JPS595650A - ハイブリツドソリツドステ−ト電子デバイス等のための気密封止パツケ−ジ - Google Patents
ハイブリツドソリツドステ−ト電子デバイス等のための気密封止パツケ−ジInfo
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- JPS595650A JPS595650A JP58062394A JP6239483A JPS595650A JP S595650 A JPS595650 A JP S595650A JP 58062394 A JP58062394 A JP 58062394A JP 6239483 A JP6239483 A JP 6239483A JP S595650 A JPS595650 A JP S595650A
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- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
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- H01L23/047—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body the other leads being parallel to the base
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- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Packages (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はハイブリッドソリッドステートデバイスや小さ
な電気機械装置等のための気密刺止パッケージに関する
。
な電気機械装置等のための気密刺止パッケージに関する
。
電子技術においては、電気機械的又はハイブリッド半導
体装置等に課せられる環境条件の多くを安定化するため
に、これらの素子をカブ七ルに入れることが求められる
。このカプセル化又はパッケージ化は柚々に実行されて
きている。特に、気密封止が求められるところではガラ
ス−金属の給電電極をもつ金属封止が標準的アプローチ
である。
体装置等に課せられる環境条件の多くを安定化するため
に、これらの素子をカブ七ルに入れることが求められる
。このカプセル化又はパッケージ化は柚々に実行されて
きている。特に、気密封止が求められるところではガラ
ス−金属の給電電極をもつ金属封止が標準的アプローチ
である。
パッケージが小さくなり、かなりの車圧、電力レベルが
かけられるとき、慣用的なガラス−金属給電電極は製造
が難しく、比較的高価となる。更に、このような封止は
突発的な機械的圧力による破損にさらされている。
かけられるとき、慣用的なガラス−金属給電電極は製造
が難しく、比較的高価となる。更に、このような封止は
突発的な機械的圧力による破損にさらされている。
本発明で考えている形式や大きさの先行技術のパッケー
ジは、コバルト、鉄、アルミニウム、銅、モリブデン、
セラミック材料のような材料から作られ、それらの材料
すべてが比較的重く、コスト的に高いものである。
ジは、コバルト、鉄、アルミニウム、銅、モリブデン、
セラミック材料のような材料から作られ、それらの材料
すべてが比較的重く、コスト的に高いものである。
公知の関連する先行技術は次の特許文献に典型的に記載
されている。
されている。
米国特許第3,621,112号は、電極を通しての給
電のために後述のガラス−金属封止をもつ鉄を含む金属
の封止を提供している。
電のために後述のガラス−金属封止をもつ鉄を含む金属
の封止を提供している。
米国特許第3,575,546号は、気密でなくまた放
熱特性を与えない「スナップイン」ヘッダをもつプラス
チック本体を示している。
熱特性を与えない「スナップイン」ヘッダをもつプラス
チック本体を示している。
