JPS595623B2 - ４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンの製造法 - Google Patents
４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンの製造法Info
- Publication number
- JPS595623B2 JPS595623B2 JP12968482A JP12968482A JPS595623B2 JP S595623 B2 JPS595623 B2 JP S595623B2 JP 12968482 A JP12968482 A JP 12968482A JP 12968482 A JP12968482 A JP 12968482A JP S595623 B2 JPS595623 B2 JP S595623B2
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- hydroxyquinophthalone
- bromo
- hydroxy
- condensation reaction
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はテトラメチレンスルホンを反応溶媒とする４−
ブロムー３−ヒドロキシキノフタロン化合物類の製造法
に関する。
ブロムー３−ヒドロキシキノフタロン化合物類の製造法
に関する。
さらに詳しくは、３−ヒドロキシー２−メチルシンコニ
ン酸と、無水フタール酸とを、テトラメ 。
ン酸と、無水フタール酸とを、テトラメ 。
チレンスルホンの存在下に縮合反応を行い、得られた３
−ヒドロキシキノフタロンを分離することなく、引続き
臭素化反応を行い、式田 □工゛（！゜・・・ で示される４−ブロムー３−ヒドロキシキノフタロン、
で示される４−ブロムー３−ヒドロキシキノフタロンの
製造法に関する。
−ヒドロキシキノフタロンを分離することなく、引続き
臭素化反応を行い、式田 □工゛（！゜・・・ で示される４−ブロムー３−ヒドロキシキノフタロン、
で示される４−ブロムー３−ヒドロキシキノフタロンの
製造法に関する。
本発明方法において、式（Ｉ）で示される４−ブロムー
３−ヒドロキシキノフタロン、はナイロン、ポリエステ
ル、セルローズアセテート、ポリオレフィン、ポリウレ
タンなどのような各種繊維の染色並びにポリスチレン（
ＰＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレンの共重合物（
ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン
共重合物（ＡＢＳ樹脂）ポリオレフィン樹脂、ポリ塩化
ビニール樹脂およびポリアミド樹脂等の着色にきわめて
有用な公知化合物である。
３−ヒドロキシキノフタロン、はナイロン、ポリエステ
ル、セルローズアセテート、ポリオレフィン、ポリウレ
タンなどのような各種繊維の染色並びにポリスチレン（
ＰＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレンの共重合物（
ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン
共重合物（ＡＢＳ樹脂）ポリオレフィン樹脂、ポリ塩化
ビニール樹脂およびポリアミド樹脂等の着色にきわめて
有用な公知化合物である。
これからの化合物は、一般に３−ヒドロキシー２−メチ
ルキノリンまたは、３−ヒドロキシー２−メチルシンコ
ニン酸と無水フタール酸の縮合反応を行い、得られた３
−ヒドロキシキノフタロンを単離して、これを臭素化反
応に付して式（１）の化合物が得られている。
ルキノリンまたは、３−ヒドロキシー２−メチルシンコ
ニン酸と無水フタール酸の縮合反応を行い、得られた３
−ヒドロキシキノフタロンを単離して、これを臭素化反
応に付して式（１）の化合物が得られている。
縮合反応に３−ヒドロキシー２−メチルキノリンを用い
て、縮合反応物を得る方法はたとえば米国特許第２００
６０２２号に３−ヒドロキシー２メチルキノリンと無水
フタル酸とを縮合し、３−ヒドロキシキノフタロンを製
造することが開示されているが、この方法は溶融状態で
縮合反応が起こるが、反応終了後、水へ排出する際、冷
却により溶融状の反応物が大きな固まりを生じかきまぜ
が困難となり、また縮合反応に３−ヒドロキシー２−メ
チルシンコニン酸と０−ジカルボン酸の無水物たとえば
無水フタル酸との反応を０−ジクロルベンゼン、トリク
ロルベンゼンおよびニトロベンゼンのような各種不活性
溶媒を用いて縮合させる方法（米国特許第３０２３２１
３号、同第３０２３２１４号）も提示されているが、こ
れらの方法でも反応終了後固まりを生じかきまぜ困難と
なり縮合反応塊状物をあらたな有機溶媒を用いて精製す
る必要があり、また縮合反応物をこのままさらに反応さ
せることは困難であつた。
て、縮合反応物を得る方法はたとえば米国特許第２００
６０２２号に３−ヒドロキシー２メチルキノリンと無水
フタル酸とを縮合し、３−ヒドロキシキノフタロンを製
造することが開示されているが、この方法は溶融状態で
縮合反応が起こるが、反応終了後、水へ排出する際、冷
却により溶融状の反応物が大きな固まりを生じかきまぜ
が困難となり、また縮合反応に３−ヒドロキシー２−メ
チルシンコニン酸と０−ジカルボン酸の無水物たとえば
無水フタル酸との反応を０−ジクロルベンゼン、トリク
ロルベンゼンおよびニトロベンゼンのような各種不活性
溶媒を用いて縮合させる方法（米国特許第３０２３２１
