JPS595693A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の対象 本発明は、洗浄装置、特に゛成子部品を実装したプリン
ト基板の洗浄装置に関するものである。

従来技術 プリント基板上に実装されるコネクタ、ＩＣソケット等
接触リード部分を有する部品は、そのリード部分の表面
を特に清浄に保つことが必要である。

これらの部品をその他の部品と−しよに自動半田付工程
により一括半田付けを行ういわゆる先付けの方法をとる
と、前記接触部分が半田付け工程で生じたフラックス残
滓で汚染されるという問題がある。このフラックス汚染
を避けるために、従来行っていた方法の一つは、他の部
品を半田付けした後でコネクタ、ＩＣソケット等を１点
づつ半田ごてによりプリント基板に半田付けを行ういわ
ゆる後付けの方法であるが、この方法は多大な工数を要
する。他の方法として、自動半田付けによりこれらの部
品を含めて一括半田付けを行った後、多槽式の洗浄装置
を使用し、洗浄″溶剤中へのプリント板の浸漬を数段階
くり返し行い、最終槽で清浄な溶剤で仕上げるという工
程が用いられる。この方法は、洗浄効果の点で有効な方
法ではあるが、洗浄槽の開口部が全体として広くなるた
めに、洗浄溶剤の自然蒸発が多くなり、溶剤消費量が大
となり、、結局ランニングコストが犬になるという欠点
がある。また他の方法として、溶剤消費量を少くすると
いう目的から洗浄槽を単一とし、溶剤中に溶解している
フラックス等を活性炭、透過膜等を使用した濾過方式で
除去し、溶剤の清浄度を保持しようとする方法もあるが
、いずれも多大な設備投資、ランニングコストとなる。

ところで物品の洗浄方法には、一般に浸漬洗浄、スプレ
ー洗浄および蒸気洗浄の３種あることが知られている。

特にプリント基板の５場合、この３種の洗浄方法を適当
に組合せて使用すると、浸漬洗浄のみを複数段階くり返
す方法と同程度の洗浄効果がある。たとえば、まずスプ
レー洗浄でプリント基板の粗洗浄を行う。この方法では
部品の下やくぼみ部分の汚れはとりにくいから、次に浸
漬洗浄を行う。このときプリント基板を洗浄溶剤中で揺
動させるか才たは超音波洗浄を併用する。最後に蒸気洗
浄を行って仕上げ洗浄をするとともに被洗浄物を乾燥さ
せる。

洗浄装置または洗浄方法の公知例にも、上記３種の洗浄
方法を組合せて使用している例がみられる。たとえば、
特開昭５５−１５７２８８　「プリント板の洗浄方法」
は、まずプリント基板の蒸気洗浄を行い、次にスプレー
洗浄を行い、最後に仕上げの蒸気洗浄を行うというよう
に３工程を経るものであるが、この方式は被洗浄物の搬
送のために大がかりな設備を要するものであり、またこ
の方式に浸漬洗浄を加えるのは困難である。

また特開昭５１−２５３６９１洗浄装置」は、上記３種
の洗浄方法をすべて実行することができるが、本例は第
１槽で浸漬洗浄を行った後、物品を水平に移動して第２
槽でスプレー洗浄と蒸気洗浄を行う方式のため、実質的
に２種式の洗浄装置となり開口部が広くなることと、初
段の洗浄が浸漬洗浄に決められているため、この溶剤の
汚れが大きくなり、この浸漬洗浄で汚染された物品を次
のスプレー洗浄に持込むことになるので、前記した理由
から洗浄効果の点で問題がある。

才た特開昭５４−６４８６２　ｒ洗浄装置」は、単一の
洗浄槽によって上記３種の洗浄方法をすべて実行できる
が、本例はスプレー洗浄で使用した使用済溶剤と浸漬洗
浄で使用する溶剤とが混合するので、この溶剤の汚れが
大きくなり、これも前記した理由から洗浄効果が上がら
ないという問題がある。すなわちまず浸漬洗浄を行うと
、この洗浄液がかなり清浄化さ−れていなければこの洗
浄液によって被洗浄物が汚染され、次にシャワー洗浄を
行っても被洗浄物のくぼみ部分の汚れはとりにくいから
、前記したようにコネクタ。