米国特許第3,548,076号はソリッドステートハ
イブリッドに対する金属封止の更に典型的なものである
。ガラス−金属封止はなかに封入されるハイブリットλ
の接続に求められる比較的多数の電極を備えることが示
されている。
イブリッドに対する金属封止の更に典型的なものである
。ガラス−金属封止はなかに封入されるハイブリットλ
の接続に求められる比較的多数の電極を備えることが示
されている。
米国特許第3,538,597号はマイクロ回路等を含
む「フラットパック」のためのカバー板を取扱っている
。コバルトのカバー板(蓋)は金属のハウジングの上に
ハンダ付けされる(そこを通る電極の絶縁は示されてい
ないが)。
む「フラットパック」のためのカバー板を取扱っている
。コバルトのカバー板(蓋)は金属のハウジングの上に
ハンダ付けされる(そこを通る電極の絶縁は示されてい
ないが)。
米国特許第2.952.684号は典型的な初期の形式
の修理できないカプセル化したデバイスのようである。
の修理できないカプセル化したデバイスのようである。
多くの独立したパーツが比較的大きな1つのパワートラ
ンジスタパッケージの中に含まれている。
ンジスタパッケージの中に含まれている。
米国特許第3,419.763号は複数の独立したソリ
ッドステートデバイスを並列に並らべたものを考えてお
り、その中では放熱特性をもつ刺止されたハウジング構
造となっている。電極が基板を通る一般的なガラス−金
属封止と上板貫通のためのメタライズセラミック封止が
このパッケージには要求され、全体の重置は明らかに比
較的大きいものである。
ッドステートデバイスを並列に並らべたものを考えてお
り、その中では放熱特性をもつ刺止されたハウジング構
造となっている。電極が基板を通る一般的なガラス−金
属封止と上板貫通のためのメタライズセラミック封止が
このパッケージには要求され、全体の重置は明らかに比
較的大きいものである。
米国特許第3.433,885号は単一のパワー半導体
デバイスのための他のオール金属封止のものである。こ
の封止は半導体ハイブリッドのような多電極回路には採
用されず、また、比較的重い。
デバイスのための他のオール金属封止のものである。こ
の封止は半導体ハイブリッドのような多電極回路には採
用されず、また、比較的重い。
上述したようなものを含む先行技術のデバイスは製造コ
ストが高く、重量が重く、多電極接続が要求されるとこ
ろでは採用性が薄いという弱点に悩されている。ガラス
−金属とがセラミックー金属封止が使われるところでは
どこでも削りくず、v1…1、ヘルメチックシールの損
失、電気的破壊トいう危険がある。このような封止を通
り電極にかかる慧図されない機械的圧力はこのような損
傷や糺いて起こる電極の破壊の危険を増大させる。
ストが高く、重量が重く、多電極接続が要求されるとこ
ろでは採用性が薄いという弱点に悩されている。ガラス
−金属とがセラミックー金属封止が使われるところでは
どこでも削りくず、v1…1、ヘルメチックシールの損
失、電気的破壊トいう危険がある。このような封止を通
り電極にかかる慧図されない機械的圧力はこのような損
傷や糺いて起こる電極の破壊の危険を増大させる。
本発明は小型の電子デバイスや電子機械デバイス、持に
ソリッドステートハイブリッドのような多電極接続デバ
イスのための軽h″′C廉価に組立てられ気密封止ので
きる修理可能なパッケージを含んでいる。
ソリッドステートハイブリッドのような多電極接続デバ
イスのための軽h″′C廉価に組立てられ気密封止ので
きる修理可能なパッケージを含んでいる。
ポリアミド−イミドプラスチック材料から成る塑造され
た環状フレームがアルミニウムや銅のような熱伝導率の
蔦い材料で作られた基板に淵に沿って[1される。基板
と接着する現状フレームの周辺表面領域部の基板を貫く
せん孔が塑造過程中に基板と環状フレームとの接着を可
能とする。環状フレームのプラスチック材料は単一の塑
造ステップでこれらのせん孔へ流れ込む。
た環状フレームがアルミニウムや銅のような熱伝導率の
蔦い材料で作られた基板に淵に沿って[1される。基板
と接着する現状フレームの周辺表面領域部の基板を貫く