３号、同第３０２３２１４号）も提示されているが、こ
れらの方法でも反応終了後固まりを生じかきまぜ困難と
なり縮合反応塊状物をあらたな有機溶媒を用いて精製す
る必要があり、また縮合反応物をこのままさらに反応さ
せることは困難であつた。
このため３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸とア
リールポリカルボン酸無水物、例えば無水トリメリツト
酸や無水フタル酸を縮合する際にＮ−アルキルピロリド
ンを縮合反応時の溶媒に用い反応終了後反応物を低級ア
ルコールで処理して分離する方法も特開昭４８−５６７
２２に開示されている。この方法は縮合反応時のカキマ
ゼ困難を軽減することはできるが、縮合反応時の反応が
遅く、また長時間反応させても収率が低い欠点があつた
。このように公知方法では、縮合反応物３−ヒドロキシ
キノフタロン、及び製造法において、満足できる方法は
得られなかつた。さらに３−ヒドロキシキノフタロンの
臭素化反応、において不活性の溶媒を選択使用して式（
１）、の化合物への反応が実施されていた。本発明は高
純度の４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンを工業
的にきわめて有利に製造する方法を提供するものであり
、３−ヒドロキシキノフタロン製造時に用いた溶媒をそ
のま＼使用して、引続き、式（１）、の化合物への製造
を実施するものである。
リールポリカルボン酸無水物、例えば無水トリメリツト
酸や無水フタル酸を縮合する際にＮ−アルキルピロリド
ンを縮合反応時の溶媒に用い反応終了後反応物を低級ア
ルコールで処理して分離する方法も特開昭４８−５６７
２２に開示されている。この方法は縮合反応時のカキマ
ゼ困難を軽減することはできるが、縮合反応時の反応が
遅く、また長時間反応させても収率が低い欠点があつた
。このように公知方法では、縮合反応物３−ヒドロキシ
キノフタロン、及び製造法において、満足できる方法は
得られなかつた。さらに３−ヒドロキシキノフタロンの
臭素化反応、において不活性の溶媒を選択使用して式（
１）、の化合物への反応が実施されていた。本発明は高
純度の４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンを工業
的にきわめて有利に製造する方法を提供するものであり
、３−ヒドロキシキノフタロン製造時に用いた溶媒をそ
のま＼使用して、引続き、式（１）、の化合物への製造
を実施するものである。
次に本発明方法の実施の態様を説明する。
縮合反応時の溶媒としてテトラメチレンスルホンの存在
下で３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸１モルに
対し、無水フタール酸、を０．５〜３モル比使用し、溶
媒のテトラメチレンスルホンは３−ヒドロキシ−２−メ
チルシンコニン酸、１モル当り４〜１０モル量使用する
。さらに必要に応じニトロベンゼン、トリクロルベンゼ
ン、ｏ−ジクロルベンゼン、ｏ−ニトロトルエン、クロ
ルナフタリン、テトラヒドロナフタリン等の不活性溶媒
を縮合反応時または縮合反応後に併用することも可能で
ある。縮合反応においては出発物質をかきまぜ装置付き
の反応機に入れ、１７５〜２２０℃の温度で縮合すると
１〜１２時間で反応が完結する。
下で３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸１モルに
対し、無水フタール酸、を０．５〜３モル比使用し、溶
媒のテトラメチレンスルホンは３−ヒドロキシ−２−メ
チルシンコニン酸、１モル当り４〜１０モル量使用する
。さらに必要に応じニトロベンゼン、トリクロルベンゼ
ン、ｏ−ジクロルベンゼン、ｏ−ニトロトルエン、クロ
ルナフタリン、テトラヒドロナフタリン等の不活性溶媒
を縮合反応時または縮合反応後に併用することも可能で
ある。縮合反応においては出発物質をかきまぜ装置付き
の反応機に入れ、１７５〜２２０℃の温度で縮合すると
１〜１２時間で反応が完結する。
反応にきわめて好ましい温度は２００〜２０５℃で、反
応中生成した水は冷却器から反応系外に留出させる分離
する。縮合反応終了後は得られた反応液は８０〜１５０
℃に冷却し、引続き、式（１）の化合物を得るため臭素
化反応。
応中生成した水は冷却器から反応系外に留出させる分離
する。縮合反応終了後は得られた反応液は８０〜１５０
℃に冷却し、引続き、式（１）の化合物を得るため臭素
化反応。
臭素化反応は、８０〜１２０℃で１．０〜２．０モル比
／３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸、の臭素を
徐々に加えた後、同温度で１〜５時間保温する。
／３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸、の臭素を
徐々に加えた後、同温度で１〜５時間保温する。
反応終了後反応混合物にメタノールもしくは水を加え、
析出した結晶を済過、水洗、乾燥すれば高純度の４−ブ
ロム３−ヒドロキシキノフタロンが高収率で得られる。
このようにして得られた式（１）、の化合物を分離後、
済液から、アルコールおよびテトラメチレンスルホンを
回収すれば、ほとんど廃液を外部放出することなく製造
しうるので、水質汚染問題を生じることはない。
析出した結晶を済過、水洗、乾燥すれば高純度の４−ブ
ロム３−ヒドロキシキノフタロンが高収率で得られる。
このようにして得られた式（１）、の化合物を分離後、
済液から、アルコールおよびテトラメチレンスルホンを
回収すれば、ほとんど廃液を外部放出することなく製造