ＩＣソケット等接触部分を有するプリント基板の洗浄に
適した装置ではない。

以上従来技術の問題点を解決するためには、開口部の比
較的小さい単一の洗浄槽であって、上記３種の洗浄方法
をすべてどのような順序ででも実行することができ、し
かも洗浄効果を充分上げるためにそれぞれの工程で使用
済の溶剤を分離して回収でき、かつ簡略な洗浄装置が必
要である。

発明の目的 本発明の目的とするところは、上記の如き従来の問題点
を解決するものであり、被洗浄物が通過可能な程度の大
きさの開口部を１ケ所有する単一の洗浄槽であって、複
数種の洗浄方法を任意の順序で実行することができ、し
かも各工程で使用済みの洗浄溶剤を一定レベルで清浄に
保持でき、かつ簡略な洗浄装置を提供することにある。

本発明は、被洗浄物が少くとも通過可能な根部と該浸漬
洗浄噛との間１こスプレー洗浄機構を有し、該スプレー
洗浄機構と該浸漬洗浄槽との間にシャッター（たとえば
後述実施例のフラップ）を設け、該スプレー洗浄後の洗
浄液が回収される回収タンクを有する洗浄装置を特徴と
する。ここで該シャッターは、少くとも該スプレー洗浄
機構によるスプレー洗浄中は閉じられてスプレー洗浄後
の洗浄液が浸漬洗浄槽に流入しないようにし、少くとも
該Ｖ漬洗浄槽による浸漬洗浄直前には該被洗浄物が通過
可能な程度に開かれる構造になつ′Ｃいる。上記洗浄装
置によって、前記被洗浄物は該洗浄装置中では水平に搬
送されることなく、スプレー洗浄および浸漬洗浄が施さ
れる。

なお本発明をさらに効果あらしめるために、必要に応じ
下記のような事項を考慮するのがよい。

（ａ）　　被洗浄物によっては、上記洗浄装置に蒸気洗
浄機能を加えるとさらに洗浄効果が上がる。

この場合には、洗浄液の蒸気を発生する蒸気槽を備え、
前記開口部とシャッターとの間の任意の個所から該蒸気
を洗浄槽に導き入れ、被洗浄物の蒸気洗浄を行うことが
できる。このようにして蒸気槽を加えることによって、
被洗浄物を水平に搬送することなく、スプレー洗浄、浸
漬洗浄および蒸気洗浄が可能である。

（ｂ）　　スプレー洗浄機構に対する洗浄液の供給方法
を考慮する必要がある。−例としてスプレー洗浄後の洗
浄液が回収される回収タンクから洗浄液を供給する方法
がある。この場合回収タンクを複数個備え、スプレー洗
浄後の洗浄液は選択的にいずれかの回収タンクに回収し
、いずれかの回収タンクの洗浄液は選択的にスプレー洗
浄機構に供給するようにすると、スプレー洗浄を複数工
程実行でき、被洗浄物によっては、洗浄効果が上がる。

（Ｃ）　　沸点の低い洗浄液を使用する場合または上記
（ａ）のように蒸気洗浄を併用する場合には、洗浄液の
蒸発による消失をできるだけ少くするために、前記開口
部はウィンドウ構造にしておくのが望ましい。すなわち
被洗浄物を該洗浄装置に出し入れするときには開き、被
洗浄物が該洗浄装置に入っているときには閉じるように
開口部をウィンドウ式にしておくのが望ましい。

（ｄ）　　洗浄液を浄化再生するための浄化装置および
上記回収タンク、浸漬洗浄槽、蒸気槽との間で洗浄液を
循環するための循環系を設けることが望ましい。

発明の実施例 次に本発明の実施例につき、図面を用いて詳細に説明す
る。第１図は本発明の一実施例である洗浄装置の横断面
を模式的に示すものである。

１は洗浄槽本体であり、上部に被洗浄物２が通過可能な
開口部３を有し、ウィンドウ４を具備している（ウィン
ドウ４の詳細は第３図および第８図によって後述する）
。開口部３の真下で洗浄槽の底部には洗浄溶剤５を保有
し、被洗浄物２全体が浸漬可能な洗浄槽６を有している
。