せん孔が塑造過程中に基板と環状フレームとの接着を可
能とする。環状フレームのプラスチック材料は単一の塑
造ステップでこれらのせん孔へ流れ込む。
電極は同時に環状フレームにモールドされる。
これらの電極は「L型」の金メッキされた銅線で、それ
らは外部突出から基板に関して正常方向に広がるように
環状フレームの壁に埋め込まれている。
らは外部突出から基板に関して正常方向に広がるように
環状フレームの壁に埋め込まれている。
電極は内部空間に入れられるソリッドステートデバイス
等と接続される必要から環状フレームの内部空間方向に
突出るように、プラスチックの環状フレームの壁のある
決まった点で曲げられる(必ずしも90°に曲げる必要
はない)。これらのデバイスは本漬的に熱を発生するタ
イプのものであり、封止内の基板表面と熱的に接触され
る。基板の外部表面はより大きな放熱器への慣用的取付
けにむいている。一般に基板は平らで基板と外部放熱器
とのIMiには熱伝導性の充填材料をつめ、外tfPS
放熱器へ取付けられる。
等と接続される必要から環状フレームの内部空間方向に
突出るように、プラスチックの環状フレームの壁のある
決まった点で曲げられる(必ずしも90°に曲げる必要
はない)。これらのデバイスは本漬的に熱を発生するタ
イプのものであり、封止内の基板表面と熱的に接触され
る。基板の外部表面はより大きな放熱器への慣用的取付
けにむいている。一般に基板は平らで基板と外部放熱器
とのIMiには熱伝導性の充填材料をつめ、外tfPS
放熱器へ取付けられる。
提供される気密封止は環状フレームの淵の上をカバー板
で被って完成される。好ましくは環状7レームと同じプ
ラスチック材料から成るカバー板は環状フレームの淵に
沿ってメタライズされる。
で被って完成される。好ましくは環状7レームと同じプ
ラスチック材料から成るカバー板は環状フレームの淵に
沿ってメタライズされる。
そのためカバー板は正しい場所に慣用的なハンダイ1け
で取付けられ、必要ならハンダを融がして取除くことが
できる。カバー板は他の方法、例えばエポキシ接着で取
付けることもできる。
で取付けられ、必要ならハンダを融がして取除くことが
できる。カバー板は他の方法、例えばエポキシ接着で取
付けることもできる。
本発明の実施例について説明する。図1.2において、
基板10が環状フレームの塑造過程で環状フレーム11
に取付けられる。図2でせん孔21は伽の部分22が拡
大しており、現状フレーム11の塑造過程で環状フレー
ム11の構成要素である「ピン」が形成され、環状フレ
ームの淵を基板ときつい接触状態に保つように作用する
。使われるプラスチック材料は急速にせん孔21と頭の
部分22に流れ込み、現状フレーム21本体が固まると
き、その中で固まる。また、プラスチック材料と基板1
0とはそれらが接触する面で本来的な直接接着もする。
基板10が環状フレームの塑造過程で環状フレーム11
に取付けられる。図2でせん孔21は伽の部分22が拡
大しており、現状フレーム11の塑造過程で環状フレー
ム11の構成要素である「ピン」が形成され、環状フレ
ームの淵を基板ときつい接触状態に保つように作用する
。使われるプラスチック材料は急速にせん孔21と頭の
部分22に流れ込み、現状フレーム21本体が固まると
き、その中で固まる。また、プラスチック材料と基板1
0とはそれらが接触する面で本来的な直接接着もする。
環状フレームの形は特に図1に表わされており、図2の
カバー板12は好ましくは環状フレームの周辺と同じ周
辺形をもっている。
カバー板12は好ましくは環状フレームの周辺と同じ周
辺形をもっている。
注目すべきは複数の電、イ萌(17,18,19゜20
が典型であるが)広がっており、環状フレームの側壁の
肉厚部分’15.16中に埋め込まれており、それによ
って電極はカバー板にじゃまされないことである。ある
定められた点で(必ずしも整列される必要はない)、電
極は基板10とカバー板12によって封止される環状フ
レーム11の内部容積内に入るように内側に曲げられる
。電極が内部容積に入る点は内部に入る回路に合わせて