しうるので、水質汚染問題を生じることはない。
また本発明方法で得られる式（１）、の化合物は、高純
度で得ることができるのでなんら精製する必要もく、樹
脂着色材料として用いれば、きわめて鮮明に着色できる
。以下実施例を示す。
度で得ることができるのでなんら精製する必要もく、樹
脂着色材料として用いれば、きわめて鮮明に着色できる
。以下実施例を示す。
実施例 １
反応機に３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸１５
ｆ１１無水フタール酸２２ｆ！およびテトラメチレンス
ルホン４５９を入れ２００℃まで徐々に昇温し、３時間
この温度で攪拌しながら保つた。
ｆ１１無水フタール酸２２ｆ！およびテトラメチレンス
ルホン４５９を入れ２００℃まで徐々に昇温し、３時間
この温度で攪拌しながら保つた。
その間昇温および保温時に生成した水は冷却器から反応
系外に留出させ分離した。縮合反応終了後、反応液を１
２０℃まで冷却し、懸濁状になつた反応液に臭素１３．
３９を徐々に加え、同温度で２時間保温した。
系外に留出させ分離した。縮合反応終了後、反応液を１
２０℃まで冷却し、懸濁状になつた反応液に臭素１３．
３９を徐々に加え、同温度で２時間保温した。
８０％メタノール水５０ＴＩＬＩを加え、６５〜７０℃
でかきまぜた後、室温で淵過、水洗、乾燥し、ダイダイ
色粉末２６．１９（収率；９６％対３−ヒドロキシ−２
−メチルシンコニン酸）を得た。
でかきまぜた後、室温で淵過、水洗、乾燥し、ダイダイ
色粉末２６．１９（収率；９６％対３−ヒドロキシ−２
−メチルシンコニン酸）を得た。
ＭＰ．２２５〜２３０℃、臭素含有量２０．５％（理論
臭素含有量；２１．７％）。
臭素含有量；２１．７％）。
Claims (1)
- １ ３−ヒドロキシ−２−メチルシンコニン酸と、無水
フタール酸とを、テトラメチレンスルホンの存在下に縮
合反応を行い、得られた３−ヒドロキシキノフタロンを
分離することなく、引続き臭素化反応を行うことを特徴
とする式（ I ）▲数式、化学式、表等があります▼（
I ）で示される４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタ
ロンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12968482A JPS595623B2 (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | ４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12968482A JPS595623B2 (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | ４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンの製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8844277A Division JPS597736B2 (ja) | 1977-07-25 | 1977-07-25 | キノフタロン化合物の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17434783A Division JPS59108769A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | ３−ヒドロキシキノフタロン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5859971A JPS5859971A (ja) | 1983-04-09 |
| JPS595623B2 true JPS595623B2 (ja) | 1984-02-06 |
Family
ID=15015616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12968482A Expired JPS595623B2 (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | ４−ブロム−３−ヒドロキシキノフタロンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595623B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111138356A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-05-12 | 南京金浩医药科技有限公司 | 一种分散黄64的制备方法 |
-
1982
- 1982-07-27 JP JP12968482A patent/JPS595623B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111138356A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-05-12 | 南京金浩医药科技有限公司 | 一种分散黄64的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5859971A (ja) | 1983-04-09 |
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