該洗浄槽６と前記開口部３のほぼ中間位置には、被洗浄
物２全体に均一に洗浄溶剤５をスプレー可能で、かつ第
１図で左右方向に移動可能なスプレー洗浄機構７を有し
ている。さらに該スプレー洗浄機構７から噴出された洗
浄溶剤５を下を通り、タンク９またはタンク１０をこ収
容可能となっている。なおタンク９またはタンク１０か
らスプレー洗浄機構７への洗浄溶剤５の供給およびスプ
レー洗浄後の洗浄溶剤５のタンク９またはタンク１０へ
の回収は、電磁弁１１により自動的に切換えられる。ま
たタンク９は、洗浄槽本体１の外部に設けられた蒸留槽
１２と配管により接続されている。また洗浄種本Ｋｉ内
であって洗浄槽６近傍には、ヒータ１９をもつ蒸気槽１
３が設置され、前記蒸留槽１２Ｉごて蒸留再製された洗
浄溶剤５が導入される構造となっている。なお蒸気槽１
３より発生した溶剤蒸気は洗浄槽本体ｌ内に充満し、冷
却管１４により液化して回収溝１５を通りタンク１０等
、任意の場所に回収される。また蒸留槽１２で蒸留再製
された洗浄浴剤５は、蒸気槽１３、洗浄槽６、タンクＩ
Ｏ、タンク９、蒸留槽１２の順序で自然循環する構造と
なつＣいる。

また洗浄槽６、タンク９、タンク１０およびスプレー洗
浄機構７直前には、それぞれポンプ１６８よびフィルタ
ー１７を備えており、被洗浄物２ζこ付着して外部より
持込まれた一定粒子の異物を除去するようにしている。

なおスプレー洗浄機構７の上部には、洗浄溶剤５の飛：
］（ミ飛散防止のためのタンパ−１８が設置されている
。また第１図に示されない搬送機構は、エアシリンダま
たはホイスト等通常使用される手段により構成され、ス
プレー洗浄機構７の下方ぢよび洗浄槽内で停止可能とな
っており、さらに洗浄槽６内停止後、６０回／分程度の
上下揺動可能となっている。

次に被洗浄物２、ウィンドウ４、スプレ−６４浄機構７
、フラップ８、タンパー１８１ｊど可動な物品および可
動部分をもつ機構の構・貴および駆動方法の詳細につい
て、第２図〜第９図を用いて説明する。ここに示すこれ
らの物品および機構の構造および駆動方法は、はんの−
例に過ぎない。

第２図は被洗浄物２の形態２よびその移動方法を示すも
のである。かご２１にはプリント基板ヴて２３が設けら
れ、該プリント基板立て２３には複数枚のプリント基板
２２がほぼ垂直になるようζこ立てられる。かご２１の
１つの側壁には、４つのローラ２４が取付けられ、該側
壁の一端にはチェーン２５の一端が取付けられている。

該チェーン２５は、滑車２６を経由してその他端はエア
シリンダ２７にＪ＆ｆｆｌされている。エアシリンダ２
７の駆動により、プリント基板２２を搭載したかと２１
が上下方向に移動される。

第３図は洗浄槽本体１のウィンドウ４の部分を上からみ
た平面図である。第４図は第３図と同じ平面図であるが
、ウィンドウ４の左右のウィンドウ板４１を取り払って
開口部３を上からみた図である（ウィンドウ４の動作に
ついては、第８図によって後述する）。洗浄槽本体１に
は２つのローラガイド１０１が設けられており、かご２
１はチェーン２５によって吊り丁げられ、ローラ２４が
ローラカイト１０１に案内されて、上Ｆ方向に移動する
。左右のウィンドウ板４１が合わさる部分の角部分には
チェーン２５が通過するに足りるだけの大きさをもった
切り欠き４３があり、ウィンドウ４が閉の状態でかご２
１が上ドに移動できるようになっている。

第５図は、スプレー洗浄機構７を示す。駆動軸７１はモ
ータ（図示せず）に取付けられ、回転する。腕部７３の
一端は駆動軸７１と肩部７２で固定されており、駆動軸
７１の回転とともにゆっくりと振子運動をする。腕部７
３の他端の継ぎ手７６にはスプレー管７４が挿入されて
おり、該スプレー管７４の下部には複数個のスプレーノ
ズル７５が取付けられている。腕部７３が移動しても、
スプレーノズル７５が常に下を向くように、スプレー管
７４は継ぎ手７６の内部を自在に回転するようになって
いる。スプレー洗浄のための洗浄溶剤５は、スプレー管
７４の一端に装着される可撓性あるチューブ７７によっ
て供給される。