ずらされる。
が典型であるが)広がっており、環状フレームの側壁の
肉厚部分’15.16中に埋め込まれており、それによ
って電極はカバー板にじゃまされないことである。ある
定められた点で(必ずしも整列される必要はない)、電
極は基板10とカバー板12によって封止される環状フ
レーム11の内部容積内に入るように内側に曲げられる
。電極が内部容積に入る点は内部に入る回路に合わせて
ずらされる。
示されるような電極の構成によって、(ガラス−金属封
止をしばしば破壊するタイプの)機械的破損に対する抵
抗力は先行技術の構成によって与えられるものよりはる
かに優っている。
止をしばしば破壊するタイプの)機械的破損に対する抵
抗力は先行技術の構成によって与えられるものよりはる
かに優っている。
外部へ伸びている典型的な電極の端が図6の18a、
2Qaに見られる。基板10に環状フレーム11を塑造
することに加えて、前述の電極は同じ塑造過程中に正し
い位置にモールドされる。更に、4つのネジ差込み(1
4)が環状フレーム自体に塑造され、外部放熱器から底
部10aを通じこれらの差込みへネジ止めすることによ
って完全に組立てへ結合される。せん孔21はこのよう
なネジに対し、渦動程な空間を与える。
2Qaに見られる。基板10に環状フレーム11を塑造
することに加えて、前述の電極は同じ塑造過程中に正し
い位置にモールドされる。更に、4つのネジ差込み(1
4)が環状フレーム自体に塑造され、外部放熱器から底
部10aを通じこれらの差込みへネジ止めすることによ
って完全に組立てへ結合される。せん孔21はこのよう
なネジに対し、渦動程な空間を与える。
環状フレーム11とカバー板12の好ましい材料は、一
般に°γモルファスポリマに分類されるポリアミド−イ
ミドサーモプラスチックである。このような材料はアモ
フ化学株式会社の登録商標名「トーロン」が利用でき、
注入塑造に対して理想的である。30%のグラスファイ
バと1%のFT?E(ポリテトラフルオロエチレン)を
もつトーロン5030という標準グレードの製品が利用
できる。固まったときトーロンはたいへん強く、600
ボルト/ミリメートルのオーダーの絶縁の強゛さと、少
なくとも1.2X1017オーム・センチメートルの体
積抵抗をもつ。1.J、に有利な本発明の1つの用途は
100oボルトまでの電圧で働くハイフリット回路と関
連している。グラスファイバの添加は銅の基板10と向
がい合っている環状フレームの膨張係数の釣り合いを改
晋する。
般に°γモルファスポリマに分類されるポリアミド−イ
ミドサーモプラスチックである。このような材料はアモ
フ化学株式会社の登録商標名「トーロン」が利用でき、
注入塑造に対して理想的である。30%のグラスファイ
バと1%のFT?E(ポリテトラフルオロエチレン)を
もつトーロン5030という標準グレードの製品が利用
できる。固まったときトーロンはたいへん強く、600
ボルト/ミリメートルのオーダーの絶縁の強゛さと、少
なくとも1.2X1017オーム・センチメートルの体
積抵抗をもつ。1.J、に有利な本発明の1つの用途は
100oボルトまでの電圧で働くハイフリット回路と関
連している。グラスファイバの添加は銅の基板10と向
がい合っている環状フレームの膨張係数の釣り合いを改
晋する。
接触面13での環状フレーム11の端表面とトーロン力
バー板12の適合する部分のメタライズはメッキ、スパ
ッタリング、連続焼きを行う塗料、その他の慣用的過程
でなされる。)−oン拐料はよくメタライズに適合し、
面16での気密封止のために予しめハンダが挿入され誘
導過熱その他の慣用的手段で過熱される。
バー板12の適合する部分のメタライズはメッキ、スパ
ッタリング、連続焼きを行う塗料、その他の慣用的過程
でなされる。)−oン拐料はよくメタライズに適合し、
面16での気密封止のために予しめハンダが挿入され誘
導過熱その他の慣用的手段で過熱される。
注入塑造過程に要求される道具は塑造中に電極を正しい
位置に保持することを含めて周知の技法で与えられる。
位置に保持することを含めて周知の技法で与えられる。
電極は一般に銅であり、トーロン塑造との接着は通常用
