圧空気を前記粉末遮断弁へ選択的に付加する手段から
なることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の装
置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US412003 | 1982-08-27 | ||
US06/412,003 US4740112A (en) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | Powder feed control system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5959262A true JPS5959262A (ja) | 1984-04-05 |
JPH0339746B2 JPH0339746B2 (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=23631160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58155118A Granted JPS5959262A (ja) | 1982-08-27 | 1983-08-26 | 粉末供給制御装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4740112A (ja) |
JP (1) | JPS5959262A (ja) |
CA (1) | CA1235894A (ja) |
DE (1) | DE3330557A1 (ja) |
FR (1) | FR2532200B1 (ja) |
GB (1) | GB2127767B (ja) |
SE (1) | SE454652B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013523446A (ja) * | 2010-04-12 | 2013-06-17 | ノードソン コーポレーション | 粉体供給システムおよびその色交換の方法 |
CN107073496A (zh) * | 2014-08-04 | 2017-08-18 | 瑞士金马有限公司 | 用于对物体进行粉末喷涂的粉末输出装置和粉末涂覆设备 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4740112A (en) * | 1982-08-27 | 1988-04-26 | Electro-Plasma, Inc. | Powder feed control system |
US4662799A (en) * | 1985-05-17 | 1987-05-05 | Fuller Company | Apparatus and process for pneumatically conveying particulate material |
US4888689A (en) * | 1986-10-17 | 1989-12-19 | Amdahl Corporation | Apparatus and method for improving cache access throughput in pipelined processors |
US4900199A (en) * | 1988-10-21 | 1990-02-13 | The Perkin-Elmer Corporation | High pressure power feed system |
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