第６図は、フラップ８の構造を示すものである。右フラ
ップ板８１および左フラップ板８２は、上部に斜面をも
ち、フラップ８が閉じた状態では左フラップ板８２の一
端に右フラップ板８１の一端が重なって洗浄槽６の上部
開口部にふたをする。右フラップ板８１および左フラッ
プ板８２は、それぞれその下部に４つの車輪８４を備え
ており：、１組の側溝１０２にガイドされて左右に移動
する。

右フラップ板８１および左フラップ板８２の他端が上方
向に反り返るように、折れ碑８３がつけられている。ヌ
ブ［／−洗沖機構７を紅白した洗浄溶剤５は、右フラッ
プ板８１８よび左フラップ板８２によって左右いずれか
に分かれ、折れ溝８３を経由して２つの側溝１０２のい
ずれかに落ち込む。

次に側溝に設けた出口を通ってタンク９またはタンクｌ
Ｏに戻る。

第７図は、フラップ８を駆動する駆動系である。右フラ
ップ板８１の側壁の一端の上部には歯を刻んだラック８
５が取付けられている。また左フラップ板８２の対応す
る側壁の一端下部には、同じように歯を刻んだラック８
６が取付けられている。ラック８５とラック８６の間に
は歯車８７がかみ合っており、モータ（図示せず）によ
って歯車８７を回転させ、ランク８５およびラック８６
を、すなわち右フラップ板８１および左フラップ板８２
を左右に移動させ、フラップ８の開閉を行う。

なおラック８５．ラック８６および歯車８７が常に１つ
の垂直な平面上に並ぶように、また歯車８７の軸端が右
フラップ板８１および左フラップ板８２の側壁をこすら
ないように、ラック８５および８６の取付は部分は適当
な厚さをもっている。

第８図は、ウィンドウ４の構造および駆動方法の例であ
る。ウィンドウ４は、断面図で示す観音開き式の左右２
枚のウィンドウ板４１と正面図で示すこれらの駆動系と
より成る。左右のウィンドウ板４１にそれぞれ取付けら
れたチェーン４５を滑車４６を経由してエアシリンダ４
７で駆動し、ちょうつがい４４等により一端を洗浄槽本
体１に取付けた左右ウィンドウ板４１を開閉させる。

第９図は、ダンパー１８の構造および駆動方法の例であ
る。タンパ−１８は、斜視図で示す左右２枚のダンパー
板１８１とこれらの駆動系とより成る。エアシリンダ１
８６のアーム１８７を上下に駆動するこきによって、歯
を刻んだ左右のラック１８４を上下方向に移動させ、該
ランク１８４とかみ合っている歯車１８５を回転させ、
一端が該歯車１８５に固定されており左右のタンパ−板
１８真に固定されている左右のタンパ−回転軸１８２を
回転させ、結果として左右のダンパー板１８１を開閉さ
せるものである。なお左右のダンパー板１８１にも必要
に応じ、チェーン２５を逃がすための切り欠き１８８を
設けてもよい。

以上の如き構成において洗浄作業の順序を第１図により
説明するさ、まずウィンドウ４が開き被洗浄物２が洗浄
槽本体１内に搬入されてウィンドウ４は閉の状態となり
、通常開となっているタンパ−１８を通過してスプレー
洗浄機構７の下で停止する。その後タンパ−１８は閉の
状態となり、フラップ８閉の状態でまずタンク９より洗
浄溶剤５が供給されスプレー洗浄機構７から噴出されて
被洗浄物２が洗浄される。洗浄後の洗浄溶剤５はタンク
９に回収される。次に電磁弁１１の切換えによりタンク
１０より洗浄溶剤５がスプレー洗浄機構７に供給されて
同様にスプレー洗浄が行なわれる。このとき洗浄後の洗
浄溶剤５はフラップ８、電磁弁１１によりタンク１０に
回収循環される。次にタンパ−１８およびフラップ８は
開（！：なり被洗浄物２は洗浄槽６内に搬入され、上下
揺動が行なわれる。次に被洗浄物２はスプレー洗浄機構
７の下方位置まで上昇後停止し、フラップ８閉となって
蒸気槽１３より発生する溶剤蒸気が被洗浄物２に接触し
、液化後部下して仕上げ洗浄が行なわれる。洗浄が終了
した被洗浄物２は上昇し、ウィンドウ４が開いて外部に
搬出される。