いられている金メッキによってより強くなる。
いられている金メッキによってより強くなる。
本発明の典型的なパッケージの物理サイズの概念を与え
る寸法は次のとおりである。
る寸法は次のとおりである。
寸法 センチメートル
a 12.19
b 3.05
a O,18
a 1.02
0.51
f 所望による
g O,23
h O,18
j O,51
k 制約による
寸法Xに影響する制約は半導体要素の高さ、電圧要件、
ハイブリットとのボンディング装置の届く能力を含んで
いる。
ハイブリットとのボンディング装置の届く能力を含んで
いる。
この寸法は4つの0.635X0.635七ンチメート
ル(0,25xO,25インチ)半導体チップに連続的
に40ワツトの熱を放散させるのに適応される。発生し
た熱は基板10とチップとの熱的接触によって取除かれ
、基板10から外の放熱器へ放出される。
ル(0,25xO,25インチ)半導体チップに連続的
に40ワツトの熱を放散させるのに適応される。発生し
た熱は基板10とチップとの熱的接触によって取除かれ
、基板10から外の放熱器へ放出される。
図6は図2と同じ構造であり、90’TF4J転した方
から見たものである。トーロン力バー板12はふつうQ
、5 c mの厚さである。環状フレームの壁厚は具体
化で異なるが、比較的薄い部分でも適当な強度と不変性
を与えることができる。トーロン材料は27000のオ
ーダーの温度で状態変化する。
から見たものである。トーロン力バー板12はふつうQ
、5 c mの厚さである。環状フレームの壁厚は具体
化で異なるが、比較的薄い部分でも適当な強度と不変性
を与えることができる。トーロン材料は27000のオ
ーダーの温度で状態変化する。
更に、それは核や紫外線の放射に耐え、フレームレター
ダンシーに対して94V−0(li者の研究所の評価で
)と評価され、硬化の後では外の気体と無縁である。封
を開けられたとき、それは実質的に化学的寸法的変化を
起こさずに21°0で重量比で最大0.22%の水を吸
収し、放出する。
ダンシーに対して94V−0(li者の研究所の評価で
)と評価され、硬化の後では外の気体と無縁である。封
を開けられたとき、それは実質的に化学的寸法的変化を
起こさずに21°0で重量比で最大0.22%の水を吸
収し、放出する。
トーロン材料は金属の優秀な代用品であり、優秀な強度
その他の特性を与える。本発明によれば組立て物の全重
量は最も軽い構造の金属で精巧に作ったパッケージの半
分のオーダーである。そしてそれはコバルト、鉄を含む
金属、セラミック手段と比較してはるかに軽い。
その他の特性を与える。本発明によれば組立て物の全重
量は最も軽い構造の金属で精巧に作ったパッケージの半
分のオーダーである。そしてそれはコバルト、鉄を含む
金属、セラミック手段と比較してはるかに軽い。
前述のことから明らかなことは製造コストが同じ目的の
ための慣用的先行技術のパッケージよりはるかに安いこ
とである。これは環状フレームと基板との結合、電極の
埋め込みが1行程の塑造過程でなされるからである。
ための慣用的先行技術のパッケージよりはるかに安いこ
とである。これは環状フレームと基板との結合、電極の
埋め込みが1行程の塑造過程でなされるからである。
もう一度強調したいことは、埋め込まれた電極構造はね
じりや他の機械的圧力や振動や熱的ショックに対して大
いに抵抗性をもつことである。これらの影豐は先行技術
の気密封止に破損を起こすことのできるものである。
じりや他の機械的圧力や振動や熱的ショックに対して大
いに抵抗性をもつことである。これらの影豐は先行技術
の気密封止に破損を起こすことのできるものである。
比較的安いコストと他の利点という点で、本発明は航空
システム、電気自動車、工業設備、船舶エレクトロニク
ス、太陽電池アレイ、人工衛星や他の宇宙船という広い
分野での使用に応用される。
システム、電気自動車、工業設備、船舶エレクトロニク
ス、太陽電池アレイ、人工衛星や他の宇宙船という広い
分野での使用に応用される。
第1図は本発明の一実施例であり、基板と環状フレーム