なお上記実施例において、被洗浄物２を洗浄槽６内上下
揺動する代わりに、洗浄槽６内に超音波洗浄機構を設け
、超音波洗浄を行ってもよい。また本実施例では、スプ
レー洗浄は、タンク９内の洗浄液およびタンク１０内の
洗浄液を用いて２回行っているが、同様にして３つ以上
のタンクを備え、３回以上行ってもよい。また本実施例
では、洗浄の順序は、スプレー洗浄→浸漬洗浄→蒸気洗
浄の順に行ったが、被洗浄物の種類ζこよっては、この
順序を任意に変更することが容易である。また被洗浄物
の種類によっては、蒸気洗浄を行なわなくても洗浄効果
が充分である場合がある。蒸気洗浄を行うと、洗浄溶剤
の消失が太きいから、このような場合には蒸気洗浄を省
略すればよい。たとえば第１図において、蒸気槽１３を
除き蒸留槽１２の出力である浄化された洗浄液を直接に
洗浄槽６１こ導入するかまたはφ、１図のように蒸気槽
１３を設置しておき、蒸気洗浄の必要のない被洗浄物に
ついては、ヒータ１９を使用せず蒸気槽１３を単に貯液
タンクとして使用することができる。

次に上記実施例に示す洗浄装置を用いてプリント基板の
洗浄を行ったききの洗浄効果について、第１０図および
第１１図に示すテークを用いて説明する。

第１０図は横軸に本洗浄装ｆｊｇ、Ｉこおける各地点Ａ
。

Ｂ、Ｃ，ＤおよびＥをとっている。Ａはタンク９中の洗
浄溶剤５．Ｂはタンク１０中の洗浄溶剤５、Ｃは洗浄槽
６中の洗浄溶剤５．Ｄは蒸留槽１２の出力である洗浄溶
剤５′ｊ６よびＥは蒸気槽１３から発生する溶剤蒸気出
力点を示す。縦軸は洗浄溶剤中のりジン含有量を重量％
で示す。なお本実施例は、フラックスとしてロジン系フ
ラックスを使用する場合である。第１０図の○印は、Ａ
、Ｉ−λ、Ｃ，１）、ｈｉ各地点で求めたロジン含有量
（％）の実験値を示す。本図１かられかるように、洗浄
槽６内の洗浄溶剤５中のロジン含、＋’　ｆｋｔは２模
気中のロジン乱有量は１〇−悌程１縫となる。ただしタ
ンク９．タンク１０．洗浄槽６および蒸気前提の下では
、第１０図に示す実験値は理朧直とよく一致する。

第１１図は、被洗浄物２が部品搭載済みのプリンｉ・基
板である揚台に、ロジン含有度と被洗浄１゛ダ２の接触
不良発生率との関係を例示する。第１１図は、横軸に被
洗＃物２の洗浄直後に該被洗浄物２にイ・］着している
洗浄溶剤中のロジン含有職（重量％）をとり、縦軸にプ
リント基板の接触不良発生率（％）を示す。本図による
と、被洗浄物２に残留するロジン含有量が１０　　％以
下になると不良率がＯになることがわかる。

次に第１０図および第１１図を対照すると、接触不良率
をほぼＯにするためには、Ｃの地点まで洗浄を行う必要
がある。すなわち２回のスプレー洗浄と１回の浸漬洗浄
を行う必要があることがわかる。なお第１１図）ま被洗
浄；勿に残留するロジン含有量を示］７、第１０′図は
洗浄槽、タンクなど設イ１中の洗浄溶剤５中の［！ジン
含有量を示すので、１０チの残留ロジンを得るには、１
０　　％より１桁少ないロジン濃Ｌ「の（Ｙ１浄６゛（
剤が必要である３１本本実側は、安全を・ろるため（＝
Ｎ洸浄物の乾燥をする目的で洗浄の最終段々してさらに
然気洗浄を加えている。

発明のクリ果 本発明は、以上７１もべた亜（′）でｆ）す、？、（の
ような効果をイりろこ々がて曽・る。

（ａ）　　本洗浄装置は、被洗浄物かス…適用能な程度
の犬きさの開口部、を１ケ所もつ沖−の１．ｌ’″ｆ’
すを有し５、才だウィンドウ−こより半ｅ　ＩＩｔ’ｌ
　Ｆｔ：造おしたことにより、洗浄溶剤の７ら失■が少
ｆ、ｆ　＜て済み、ランニンクコヌトを低減できる。

（ｂ）　　部−の洗浄槽をもつ洗、浄装置であるにも力
かわらず、スプレー洗浄、纜ａ　ｆ、浄またはＩ気法浄
など袂ｅ１．棟の洗浄力法を併用することができ、さら
にスプレー洗浄を２工程以上行うことができる。

（Ｃ１上記（ｂ）の各工程で使用済の洗浄液は、それぞ
れ分離回収するので、各々の工程では該洗浄液を一定レ
ベルで清浄に保持できる。

（ｄ）　　この装置をプリント基板の洗浄に適用する場
合には、上記（ｂ）と（Ｃ）によって、プリント基板の
残留フラックス濃度を低減でき、従来自動半田付は後に
１点づつ実装していた接触部分を有する部品に自動半田
付けを適用することが可能となり、組立工数が低減でき
る。

（ｅｌ　　上記（ｂ）の通り、洗浄方法はスプレー洗浄
、浸漬洗浄および蒸気洗浄が可能であるが、このうち任
意の洗浄方法を選択して組合せて使用することができる
。また上記洗浄方法を任意の順序で実行できるので、広
範囲の被′洗浄物に適用することができ、特にプリント
基板の洗浄に適用して好適である。

５（ｆ）被洗浄物の洗浄操作は、上下動のみであり、本
洗浄装置内では水平方向の搬送がないので高能率の洗浄
ができる。　　　　　　　　　　　　４（ｇ）　　洗浄
装置が簡略であり、複雑な機構を要し　　６ないため、
設備投資が少ない。　　　　　　　　　８

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である洗浄装置の横断面を模
式的に示す図、第２図は被洗浄物２の形態および駆動方
法を示す斜視図、第３図はウィンドウ４の部分を上から
みた平面図、第４図は第３図のウィンドウ４を取り払い
開口部３を上からみた平面図、第５図はスプレー洗浄機
構７の斜視図、＄６図はフラップ８の構造を示す斜視図
、第７図は第６図のフラップ８の駆動系を示す斜視図、
第８図はウィンドウ４の構造およびｙｇ１１１方法を示
す図、第９図はタンパ−１８の構造および駆動方法を示
す斜視図、第１０図は本発明の一実施例である洗浄装置
の各地点の洗浄溶剤中のロジン含有量を示す図、第１１
図はロジン含有量とプリント基板の接触不良率との関係
を示す図である。 １・・・洗浄槽本体　　　　２・・・被洗浄物・・・ウ
ィンドウ　　　５・・洗浄溶剤・・・洗浄槽　　　　　
７・・・スプレー洗浄機構・・・フラップ　　　　９・
・・タンク・・・タンク　　　　　１３・・・蒸気槽オ
　２　国 第５図 γ１ 才２　図 オフ０ ２ オ８Ａ オ　１０　目 ２　　Ｉ＋　　区 −□−一□−一ト込ノ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被洗浄物が少くとも通過可能な程度の大きさをもつ
   単一の開口部と、前記開口部の真下に設けられた浸漬洗
   浄槽と、前記開口部と前記浸漬洗浄槽との間に設けられ
   たスプレー洗浄機構と、前記スプレー洗浄機構と前記浸
   漬洗浄槽との間に設けられ少くとも該スプレー洗浄機構
   によるスプレー洗浄中は閉じられ少くとも該浸漬洗浄槽
   による浸漬洗浄直前には前記被洗浄物が通過可能な程度
   に開かれるシャッターと、前記スプレー洗浄後の洗浄液
   が回収される回収タンクとを有し、前記被洗浄物は水平
   方向に搬送されるこさなく前記スプレー洗浄および前記
   浸漬洗浄が施されることを特徴とする洗浄装置。 ２、前記回収タンクを複数個備え、前記スプレー洗浄後
   の洗浄液は選択的に前記いずれかの回収タンクに回収さ
   れ、かつ前記いずれかの回収タンクの洗浄液は選択的に
   前記スプレー洗浄機構に供給されることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の洗浄装置。 ３、前記開口部は前記被洗浄物が通過時には開かれ該被
   洗浄物が前記洗浄装置中に入れられている間は閉じられ
   るようにウィンドウ構造になっていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項または第２項記載の洗浄装置。