が結合され、カバー板がされていないパッケージの平面
図である。 第2図はカバー板をされた第1図のパッケージの側面図
である。 第6図は第2図のパッケージのIIjr面図である。 10・・基 板 11・・環状フレーム12・
・カバー板 14・・差込み15.16・・環状
フレームの肉厚部 17、18.19.20・・電極 21・・せん孔 22・・せん孔頭部 FIG、I FIG、2 FIG、 3
が結合され、カバー板がされていないパッケージの平面
図である。 第2図はカバー板をされた第1図のパッケージの側面図
である。 第6図は第2図のパッケージのIIjr面図である。 10・・基 板 11・・環状フレーム12・
・カバー板 14・・差込み15.16・・環状
フレームの肉厚部 17、18.19.20・・電極 21・・せん孔 22・・せん孔頭部 FIG、I FIG、2 FIG、 3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)第1の表面に沿って熱的接触の状態で少なくとも
1つの電子要素がマウントされ、外部放熱器の表面と熱
的接触の状態でマウントされるように作られた第2の表
面(10a)をもつ熱伝導基板(10)と、 第1の端表面の周囲で前記基板の第1の表面と接着され
るように塑造され、側面(15)には少なくとも1つの
電極(17)がモールドされている絶縁塑造材料から成
る環状フレーム(11)と、前記環状フレームの第2の
端表面(16)に封止される紙状プラスチック材料によ
るカバー板(12)とから成り、 前記第2の環状フレームの端表面と前記カバー板の対応
する領域とはメタライズされ、前記メタライズされた環
状フレームの端表面とメタライズされたカバー板領域は
互いにハンダ付けされるところの気密封止されたソリッ
ドステート電子パッケージ。 Q)前記プラスチック環状フレームはアモルファスポリ
マポリアミド−イミド材料から成ることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のパッケージ。 (6)前記基板は銅又はアルミニウムからなることを特
徴とする特#)請求の範囲第2項記載のパッケージ。 4)前記基板は前記環状フレームの前記第1の端表面と
対向するところに複数のせん孔(21)を含み、前記環
状フレームは前記基板に対して前記環状フレームを結合
するための部品として前記せん孔へ伸びている前記環状
フレームの構成要素である前記サーモプラスチックのビ
ンを含むことを特徴とする特F11’請求の範囲第2項
又は第6項記載のパッケージ。 6)前記環状フレームの前記ポリアミド−イミド拐料は
約60%のグラスファイバと1%のFTFII!で作ら
れていることを特徴とする特許請求の範囲第2又は第3
又は第4項記載のパッケージ。 (6)前記せん孔の少なくともいくつかは前記基板の第
2の表面付近で拡大した直径部分(22)をもち、前記
ピンは前記環状フレームの前記基板の第1の表面に結合
するための前記基板の第2の表面付近にせん孔と釣り合
った拡大した端部をもつことを特徴とする特許請求の範
囲第4項記載のパッケージ。 q)前記電極はL型の導体であり、前記り型の第1の足
は前記環状フレームの壁厚内に外部接続点から前記現状
フレームのある点まで広がっており、前記ある点で前記
電極は前記環状フレーム内の内部容積の方へ前記り型の
第2の足を形成するように曲げられることを特徴とする
特許請求の範囲第1項ないし第6項記載のパッケージ。 (8)前記環状フレームの側壁は前記電極をとり囲む前
記カバー板を越えて横方向外側へ厚さが増しており、そ
れによって前記電極の第1の足は前記カバー板に関し横
方向外側を通ることを特徴とする特許請求の範囲第7項
記載のパッケージ。 Q)前記環状フレームとカバー板の前記メタライズされ
た部分はハンダののせられた銅の領域であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項ないし第8項記載のパッケ
ージ。
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